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electrodeionization edi system
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Mini système EDI d'électrodéionisation compact pour un fonctionnement en laboratoire sans produits chimiques
Mini système d'électrodéionisation EDI pour les unités d'eau ultra pure de laboratoire. Un fonctionnement continu sans produits chimiques produit une eau stable de 15 à 18,2 MΩ·cm. Conception compacte, faible maintenance, taux de récupération élevé jusqu'à 95 %. Idéal pour les applications pharmaceutiques, de semi-conducteurs et de laboratoire.
Système EDI d'électrodéionisation par membrane en pile pour les semi-conducteurs ultrapurs
Le système EDI à pile à haute résistivité produit de l'eau ultrapure jusqu'à 18,2 MΩ·cm pour la fabrication de semi-conducteurs. Comprend une régénération continue sans produits chimiques, jusqu'à 95 % de récupération d'eau et un fonctionnement stable avec de faibles besoins d'entretien. Idéal pour les projets industriels d’eau ultrapure de haut niveau.
Système EDI industriel d'électrodéionisation de haute pureté avec une résistivité de 18,2 megohm
Le système EDI industriel de haute pureté produit de l'eau ultra pure (18,2 MΩ·cm) avec régénération continue sans produits chimiques. Comprend une récupération élevée (jusqu'à 95 %), une faible maintenance et un contrôle automatisé. Idéal pour les industries pharmaceutiques, des centrales électriques et de l'électronique avec un fonctionnement respectueux de l'environnement.
Système EDI d'électrodionisation en acier inoxydable pour l'eau de haute pureté
L'EDI (électrodéionisation) combine la technologie de la membrane échangeuse d'ions et du champ électrique pour éliminer en continu les anions et les cations sans régénération acide/alcali. Comprend une qualité d'eau stable, une purification élevée, un fonctionnement automatique, un faible coût et une protection de l'environnement. Associé aux systèmes RO pour l'eau de haute pureté dans les industries électrique, électronique, pharmaceutique et chimique.
Système EDI d'électrodéionisation de post-polissage RO avec fonctionnement continu sans produits chimiques
Le système EDI de post-polissage RO remplace les lits mélangés traditionnels par un fonctionnement continu sans produits chimiques, un débit d'eau stable de haute pureté et une automatisation complète sans surveillance. Dispose des certifications ISO 9001 et CE, d'une structure intégrée compacte et prend en charge un débit personnalisable de 0,5 à 50 m³/h pour les mises à niveau du système d'eau industriel.
Équipement sanitaire EDI de qualité alimentaire pour un fonctionnement écologique
Le système EDI à faible TDS fournit une eau ultra-pure stable pour la production alimentaire et de boissons. Comprend une structure sanitaire de qualité alimentaire, un fonctionnement non chimique, une purification continue et un contrôle entièrement automatique. Garantit une qualité de produit constante avec un faible entretien et des taux de récupération élevés.
Système de traitement de l'eau EDI de 18,2 mégohms avec régénération sans produits chimiques
Le système EDI à pile à haute résistivité produit de l'eau ultrapure jusqu'à 18,2 MΩ·cm pour la fabrication de semi-conducteurs. Comprend une régénération continue sans produits chimiques, une conception empilée compacte, un fonctionnement entièrement automatique et un faible entretien. Offre une qualité d’eau stable avec un taux de récupération jusqu’à 95 %.
18.25 MΩ·cm EDI Système d'eau ultrapure Système de puces semi-conducteurs Nettoyage continu sans produits chimiques
Le système d'eau ultrapure EDI industriel produit une eau de résistivité de 18,25 MΩ·cm pour le nettoyage des puces semi-conductrices. Doté d'une technologie EDI sans produits chimiques, d'une osmose inverse en deux étapes avec dessalement à 99 %, d'une automatisation PLC et d'une capacité personnalisable jusqu'à 5 000 L/H. Conforme aux normes SEMI, comprend la stérilisation UV et une garantie d'un an.
Système de purification d'eau de laboratoire RO EDI à petit débit 18,25 MΩ·cm Résistivité Désionisation libre chimique
L'équipement d'eau ultrapure RO EDI à petit débit pour les expériences en institut comprend un processus d'osmose inverse + EDI + résine de polissage, produisant une eau de résistivité ≥ 18,2 MΩ·cm. La conception compacte, le fonctionnement sans produits chimiques et les débits personnalisables (30 T/H) garantissent une qualité d'eau expérimentale stable pour les laboratoires et les installations de recherche.
