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industrial ro system
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EDI統合深層水淡水化装置高純度超純出力環境に優しい操作
EDI一体型深水淡水化装置は、2段階RO+EDIにより電子機器製造用の15～18.25MΩ*cmの超純水を生成します。 45% の回収率、99.5% の塩除去率、PLC 自動化、化学薬品を使用しない操作、コンパクトなスキッド設計、および 2 年間の保証が特徴です。半導体、PCB、精密電子機器に最適です。
混合床研磨超純水装置 18.25MΩ·cm 比抵抗自動再生 GMP 標準
RO 後の混合床研磨超純水装置は、15 ～ 18.25MΩ*cm の抵抗率を実現し、微量イオン/シリカ/ホウ素を除去し、自動/手動再生、GMP 規格、半導体/製薬/電池産業向けの 0.25 ～ 200m3/h のカスタマイズ可能な流量を備えています。
爆発防止鉱山水淡化装置 塩排出率 地下鉱物の可変容量
鉱山の地下水淡水化装置は、99% 以上の塩除去率で逆浸透により無機塩を除去します。防爆設計、カスタマイズ可能な容量 (1000 ～ 50000L/日)、濁った鉱山水の多段階前処理が特徴です。安全基準を満たしながら、採掘作業での水の再利用を可能にします。
食品グレードの衛生水脱塩システム PLC 自動制御ステンレス鋼 304 316 構造
304/316 ステンレス鋼構造、PLC 自動制御、および 99% 以上の塩除去率を備えた食品グレードの RO 脱塩装置。飲料の希釈、シロップの混合、食品加工用のカスタマイズ可能な容量 (1000 ～ 50000 L/日)。前処理フィルターと UV 滅菌オプションが含まれます。
ステンレス鋼 304 のスイミング プールの浄水装置高性能濁り除去システム
藻類や濁りを除去するプール循環水浄化装置。 PLC自動制御、ステンレス鋼構造、マルチメディアろ過を備えています。自動逆洗機能を備えた透き通った水を提供し、耐食性を備え、メンテナンスコストを削減します。
流量制御水浄化システム ステンレス鋼 オフィスビル向け自動制御
オフィスビル向けの深層水道水浄化装置は、塩素、臭気、沈殿物、有機物を除去します。マルチメディアろ過、自動操作、304 ステンレス鋼構造、最大 50T/H の大流量が特徴です。専門的なアフターサポートを備えた商業ビルに安全な飲料水を提供します。
半導体グレードの超高純度用スタック膜電気脱イオン EDI システム
高抵抗スタック EDI システムは、半導体製造用に最大 18.2 MΩ・cm の超純水を生成します。化学物質を使用しない連続再生、最大 95% の水回収、およびメンテナンスの必要性が低い安定した動作が特徴です。高水準の工業用超純水プロジェクトに最適です。
連続水供給のためのデュプレックスイオン交換装置
二相混合床イオン交換器は、二槽交互運転により大規模工場への24時間連続給水を可能にします。インテリジェントな PLC 制御、高効率の深層脱塩、安定した大流量出力、および産業用耐久性のある構造が特徴です。製造工場や工業団地での途切れのない高純度水に最適です。
18.2 メゴム・EDI 水処理システム 化学薬品のない再生
高抵抗スタック EDI システムは、半導体製造用に最大 18.2 MΩ・cm の超純水を生成します。化学薬品を使用しない連続再生、コンパクトなスタック設計、完全自動操作、および低メンテナンスが特徴です。最大95%の回収率で安定した水質を実現します。
