Stack Membran Electrodeionization EDI System für Halbleiter mit Ultrareinheit
Stack Membran Electrodeionization EDI System für Halbleiter mit Ultrareinheit
Grundlegende Eigenschaften
Herkunftsort:
China Shannxi Xian
Markenbezeichnung:
QITONG
Immobilienhandel
Mindestbestellmenge:
1
Preis:
Price on request
Zahlungsbedingungen:
L/C,T/T,D/P
Produktübersicht
Das High Resistivity Stack EDI-System erzeugt hochreines Wasser mit bis zu 18,2 MΩ·cm für die Halbleiterfertigung. Bietet eine kontinuierliche Regeneration ohne Chemikalien, eine Wasserrückgewinnung von bis zu 95 % und einen stabilen Betrieb mit geringem Wartungsaufwand. Ideal für anspruchsvolle industrielle Reinstwasserprojekte.
Produktanpassungsattribute
Hervorheben
Stapelmembran-Elektrodeionisierungs-EDI-System
,hochreine Geräte in Halbleiterqualität
,Wasseraufbereitungssystem mit hohem Widerstand
Systemabmessungen:
Variiert je nach Kapazität, typischerweise modularer Aufbau für Skalierbarkeit
Betriebstemperaturbereich:
Typischerweise 5°C bis 45°C
Erholungsrate:
Bis zu 95 % Wasserrückgewinnung
Technologie:
Kombination von Ionenaustauscherharzen und ionenselektiven Membranen mit elektrischem Strom
Druckbereich:
0,1 bis 0,6 MPa
Speisewasserqualität:
Vorbehandeltes Wasser mit geringer Härte und organischen Stoffen
Funktion:
Kontinuierliche Entfernung ionisierter und ionisierbarer Spezies aus Wasser
Wartungsbedarf:
Geringer Wartungsaufwand, regelmäßiger Harzaustausch empfohlen
Regeneration:
Chemiefreie Dauerregeneration mit elektrischem Strom
Reinheitsgrad:
Erzeugt Reinstwasser mit einem spezifischen Widerstand von bis zu 18,2 MΩ·cm
Durchflussrate:
Variiert je nach Modell, üblicherweise zwischen 1 und 100 m³/h
Betriebsspannung:
Typischerweise 10-30 Volt
Produktname:
Elektroentionisierungssystem (EDI).
Produkt-Beschreibung
Detailed Specifications & Features
EDI-System mit hoher Widerstandsfähigkeit für die Halbleiter-Ultrareinwasserproduktion
Produktübersicht
Das High Resistivity Stack EDI System ist eine professionelle hochwertige Elektro-Ionisierungs-Wasserreinigungsanlage, die speziell für die Halbleiterherstellung entwickelt wurde.elektronische PräzisionsverarbeitungIm Gegensatz zu herkömmlichen EDI-Geräten für die Industrie, ist es wichtig, dass dieDiese gestapelte EDI-Einheit konzentriert sich auf Ultra-hohe Widerstandsfähigkeit Wasser-Ausgabe und Ultra-Spur-Verunreinigungen Entfernung, die den strengen Anforderungen an die Wasserqualität für Wafer-Essereien, Chipreinigung, Leiterplattenproduktion und Präzisions-elektronische Verarbeitung perfekt entspricht.
Herkömmliche Wasseraufbereitungsanlagen können Spuren von Kieselsäure, Bor und ultra-niedrigen Konzentrations-Ionen nicht wirksam entfernen, was leicht zu Defekten in elektronischen Produkten führen kann.Durch die Einführung einer modernisierten Struktur von gestapelten Membranstapeln und einer hochpräzisen elektrischen EntsalzungstechnologieDieses System ermöglicht eine tiefe und stabile Reinigung ohne chemische Regeneration und kann über längere Zeit stetig 18,2 MΩ·cm hochresistives ultrareines Wasser liefern.Damit ist es die wichtigste Unterstützungsausrüstung für hochwertige elektronische industrielle Wasseraufbereitungssysteme.
Arbeitsprinzip
Das qualifizierte zweistufige vorbehandelte RO-Wasser gelangt gleichmäßig in den hochdichten, gestapelten EDI-Membranstapel.Das hochreine interne Ionenwechselharz adsorbiert Rückstände von Spurenanionen raschDurch die selektive Permeation von Ionenwechselmembranen wird das Wasser durch dieVerunreinigungs-Ionen wandern in Richtung und konzentrieren sich in den konzentrierten Wasserkanal zur automatischen Ableitung..
