ประเภททั้งหมด
edi ultrapure water system
22 Items Found
18.25 MΩ·cm EDI ระบบน้ำบริสุทธิ์พิเศษ สารกึ่งตัวนำ การทำความสะอาดชิป การทำงานต่อเนื่องแบบไร้สารเคมี
ระบบน้ำบริสุทธิ์พิเศษ EDI อุตสาหกรรมผลิตน้ำที่มีความต้านทาน 18.25MΩ·cm สำหรับการทำความสะอาดชิปเซมิคอนดักเตอร์ นำเสนอเทคโนโลยี EDI ไร้สารเคมี, RO สองขั้นตอนพร้อมระบบแยกเกลือออกจาก 99%, ระบบ PLC อัตโนมัติ และความจุที่ปรับแต่งได้สูงถึง 5,000 ลิตร/ชั่วโมง เป็นไปตามมาตรฐาน SEMI รวมถึงการฆ่าเชื้อด้วยแสง UV และการรับประกัน 1 ปี
ระบบน้ำบริสุทธิ์พิเศษ RO EDI อุตสาหกรรมแบบกำหนดเองการทำงานที่มีความบริสุทธิ์สูงโดยไม่ต้องใช้สารเคมี
อุปกรณ์บำบัดน้ำบริสุทธิ์พิเศษ RO+EDI อุตสาหกรรมแบบกำหนดเองผสมผสานการกรอง RO สองขั้นตอนและการอิเล็กโทรไลต์ EDI เพื่อผลิตน้ำปราศจากไอออนที่มีความบริสุทธิ์สูง (15-18.25MΩ*cm) นำเสนอการทำงานแบบไร้สารเคมี, การควบคุมอัจฉริยะของ PLC, ความจุที่ปรับแต่งได้อย่างเต็มที่ (250L/H-5000L/H), โครงสร้างแบบกันลื่น และประสิทธิภาพที่มั่นคงสำหรับการผลิตทางอุตสาหกรรม
อุปกรณ์น้ําบริสุทธิ์สูง อุปกรณ์น้ําบริสุทธิ์สูง อัตโนมัติเต็ม ราคาดําเนินงานต่ํา ระบบบํารุงน้ําอุตสาหกรรม
อุปกรณ์น้ำบริสุทธิ์พิเศษผลิตน้ำที่มีความบริสุทธิ์สูงผ่านการบำบัดล่วงหน้าแบบหลายขั้นตอน รีเวอร์สออสโมซิส EDI และการขัดเบดผสม โดดเด่นด้วยการทำงานแบบอัตโนมัติเต็มรูปแบบ ประสิทธิภาพที่มั่นคง ต้นทุนการดำเนินงานต่ำ และการบำรุงรักษาง่าย เหมาะสำหรับอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์ ยา ห้องปฏิบัติการ และการผลิตทางอุตสาหกรรม
เครื่องประกอบน้ําอัลตราบริสุทธิ์ Anti Corrosion Electroplating Double Stage RO EDI Deionization ความจุตามสั่ง 0.5-50m3/h
อุปกรณ์น้ำบริสุทธิ์พิเศษทางอุตสาหกรรมที่ป้องกันการกัดกร่อนเต็มรูปแบบสำหรับโรงชุบโลหะด้วยไฟฟ้า นำเสนอการกำจัดไอออน RO + EDI สองขั้นตอน ขจัดไอออนคลอไรด์/โลหะหนัก ความจุ 0.5-50 ลบ.ม./ชม. การออกแบบป้องกันสนิมปรับให้เข้ากับสภาพแวดล้อมที่มีฤทธิ์กัดกร่อน การทำงานอัตโนมัติ 24 ชั่วโมงพร้อมการควบคุม PLC เพื่อให้น้ำที่มีค่าการนำไฟฟ้าต่ำคงที่
เครื่องอุปกรณ์น้ําสเตอริล Ultrapure ยาอุปกรณ์ UV Sterilizing อุปกรณ์ควบคุม TOC ต่ํา
