ประเภททั้งหมด
ultrapure water purification system
20 Items Found
เครื่องประกอบน้ําอัลตราบริสุทธิ์ Anti Corrosion Electroplating Double Stage RO EDI Deionization ความจุตามสั่ง 0.5-50m3/h
อุปกรณ์น้ำบริสุทธิ์พิเศษทางอุตสาหกรรมที่ป้องกันการกัดกร่อนเต็มรูปแบบสำหรับโรงชุบโลหะด้วยไฟฟ้า นำเสนอการกำจัดไอออน RO + EDI สองขั้นตอน ขจัดไอออนคลอไรด์/โลหะหนัก ความจุ 0.5-50 ลบ.ม./ชม. การออกแบบป้องกันสนิมปรับให้เข้ากับสภาพแวดล้อมที่มีฤทธิ์กัดกร่อน การทำงานอัตโนมัติ 24 ชั่วโมงพร้อมการควบคุม PLC เพื่อให้น้ำที่มีค่าการนำไฟฟ้าต่ำคงที่
โมดูลไฟฟ้า ระบบทําความสะอาดน้ํา 18.2 MΩ·cm ระยะสอง RO EDI การควบคุมกระบวนการ PLC
อุปกรณ์น้ำบริสุทธิ์พิเศษด้วยไฟฟ้าโซลาร์เซลล์ที่มีความบริสุทธิ์ 18.2MΩ·cm กระบวนการขัด RO + EDI + เบดแบบผสมสองขั้นตอน นำเสนอการควบคุมหน้าจอสัมผัส PLC อัตราการกรองน้ำทะเล ≥99% อัตราการไหล 80 ลบ.ม./ชม. และการควบคุมพิเศษของซิลิคอน/โบรอน/TOC สำหรับการกัดแผ่นเวเฟอร์เซลล์แสงอาทิตย์ การสร้างพื้นผิว และกระบวนการทำความสะอาด
ระบบ EDI อิเล็กทรอนิโอประกอบผิวโครง Stack สําหรับครึ่งตัวนํารุ่น Ultrapure
ระบบ EDI Stack EDI ที่มีความต้านทานสูงผลิตน้ำบริสุทธิ์พิเศษสูงถึง 18.2 MΩ·cm สำหรับการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ นำเสนอการสร้างใหม่อย่างต่อเนื่องโดยปราศจากสารเคมี การนำน้ำกลับมาใช้ใหม่สูงสุด 95% และการทำงานที่เสถียรโดยมีความต้องการการบำรุงรักษาต่ำ เหมาะสำหรับโครงการน้ำบริสุทธิ์พิเศษทางอุตสาหกรรมที่มีมาตรฐานสูง
เครื่องกรองน้ำบริสุทธิ์พิเศษขนาดกะทัดรัดแบบติดตั้งลื่นไถล 15-18.25MΩ·cm ความต้านทาน EDI การกำจัดไอออนอย่างต่อเนื่องแบตเตอรี่พลังงานใหม่
อุปกรณ์น้ำบริสุทธิ์พิเศษขนาดกะทัดรัดแบบติดตั้งลื่นไถลสำหรับการผลิตแบตเตอรี่พลังงานใหม่ นำเสนอกระบวนการปรับสภาพล่วงหน้า + กระบวนการ RO + EDI สองขั้นตอน ซึ่งผลิตน้ำเกรดอิเล็กทรอนิกส์ขนาด 15-18.25MΩ*ซม. การออกแบบ Plug-and-Play ขนาดกะทัดรัด การทำงาน EDI แบบไร้สารเคมี การควบคุมอัตโนมัติของ PLC และความสามารถในการขยายแบบโมดูลาร์
316L สแตนเลส เครื่องประกอบยา สําหรับน้ําอัลตรีบริสุทธิ์
