18.25 MΩ·cm EDI Système d'eau ultrapure Système de puces semi-conducteurs Nettoyage continu sans produits chimiques
18.25 MΩ·cm Système d'eau ultrapure
,Système d'eau EDI sans produits chimiques
,Système d'eau de qualité semi-conducteur
Ce système d'eau ultrapure EDI de qualité industrielle est conçu par des professionnels pour la fabrication de semi-conducteurs, la gravure de plaquettes, le nettoyage de puces, la production de composants électroniques et les expériences de haute précision en laboratoire. L'équipement utilise une technologie avancée d'osmose inverse RO en deux étapes + d'électrodéionisation continue EDI avec purification post-polissage pour produire de manière stable de l'eau ultrapure de haute pureté avec une résistivité maximale de 18,25 MΩ·cm (@25 ℃), répondant aux normes de pureté de l'eau les plus strictes pour la production industrielle de semi-conducteurs.
Contrairement aux dispositifs traditionnels de traitement de l'eau à lit mélangé, cet équipement d'eau ultrapure EDI permet une désionisation continue sans produits chimiques et sans régénération acide-base, empêchant ainsi la pollution secondaire de la qualité de l'eau. Il élimine complètement les ions résiduels, les colloïdes, les matières organiques, les bactéries, les métaux lourds et la silice de l'eau brute, garantissant ainsi l'absence d'interférence d'impuretés dans les processus de nettoyage des puces semi-conductrices tout en améliorant considérablement le rendement du produit et la stabilité de la production.
Le système utilise une conception de purification graduelle en plusieurs étapes pour atteindre progressivement une pureté d’eau ultra-élevée :
- Système de prétraitement :Le filtre multimédia, le filtre à charbon actif et le filtre de sécurité de précision interceptent efficacement les sédiments, la rouille, les algues, les grosses impuretés et le chlore résiduel, protégeant ainsi la membrane RO et les modules EDI ultérieurs.
- Système d'osmose inverse RO à deux étages :Filtration sur membrane RO double couche de haute précision avec un taux de dessalement jusqu'à 99,5 %, éliminant la plupart des sels solubles et des polluants organiques tout en fournissant une eau pré-purifiée stable pour le système EDI.
- Système d'électrodéionisation EDI :Unité de purification de base combinant une résine échangeuse d'ions et une technologie de champ électrique pour une régénération automatique continue de la résine, éliminant en profondeur les traces d'électrolytes faibles comme le silicium et le bore difficiles à filtrer par RO
- Système de polissage et de stérilisation des terminaux :Le dispositif de dégradation du COT UV et le filtre d'ultrafiltration de 0,2 μm contrôlent la teneur en COT inférieure à 1 ppb, éliminent les micro-organismes résiduels et garantissent une qualité d'eau stable à long terme de qualité semi-conductrice.
- Pureté de l'eau ultra élevée et sortie stable :Maintient la résistivité de l'eau à 15-18,25 MΩ·cm à 25℃, COT≤1ppb, zéro résidu bactérien, entièrement conforme aux normes de l'industrie des semi-conducteurs SEMI
- Fonctionnement sans produits chimiques et respectueux de l'environnement :Pas de régénération chimique acide et alcaline, pas de rejet de déchets chimiques, réduisant ainsi la pollution de l'environnement et les coûts d'approvisionnement en produits chimiques
- Contrôle automatique intelligent :Le système de contrôle intelligent PLC avec écran tactile couleur permet une production automatique d'eau, une protection contre la pression, un arrêt en cas de manque d'eau et une alarme de panne avec un support de fonctionnement continu 24 heures sur 24.
- Faible coût d’exploitation et de maintenance :Le module EDI a une longue durée de vie, pas de remplacement fréquent des consommables en résine, une faible consommation d'eau et d'énergie, un taux de récupération de production d'eau élevé
- Conception compacte et personnalisable :Structure intégrée montée sur patins avec un faible encombrement, une installation et un déplacement faciles, débit d'eau personnalisable (250 L/H-5 000 L/H) en fonction des exigences de production
- Configuration anticorrosion et durable :Les matériaux de pipeline de qualité alimentaire et électronique dotés de propriétés anti-oxydation et anti-pollution empêchent la pollution secondaire des pipelines.
- Processus de nettoyage de tranches de semi-conducteurs, de gravure de puces et de lithographie
- Fabrication de composants électroniques, de circuits imprimés et de composants électroniques de précision
- Industrie microélectronique et analyses en laboratoire de semi-conducteurs
- Alimentation en eau de haute pureté pour les ateliers électroniques de batteries à énergie nouvelle
- Fabrication d'instruments de précision et expériences de recherche scientifique haut de gamme
| Paramètre | Spécification |
|---|---|
| Résistivité de l'eau de sortie | 15~18,25 MΩ·cm (25℃, sortie stable) |
| Valeur COT | ≤1ppb |
| Flux de production d'eau | Personnalisé 250L/H, 500L/H, 1000L/H, 2000L/H, 5000L/H |
| Taux de dessalement RO | ≥99,5 % |
| Mode de fonctionnement | Travail continu entièrement automatique 24h |
| Système de contrôle | Contrôle automatique intelligent PLC + écran tactile |
| Température de travail | 5 ℃ ~ 45 ℃ |
| Taux de récupération | ≥90 % |
| Méthode de stérilisation | Stérilisation UV + filtration terminale de précision |
Nous fournissons des services complets comprenant la conception, la fabrication, l’installation, la mise en service et la maintenance après-vente. Tous les équipements prennent en charge une configuration personnalisée selon différents processus de production de semi-conducteurs, avec une garantie d'un an sur l'ensemble de la machine et un support technique à long terme. Notre équipe d'ingénieurs professionnels à l'étranger propose des conseils à distance et un service après-vente pour garantir un fonctionnement stable et efficace de l'équipement à long terme.
