équipement d'eau ultra pure
Qualité Module photovoltaïque Système de purification de l'eau 18,2 MΩ·cm Deux étapes RO EDI Contrôle du processus PLC Usine

Module photovoltaïque Système de purification de l'eau 18,2 MΩ·cm Deux étapes RO EDI Contrôle du processus PLC

Équipement d'eau ultrapure photovoltaïque avec une pureté de 18,2 MΩ·cm, processus de polissage RO + EDI + lit mixte en double étape. Comprend un contrôle par écran tactile PLC, un taux de dessalement ≥99 %, un débit de 80 m³/h et un contrôle spécialisé du silicium/bore/COT pour les processus de gravure, de texturation et de nettoyage des plaquettes de cellules solaires.

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Qualité Équipement d'eau ultrapure de polissage de lit mixte 18,25MΩ·cm Résistivité Régénération automatique Norme GMP Usine

Équipement d'eau ultrapure de polissage de lit mixte 18,25MΩ·cm Résistivité Régénération automatique Norme GMP

L'équipement d'eau ultrapure de polissage à lit mixte post-RO offre une résistivité de 15 à 18,25 MΩ*cm, élimine les traces d'ions/silice/bore, avec régénération automatique/manuelle, norme GMP, débit personnalisable de 0,25 à 200 m³/h pour les industries des semi-conducteurs/pharmaceutiques/batteries.

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Qualité Système industriel d'eau de haute pureté à grand débit 18,25 MΩ·Cm Pour le nettoyage de puces électroniques Usine

Système industriel d'eau de haute pureté à grand débit 18,25 MΩ·Cm Pour le nettoyage de puces électroniques

Système industriel d’eau ultrapure à grand débit pour les usines de semi-conducteurs et la fabrication de puces électroniques. Comprend un processus de lit mélangé RO + EDI + polissage en deux étapes, produisant 18,25 MΩ*cm d'eau ultra pure avec un COT ≤ 1 ppb. Débit personnalisable 10-100m³/h, contrôle automatisé PLC, fonctionnement continu 24h/24. Conforme aux normes SEMI/ASTM pour le nettoyage, la gravure et la production de plaquettes.

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Qualité Équipement pour l'eau ultrapure à double étage RO EDI Désionisation Capacité personnalisée 0,5-50 m3/h Usine

Équipement pour l'eau ultrapure à double étage RO EDI Désionisation Capacité personnalisée 0,5-50 m3/h

Équipement industriel à eau ultra pure entièrement anticorrosion pour ateliers de galvanoplastie. Dispose d'une désionisation RO + EDI à double étage, élimine les ions chlorure/métaux lourds, capacité de 0,5 à 50 m³/h. La conception antirouille s'adapte aux environnements corrosifs, fonctionnement automatique 24 heures sur 24 avec contrôle PLC pour une sortie d'eau stable à faible conductivité.

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Qualité Équipement de laboratoire pour l' eau ultrapure destiné à la recherche / aux essais Usine

Équipement de laboratoire pour l' eau ultrapure destiné à la recherche / aux essais

Équipement d'eau ultrapure de laboratoire de paillasse avec conception compacte, double débit d'eau (eau pure RO et eau ultrapure 18,25 MΩ·cm), contrôle tactile intelligent, fonctionnement automatique, stérilisation UV et filtration terminale de 0,22 μm. Idéal pour les laboratoires de recherche, les instituts de tests et le contrôle qualité pharmaceutique.

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Qualité Système de purification d'eau de laboratoire RO EDI à petit débit 18,25 MΩ·cm Résistivité Désionisation libre chimique Usine

Système de purification d'eau de laboratoire RO EDI à petit débit 18,25 MΩ·cm Résistivité Désionisation libre chimique

L'équipement d'eau ultrapure RO EDI à petit débit pour les expériences en institut comprend un processus d'osmose inverse + EDI + résine de polissage, produisant une eau de résistivité ≥ 18,2 MΩ·cm. La conception compacte, le fonctionnement sans produits chimiques et les débits personnalisables (30 T/H) garantissent une qualité d'eau expérimentale stable pour les laboratoires et les installations de recherche.

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Qualité Purificateur d'eau ultra pur compact monté sur skid 15-18.25MΩ·cm Résistivité EDI Désionisation continue Batterie à énergie nouvelle Usine

Purificateur d'eau ultra pur compact monté sur skid 15-18.25MΩ·cm Résistivité EDI Désionisation continue Batterie à énergie nouvelle

Équipement compact à eau ultra pure monté sur patins pour la production de batteries à énergie nouvelle. Comprend un prétraitement + un processus RO + EDI en deux étapes, produisant 15-18,25 MΩ*cm d'eau de qualité électronique. Conception compacte plug-and-play, fonctionnement EDI sans produits chimiques, contrôle automatique PLC et capacité d'extension modulaire.

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Qualité Produits pharmaceutiques stériles pour l'eau ultrapure Appareils de stérilisation UV Appareil de contrôle de faible TOC Conformité aux BPF Usine

Produits pharmaceutiques stériles pour l'eau ultrapure Appareils de stérilisation UV Appareil de contrôle de faible TOC Conformité aux BPF

Équipement pharmaceutique à eau ultrapure stérile avec dispositif de stérilisation UV. Comprend un réservoir stérile de 316 L, une purification RO+EDI, une stérilisation UV, un nettoyage CIP et une conformité GMP/USP/EP. Fournit une résistivité stable de 15 à 18,25 MΩ*cm, un faible COT, zéro bactérie pour l'injection, les produits biologiques et la production pharmaceutique.

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Qualité Récupération d'eau standard de qualité cosmétique de taux de dessalement de l'équipement 99,5% de l'eau ultrapure de RO de RO Usine

Récupération d'eau standard de qualité cosmétique de taux de dessalement de l'équipement 99,5% de l'eau ultrapure de RO de RO

L'équipement d'eau ultrapure RO en deux étapes pour la fabrication de cosmétiques garantit un taux de dessalement ≥ 99,5 %, une conductivité de 1 à 5 μS/cm et une conception sanitaire conforme aux BPF. Comprend une automatisation PLC, une récupération d'eau de 85 à 90 %, une stérilisation UV et des débits personnalisés de 250 L/H à 10 T/H pour une qualité d'eau de production stable.

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