18,2 Megaohm EDI-Wasseraufbereitungssystem mit chemikalienfreier Regeneration
18.2 Megohm EDI-Wasseraufbereitungssystem
,chemisch freies Regenerationssystem
,Modul mit hoher Widerstandsfähigkeit
Bei diesem EDI-System mit hochohmigem Stapel handelt es sich um eine fortschrittliche Wasseraufbereitungsanlage, die speziell für die Halbleiterfertigung, die Chipproduktion, fotoelektrische Panels und die hochpräzise elektronische industrielle Reinstwasseraufbereitung entwickelt wurde. Die Halbleiterproduktion erfordert hochreines Prozesswasser mit extrem niedrigem Ionengehalt, TOC und Restverunreinigungen, die mit der herkömmlichen einstufigen Wasseraufbereitung nicht erreicht werden können.
Dieses System nutzt die gestapelte EDI-Membranstapeltechnologie in Kombination mit elektrischen Entsalzungs- und Ionenaustausch-Reinigungsprinzipien und ermöglicht eine tiefe, kontinuierliche Entfernung von Spurenionen im Wasser. Es erzeugt konstant hochreines Wasser mit hohem Widerstand und ersetzt damit herkömmliche Ionenaustauschgeräte zur chemischen Regeneration vollständig. Das System zeichnet sich durch keine chemische Verschmutzung, einen vollautomatischen Betrieb und eine stabile Wasserqualität aus, was es zu einer unverzichtbaren Kernausrüstung für Projekte zur Reinstwasseraufbereitung in der Halbleiterindustrie macht.
Vorbehandeltes RO-Reinwasser gelangt in den hochpräzisen EDI-Membranstapel. Unter einem stabilen elektrischen Gleichstromfeld wandern restliche Anionen und Kationen im Wasser gezielt durch selektive Ionenaustauschmembranen und werden schließlich in der Kammer für konzentriertes Wasser konzentriert und entladen.
Das interne Ionenaustauscherharz adsorbiert effizient Spurenverunreinigungen und sorgt gleichzeitig für eine kontinuierliche automatische elektrische Regeneration durch Wasserelektrolyse, sodass keine chemische Regeneration mit Säuren und Laugen erforderlich ist. Das System entfernt kontinuierlich Spurensalze, Schwermetallionen und organische Substanzen und verbessert so kontinuierlich die hohe Wasserbeständigkeit.
Mit intelligenter elektrischer Steuerung und Wasserqualitätsüberwachung sorgt die Anlage für langfristig stabile Tiefenentsalzungseffekte und erfüllt den kontinuierlichen Bedarf an Reinstwasserversorgung für die Halbleiterproduktion.
| Anwendbare Szenarien | Herstellung von Halbleiterchips, elektronische Präzisionsverarbeitung, Industrie für fotoelektrische Panels, hochreine Wasserprojekte für Labore der Spitzenklasse |
| Behandlungsablauf | 0,5–50 m³/h (anpassbar für industrielle Produktionslinien) |
| Wasserwiderstand am Auslass | Stabil bei 15–18,2 MΩ*cm |
| Entsalzungsrate | ≥99,5 % |
| Kerntechnologie | Gestapelte elektrische EDI-Entsalzung + kontinuierliche elektrische Harzregeneration |
| Wasserbedarf am Einlass | RO-Umkehrosmose-gereinigtes Wasser |
| Betriebsmodus | Vollautomatischer, intelligenter Dauerbetrieb rund um die Uhr |
| Kontrollindex | Wasserwiderstand, TOC, Ionenkonzentration, Betriebsspannung und -strom |
- Reinstwasserversorgung für die Halbleiter- und Waferherstellung
- Chipätzung, Reinigung und präzise Prozesswasseraufbereitung
- LCD-Panel-, Photoelektrik- und Solarenergie-Industrie-Reinwasserprojekte
- Hochpräzise Wasseraufbereitung für die Herstellung elektronischer Komponenten
- Wissenschaftliche Forschungslabore und hochwertige industrielle Reinstwasseraufbereitung
Exportieren Sie standardmäßige begaste Holzkistenverpackungen, ausgestattet mit vollständigen Installationszeichnungen, Schaltplänen und professionellen Bedienungsanleitungen. Für Core EDI-Membranstapel, elektrische Steuerungssysteme und Überwachungssensoren gilt eine 1-jährige Garantie.
Wir bieten maßgeschneiderte Konfigurationslösungen für Durchfluss und Wasserqualität mit hohem Widerstand entsprechend den Anforderungen der Produktionslinie und bieten langfristigen technischen Fernsupport und Kundendienst für globale Halbleiter-Industriewasseraufbereitungsprojekte.