อุปกรณ์น้ำบริสุทธิ์พิเศษฆ่าเชื้อทางเภสัชกรรมพร้อมอุปกรณ์ฆ่าเชื้อด้วยรังสียูวี นำเสนอถังปลอดเชื้อ 316 ลิตร, การทำให้บริสุทธิ์ RO+EDI, การฆ่าเชื้อด้วยรังสียูวี, การทำความสะอาด CIP และการปฏิบัติตามข้อกำหนด GMP/USP/EP ให้ความต้านทาน 15-18.25MΩ*cm ที่เสถียร, TOC ต่ำ, ไม่มีแบคทีเรียสำหรับการฉีด, ผลิตภัณฑ์ทางชีวภาพ และการผลิตยา
เครื่องแลกยอนความบริสุทธิ์สูงสําหรับน้ํา Ultrapure เกรดห้างอิเล็กทรอนิกส์
เครื่องแลกเปลี่ยนไอออนแบบผสมเบดที่มีความบริสุทธิ์สูงให้น้ำบริสุทธิ์พิเศษเกรดอิเล็กทรอนิกส์ที่มีอัตราการแยกเกลือออก ≥99.8% และความต้านทานไฟฟ้า 15-18.2 MΩ*cm นำเสนอการขัดเงาที่มีความบริสุทธิ์สูงเป็นพิเศษ คุณภาพน้ำที่เสถียร การออกแบบที่กะทัดรัด และการบูรณาการระบบ RO ที่สมบูรณ์แบบสำหรับเซมิคอนดักเตอร์ แผงวงจร และการผลิตอิเล็กทรอนิกส์ที่มีความแม่นยำ
การเคลือบเตียงผสม อุปกรณ์น้ําบริสุทธิ์มาก 18.25MΩ·cm ความต้านทาน การฟื้นฟูอัตโนมัติ มาตรฐาน GMP
อุปกรณ์น้ำบริสุทธิ์พิเศษสำหรับการขัดผิวแบบผสม Post-RO ให้ความต้านทาน 15-18.25MΩ*cm ขจัดไอออนปริมาณน้อย/ซิลิกา/โบรอน พร้อมการสร้างใหม่อัตโนมัติ/ด้วยตนเอง มาตรฐาน GMP การไหลที่ปรับแต่งได้ 0.25-200 ลบ.ม./ชม. สำหรับอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์/ยา/แบตเตอรี่
2 ขั้นตอน RO อุปกรณ์น้ําบริสุทธิ์มาก อัตราการละลายน้ํา 99.5% เกรดเครื่องสําอาง GMP การฟื้นฟูน้ํามาตรฐาน
อุปกรณ์น้ำบริสุทธิ์พิเศษ RO สองขั้นตอนสำหรับการผลิตเครื่องสำอางรับประกันอัตราการกรองน้ำทะเล ≥99.5% ค่าการนำไฟฟ้า 1-5μS/ซม. และการออกแบบที่ถูกสุขลักษณะตามมาตรฐาน GMP นำเสนอระบบอัตโนมัติ PLC, การนำน้ำกลับมาใช้ใหม่ 85-90%, การฆ่าเชื้อด้วยรังสียูวี และอัตราการไหลแบบกำหนดเองตั้งแต่ 250L/H ถึง 10T/H เพื่อคุณภาพน้ำในการผลิตที่มั่นคง
ระบบทําความสะอาดน้ําห้องปฏิบัติการ RO EDI กระแสขนาดเล็ก 18.25 MΩ·cm ความต้านทาน
อุปกรณ์น้ำบริสุทธิ์พิเศษ RO EDI ไหลขนาดเล็กสำหรับการทดลองในสถาบันมีกระบวนการรีเวิร์สออสโมซิส + EDI + เรซินขัดเงา ซึ่งผลิตน้ำที่มีความต้านทานไฟฟ้า ≥18.2 MΩ·cm การออกแบบที่กะทัดรัด การทำงานแบบไร้สารเคมี และอัตราการไหลที่ปรับแต่งได้ (30T/H) ช่วยให้มั่นใจในคุณภาพน้ำทดลองที่เสถียรสำหรับห้องปฏิบัติการและศูนย์วิจัย
