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ultrapure water purification system
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Échangeur d'ions de haute pureté pour l'eau ultrapure de qualité électronique
L'échangeur d'ions à lit mixte de haute pureté fournit de l'eau ultrapure de qualité électronique avec un taux de dessalement ≥ 99,8 % et une résistivité de 15 à 18,2 MΩ*cm. Comprend un polissage de très haute pureté, une qualité d'eau stable, une conception compacte et une intégration parfaite du système RO pour la fabrication de semi-conducteurs, de circuits imprimés et de composants électroniques de précision.
18.25 MΩ·cm EDI Système d'eau ultrapure Système de puces semi-conducteurs Nettoyage continu sans produits chimiques
Le système d'eau ultrapure EDI industriel produit une eau de résistivité de 18,25 MΩ·cm pour le nettoyage des puces semi-conductrices. Doté d'une technologie EDI sans produits chimiques, d'une osmose inverse en deux étapes avec dessalement à 99 %, d'une automatisation PLC et d'une capacité personnalisable jusqu'à 5 000 L/H. Conforme aux normes SEMI, comprend la stérilisation UV et une garantie d'un an.
Opération libre chimique de sortie de grande pureté industrielle faite sur commande de système d'eau de RO EDI
L'équipement industriel personnalisé de traitement de l'eau ultrapure RO+EDI combine une filtration RO en deux étapes et une électrodéionisation EDI pour produire de l'eau désionisée de haute pureté (15-18,25 MΩ*cm). Comprend un fonctionnement sans produits chimiques, un contrôle intelligent PLC, une capacité entièrement personnalisable (250 L/H-5 000 L/H), une structure montée sur patins et des performances stables pour la production industrielle.
Équipement d'eau ultrapure de haute pureté entièrement automatique à faible coût d'exploitation Système industriel de traitement de l'eau
L'équipement d'eau ultrapure produit de l'eau de haute pureté via un prétraitement en plusieurs étapes, une osmose inverse, un EDI et un lit mélangé de polissage. Fonctionnement entièrement automatique, performances stables, faibles coûts d'exploitation et maintenance facile. Idéal pour l'électronique, les produits pharmaceutiques, les laboratoires et la fabrication industrielle.
Récupération d'eau standard de qualité cosmétique de taux de dessalement de l'équipement 99,5% de l'eau ultrapure de RO de RO
L'équipement d'eau ultrapure RO en deux étapes pour la fabrication de cosmétiques garantit un taux de dessalement ≥ 99,5 %, une conductivité de 1 à 5 μS/cm et une conception sanitaire conforme aux BPF. Comprend une automatisation PLC, une récupération d'eau de 85 à 90 %, une stérilisation UV et des débits personnalisés de 250 L/H à 10 T/H pour une qualité d'eau de production stable.
Équipement de laboratoire pour l' eau ultrapure destiné à la recherche / aux essais
Équipement d'eau ultrapure de laboratoire de paillasse avec conception compacte, double débit d'eau (eau pure RO et eau ultrapure 18,25 MΩ·cm), contrôle tactile intelligent, fonctionnement automatique, stérilisation UV et filtration terminale de 0,22 μm. Idéal pour les laboratoires de recherche, les instituts de tests et le contrôle qualité pharmaceutique.
Système industriel de purification de l'eau de RO EDI pour la fabrication ultra pure de l'eau
Le système RO associé au module EDI produit de l'eau industrielle ultra-pure (15-18,25 MΩ*cm) sans régénération chimique. Comprend une purification RO + EDI en deux étapes, une automatisation PLC, une conception montée sur patins et des certifications (CE, RoHS, SGS). Capacité personnalisée de 0,5 à 50 m³/h avec construction SS304/316 pour les industries de l'électronique, de la pharmacie et des nouvelles énergies.
Produits pharmaceutiques stériles pour l'eau ultrapure Appareils de stérilisation UV Appareil de contrôle de faible TOC Conformité aux BPF
Équipement pharmaceutique à eau ultrapure stérile avec dispositif de stérilisation UV. Comprend un réservoir stérile de 316 L, une purification RO+EDI, une stérilisation UV, un nettoyage CIP et une conformité GMP/USP/EP. Fournit une résistivité stable de 15 à 18,25 MΩ*cm, un faible COT, zéro bactérie pour l'injection, les produits biologiques et la production pharmaceutique.
Équipement d'eau ultrapure de polissage de lit mixte 18,25MΩ·cm Résistivité Régénération automatique Norme GMP
L'équipement d'eau ultrapure de polissage à lit mixte post-RO offre une résistivité de 15 à 18,25 MΩ*cm, élimine les traces d'ions/silice/bore, avec régénération automatique/manuelle, norme GMP, débit personnalisable de 0,25 à 200 m³/h pour les industries des semi-conducteurs/pharmaceutiques/batteries.
