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edi ultrapure water system
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化学物質を含まない研究室運営のためのミニコンパクト電気脱イオン EDI システム
ラボ用超純水ユニット用のミニ EDI 電気脱イオンシステム。薬品を使用しない連続運転により、安定した15～18.2MΩ・cmの水を生成します。コンパクトな設計、メンテナンスの手間がかからず、最大 95% の高い回収率。製薬、半導体、実験室の用途に最適です。
スキッド搭載 コンパクト超純水浄化器 15-18.25MΩ·cm 抵抗性 EDI 連続デイオニゼーション 新エネルギーバッテリー
新エネルギー電池製造用のスキッドマウント式小型超純水装置。前処理 + 2 段階 RO + EDI プロセスを備え、15 ～ 18.25MΩ*cm の電子グレードの水を生成します。コンパクトなプラグアンドプレイ設計、化学薬品を使用しない EDI 操作、PLC 自動制御、およびモジュール拡張機能。
316L ステンレス鋼 衛生用超純水用薬剤類容器
医薬品超純水用の 316L ステンレス鋼混床容器。耐食性があり、内壁が滑らかで、デッドコーナーがないサニタリーグレードです。混合樹脂により微量の塩や不純物を除去し、15～18.2 MΩ*cmの抵抗率を実現します。カスタマイズ可能な流量 0.5 ～ 30m3/h、1 年間の保証、輸出用パッケージ。
半導体グレードの超高純度用スタック膜電気脱イオン EDI システム
高抵抗スタック EDI システムは、半導体製造用に最大 18.2 MΩ・cm の超純水を生成します。化学物質を使用しない連続再生、最大 95% の水回収、およびメンテナンスの必要性が低い安定した動作が特徴です。高水準の工業用超純水プロジェクトに最適です。
18.2 メゴム・EDI 水処理システム 化学薬品のない再生
高抵抗スタック EDI システムは、半導体製造用に最大 18.2 MΩ・cm の超純水を生成します。化学薬品を使用しない連続再生、コンパクトなスタック設計、完全自動操作、および低メンテナンスが特徴です。最大95%の回収率で安定した水質を実現します。
工業用高純度電極電離化EDIシステム 18.2 メゴム抵抗力
工業用高純度EDIシステムは、薬品を使用しない連続再生により超純水（18.2MΩ・cm）を生成します。高い回収率 (最大 95%)、低メンテナンス、自動制御が特徴です。環境に優しい操作により、製薬、発電所、電子産業に最適です。
モジュール式アセンブリ設計の食品グレード SUS304 パネル型水槽
食品グレードの SUS304 素材を使用した 304 ステンレス鋼の角形貯水タンク、柔軟なカスタマイズ (1 ～ 2000m3) のためのモジュール式アセンブリ、漏れのない設計、30 年以上の耐用年数。 RO/EDI システム、ホテル、工場、地方の飲料水プロジェクトと互換性があります。 ISO9001認証取得、2年間保証付き。
工業用大流水高純度水システム 18.25MΩ·Cm 電子チップ清掃用
半導体工場および電子チップ製造用の工業用大流量超純水システム。 2段階RO+EDI+研磨混床プロセスにより、TOC ≤1ppbの18.25MΩ*cmの超純水を生成します。カスタマイズ可能な流量10〜100m3/h、PLC自動制御、24時間連続運転。ウェーハ洗浄、エッチング、チップ製造に関する SEMI/ASTM 規格に準拠しています。
316L 超清潔な衛生用貯蔵のための無毒不毛鋼水タンク
SUS316L素材に鏡面研磨（Ra≦0.8μm）、シームレス溶接、無菌設計を施した超純水貯留用316L無菌ステンレス水槽です。オンライン CIP 洗浄、カスタム容量 (0.5 ～ 100m3) をサポートし、半導体、製薬、新エネルギー用途の GMP/USP 規格に適合します。
