Système industriel d'eau de haute pureté à grand débit 18,25 MΩ·Cm Pour le nettoyage de puces électroniques

Ce système d'eau ultrapure à large débit industriel est conçu professionnellement pour les installations de fabrication de semi-conducteurs, la production de plaquettes, la gravure de puces électroniques, le nettoyage, le polissage,et lignes de fabrication de circuits intégrés.

La production de puces est extrêmement sensible aux micro-impuretés, les traces d'ions, la silice, le bore, le carbone organique, les particules minuscules et les micro-organismes dans l'eau peuvent provoquer des courts-circuits, des rayures sur les plaquettes,défauts de motifsCe dispositif d'eau ultrapure à grande échelle utilise un procédé de purification en profondeur de lit mixte RO + EDI + polissage en deux étapes de qualité industrielle,strictement conformes aux normes SEMI et ASTM pour l'eau électronique.

Le système fournit constamment de l'eau ultrapure de haute pureté de 18,25 MΩ*cm avec un TOC ultra-faible, des particules ultra-faibles et zéro résidu microbien.Il convient à l'approvisionnement en eau en grande quantité en continu 24 heures pour le nettoyage des plaquettes, les procédés de photolithographie, le nettoyage par gravure et le rinçage de la surface des puces, améliorant efficacement les taux de qualification des puces finies et stabilisant la qualité de la production de semi-conducteurs.

• Système de prétraitement industriel à forte charge:Filtre multimédia à large débit, filtre au charbon actif et système d'adoucissement automatique éliminent les sédiments massifs, le chlore résiduel, les solides en suspension et réduisent la dureté de l'eau brute,prévention de la mise à l'échelle et des dommages aux éléments de la membrane centrale en fonctionnement à haute charge à long terme.
• Désalignement à haute efficacité en deux étapes:Les membranes RO industrielles à haut flux et anti-encrassement éliminent plus de 99,5% des sels solubles, des colloïdes et des grands polluants organiques, obtenant une purification primaire de haute précision.
• Réglage du pH et système de tampon intermédiaire:Un ajustement précis du pH réduit la teneur en dioxyde de carbone dissous et en silicium résiduel, optimisant la qualité de l'eau pour une désionisation profonde EDI ultérieure.
• Désionisation continue par EDI industriel:Le module EDI à grand débit élimine en profondeur les traces de bore, de silicium et d'impuretés ioniques résiduelles sans régénération chimique acide-base, maintenant une production d'eau stable à haute résistivité.
• Dégradation et stérilisation par TOC UV:L'appareil UV à 185 nm décompose le carbone organique total, et l'UV à 254 nm élimine les bactéries, contrôlant efficacement le TOC à un niveau de ppb.
• Polissage mixte de lit et ultrafiltration finale:Le lit mixte de polissage post-étape + filtre de précision terminal de 0,05 μm/0,22 μm élimine les particules ultrafines, garantissant ainsi la pleine conformité avec les normes avancées en matière d'eau de procédé des semi-conducteurs.

• L'approvisionnement industriel en eau continue à grand débit:Le rendement d'eau peut être personnalisé de 10 m3/h à 100 m3/h, ce qui permet un fonctionnement sans interruption de 24 heures à haute charge pour les lignes de production de masse de semi-conducteurs.
• Qualité de l'eau ultra-stable de qualité semi-conducteur:Maintient constamment une résistivité à l'eau ultrapure de 18,25 MΩ*cm, TOC ≤ 1 ppm, teneur en silice et en bore ultra-faible, contrôle des particules ultra-fines,répondant pleinement aux exigences des procédés de fabrication de puces avancées.
• Contrôle strict des traces d'impuretés nocives:Élimine efficacement les micro-ions et les particules polluantes qui causent des défauts de la puce, réduisant considérablement le taux de ferraille des plaquettes et améliorant le rendement de production.
• Structure industrielle anti-encrassement et durable:Utilise des membranes RO à haute antipollution et une disposition améliorée des pipelines industriels, s'adaptant à un fonctionnement continu à haut débit à long terme avec un faible taux de décontamination et une durée de vie prolongée.
• Système de contrôle centralisé intelligent:Contrôle intelligent centralisé par PLC avec surveillance en ligne en temps réel de la résistivité, du TOC, de la pression et du débit d'eau.et l'enregistrement des données permettent la gestion de l'atelier sans pilote.
• Amiable avec l'environnement et à faible coût d'exploitation:Le fonctionnement sans produits chimiques EDI élimine le rejet de déchets chimiques liquides.

• Fabrication de plaquettes de semi-conducteurs et nettoyage de surface de plaquettes
• Circuits intégrés IC, eau de processus de gravure sur puce et photolithographie
• Nettoyage de précision des composants électroniques et rinçage des circuits imprimés
• Produits à base d'hydrocarbures et d'hydrocarbures
• Station centrale d'eau ultrapure de l'usine de semi-conducteurs avancée
• Nettoyage des instruments électroniques et des matériaux semi-conducteurs de haute précision

Nous fournissons des solutions d'ingénierie de traitement de l'eau à grande échelle à base de semi-conducteurs, y compris l'analyse de la qualité de l'eau brute, la conception personnalisée du processus, l'assemblage en usine, la mise en service sur place,et un soutien technique mondialUne formation opérationnelle à long terme, un diagnostic de défaut à distance et une fourniture complète de pièces de rechange assurent un approvisionnement en eau ultrapure stable et de haute qualité pour les lignes de production de puces électroniques.