Das Harz vollendet die kontinuierliche elektrische Regeneration während des Betriebs ohne Säure- und Alkalichemikaliendosierung und vermeidet chemische Rückstände und sekundäre Wasserverschmutzung.Ausgestattet mit industriellen hochpräzisen Online-Widerstandsüberwachungssystemen und intelligenten PLC-Verbindungssystemen, passt die Ausrüstung Betriebsspannung, Strom und Wasserfluss automatisch anhand von Einlasswasseränderungen an.Dies gewährleistet, dass die Auslasswasserqualität nicht schwankt, und ermöglicht eine 24-stündige kontinuierliche und stabile Versorgung mit ultrareinem Halbleiterwasser.
Hauptvorteile
- Stabile Leistung mit hoher Widerstandsfähigkeit:Der verbesserte hochdichte, gestapelte Membranstapel entfernt effektiv Ultra-Spur-Ionen, Kieselsäure und TOC und hält die Wasserqualität mit hohem Widerstand von 15-18,2 MΩ·cm stabil.mit einer Breite von mehr als 20 mm,.
- Aufgestapelte hocheffiziente Struktur:Kompakte Schichten-Stapel-Konstruktion bietet eine hohe Wasserleistung pro Flächeinheit, eine hohe Entsalzungseffizienz und einen geringen Fußabdruck,Bequem für die integrierte Installation und System-Matching in elektronischen Werkstätten.
- 100% chemikalienfreier Betrieb:Automatische elektrische Harzregeneration während des gesamten Prozesses, kein Säure- und Alkaliverbrauch, keine chemische Abfallentladung, keine Verschmutzung,die Anforderungen an eine saubere Produktion von Hightech-Fabriken erfüllen.
- Ultra-niedrige UnreinheitsentfernungskapazitätWirksam entfernt Spuren von Bor, Kieselsäure und Mikropartikel, die nicht vollständig durch normale EDI-Geräte gefiltert werden können,Sicherstellung einer hohen Reinheit des Prozesswassers für die Produktion von Präzisionselektronik.
- Intelligente ständige Wasserqualitätskontrolle:Echtzeit-Online-Überwachung der Wasserwiderstandsfähigkeit und automatische Parameterkalibrierung, keine Absenkung der Wasserqualität nach langfristigem Betrieb mit voller Last, um einheitliche Produktionswasserstandards zu gewährleisten.
- Industriell langlebig und wartungsarm:Hochfester Anti-Aging-Membran-Stack und industrielle Antikorrosionsstruktur, geringe Ausfallrate, lange Lebensdauer, was die langfristigen Betriebs- und Wartungskosten erheblich reduziert.
Technische Parameter
| Anwendbare Szenarien | Produktion von Halbleiterwafern, Produktion von Chips, PCB-Produktion, Optoelektronik-Panelindustrie, Präzisions-elektronische Verarbeitung, hochwertige industrielle Projekte für ultrareines Wasser |
| Anpassbarer Wasserstrom | 00,5-50 m3/h |
| Unterstützung der Vorbehandlung | Zweistufige Umkehrosmose RO-System |
| Ausgangswasserwiderstand | 15-18,2 MΩ·cm (stabile Dauerleistung) |
| Endgültige Entsalzungsrate | ≥ 99,8% |
| TOC-Entfernungsrate | Hocheffiziente Entfernung von organischem Kohlenstoff |
| Betriebsmodus | 24-Stunden-Full-Automatik-Ununterbrochener Betrieb ohne Aufsicht |
| Kernstruktur | Hochdichte stapelte EDI-Membranen |
| Steuerungssystem | PLC-intelligente Verbindung + Online-Echtzeitüberwachung der Wasserqualität |
Anwendungsszenarien
- Ultrareinwasserversorgung für die Herstellung von Halbleiterwafern und -chips
- Wasser für die Präzisionsächtung, Reinigung und Beschichtung von elektronischen Bauteilen
- LCD- und OLED-Fotoelektrische Platten und Solarzellen zur Wasserbehandlung
- PCB-Leiterplatten, Industriewasser mit hoher Reinheit
- Hochtechnologischer Industriepark: Bau und Modernisierung eines standardisierten ultrareinen Wassersystems
Verpackung und Kundendienst
Export-Standard-Fumigations-Holzverpackung mit kompletten Installationszeichnungen, Verkabelungsdiagrammen und professionellen Bedienhandbüchern.und intelligente Steuerungssysteme genießen eine 1-JahresgarantieWir bieten personalisierte, maßgeschneiderte Fluss- und System-Matching-Lösungen nach verschiedenen elektronischen Produktionslinie-Standards,Unterstützung langfristiger technischer Fernunterstützung und weltweiter Kundendienst.
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