ภาชนะผสมสแตนเลส 316L สำหรับน้ำบริสุทธิ์พิเศษทางเภสัชกรรม เกรดสุขาภิบาลที่ทนต่อการกัดกร่อน ผนังด้านในเรียบ และไม่มีมุมบอด ขจัดเกลือปริมาณเล็กน้อยและสิ่งสกปรกด้วยเรซินผสม โดยมีความต้านทาน 15-18.2 MΩ*cm อัตราการไหลที่ปรับแต่งได้ 0.5-30 ลบ.ม./ชม. รับประกัน 1 ปี บรรจุภัณฑ์ส่งออก
ระบบทําความสะอาดน้ําห้องปฏิบัติการ RO EDI กระแสขนาดเล็ก 18.25 MΩ·cm ความต้านทาน
อุปกรณ์น้ำบริสุทธิ์พิเศษ RO EDI ไหลขนาดเล็กสำหรับการทดลองในสถาบันมีกระบวนการรีเวิร์สออสโมซิส + EDI + เรซินขัดเงา ซึ่งผลิตน้ำที่มีความต้านทานไฟฟ้า ≥18.2 MΩ·cm การออกแบบที่กะทัดรัด การทำงานแบบไร้สารเคมี และอัตราการไหลที่ปรับแต่งได้ (30T/H) ช่วยให้มั่นใจในคุณภาพน้ำทดลองที่เสถียรสำหรับห้องปฏิบัติการและศูนย์วิจัย
ระบบน้ําความบริสุทธิ์สูงขนาดใหญ่อุตสาหกรรม 18.25MΩ·Cm สําหรับทําความสะอาดชิปอิเล็กทรอนิกส์
ระบบน้ำบริสุทธิ์พิเศษไหลขนาดใหญ่ทางอุตสาหกรรมสำหรับโรงงานเซมิคอนดักเตอร์และการผลิตชิปอิเล็กทรอนิกส์ นำเสนอกระบวนการ RO + EDI + ขัดแบบเบดสองขั้นตอน ซึ่งผลิตน้ำบริสุทธิ์พิเศษ 18.25MΩ*cm พร้อม TOC ≤1ppb อัตราการไหลที่ปรับแต่งได้ 10-100 ลบ.ม./ชม., การควบคุมอัตโนมัติ PLC, การทำงานต่อเนื่อง 24 ชม. สอดคล้องตามมาตรฐาน SEMI/ASTM สำหรับการทำความสะอาดแผ่นเวเฟอร์ การกัด และการผลิตชิป
18.2 Megohm EDI ระบบบําบัดน้ําที่มีการฟื้นฟูฟรีจากสารเคมี
ระบบ EDI Stack EDI ที่มีความต้านทานสูงผลิตน้ำบริสุทธิ์พิเศษสูงถึง 18.2 MΩ·cm สำหรับการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ นำเสนอการสร้างใหม่อย่างต่อเนื่องโดยปราศจากสารเคมี การออกแบบแบบเรียงซ้อนขนาดกะทัดรัด การทำงานอัตโนมัติเต็มรูปแบบ และการบำรุงรักษาต่ำ ให้คุณภาพน้ำที่เสถียรพร้อมอัตราการคืนสภาพสูงถึง 95%
ระดับอาหาร SUS304 ประเภทแผ่น ถังน้ําที่มีการออกแบบการประกอบแบบโมดูล
ถังเก็บน้ำสเตนเลสทรงสี่เหลี่ยม 304 พร้อมวัสดุ SUS304 เกรดสำหรับอาหาร โครงสร้างแบบโมดูลาร์เพื่อการปรับแต่งที่ยืดหยุ่น (1-2000 ลบ.ม.) การออกแบบที่ไม่มีการรั่วซึม อายุการใช้งาน 30+ ปี เข้ากันได้กับระบบ RO/EDI โรงแรม โรงงาน และโครงการน้ำดื่มในชนบท ได้รับการรับรองมาตรฐาน ISO9001 พร้อมการรับประกัน 2 ปี
