automatic regeneration mixed bed

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Qualität Duplex-Ionenaustauscherausrüstung für die kontinuierliche Wasserversorgung und Tiefenentsalzung Fabrik

Duplex-Ionenaustauscherausrüstung für die kontinuierliche Wasserversorgung und Tiefenentsalzung

Der Duplex-Mischbett-Ionenaustauscher ermöglicht eine kontinuierliche Wasserversorgung rund um die Uhr für große Fabriken mit abwechselndem Betrieb mit zwei Tanks. Verfügt über eine intelligente SPS-Steuerung, eine hocheffiziente Tiefenentsalzung, eine stabile Leistung bei großem Durchfluss und eine langlebige Industriestruktur. Ideal für unterbrechungsfreies, hochreines Wasser in Produktionsanlagen und Industrieparks.

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Qualität EDI integrierte Tiefwasserentsalzungsausrüstung hohe Reinheit ultrareine Ausgabe umweltfreundlicher Betrieb Fabrik

EDI integrierte Tiefwasserentsalzungsausrüstung hohe Reinheit ultrareine Ausgabe umweltfreundlicher Betrieb

Die integrierte Tiefenwasserentsalzungsanlage von EDI erzeugt über zweistufige RO + EDI ultrareines Wasser mit 15–18,25 MΩ*cm für die Elektronikfertigung. Verfügt über 45 % Rückgewinnung, 99,5 % Salzrückhaltung, SPS-Automatisierung, chemikalienfreien Betrieb, kompaktes Skid-Design und 2 Jahre Garantie. Ideal für Halbleiter, Leiterplatten und Präzisionselektronik.

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Qualität Industrielles Wassersystem mit hoher Reinheit mit großem Durchfluss 18,25 MΩ·Cm zur Reinigung elektronischer Chips Fabrik

Industrielles Wassersystem mit hoher Reinheit mit großem Durchfluss 18,25 MΩ·Cm zur Reinigung elektronischer Chips

Industrielles Reinstwassersystem mit großem Durchfluss für Halbleiterfabriken und die Herstellung elektronischer Chips. Verfügt über einen zweistufigen RO + EDI + Polier-Mischbettprozess, der 18,25 MΩ*cm hochreines Wasser mit einem TOC ≤1 ppb erzeugt. Anpassbarer Durchfluss 10–100 m³/h, automatisierte SPS-Steuerung, 24-Stunden-Dauerbetrieb. Entspricht den SEMI/ASTM-Standards für Waferreinigung, Ätzen und Chipproduktion.

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Qualität 18.25 MΩ·cm EDI Ultrareinwassersystem Halbleiterchipreinigung Chemikalienfreier Dauerbetrieb Fabrik

18.25 MΩ·cm EDI Ultrareinwassersystem Halbleiterchipreinigung Chemikalienfreier Dauerbetrieb

Das industrielle EDI-Reinstwassersystem erzeugt Wasser mit einem spezifischen Widerstand von 18,25 MΩ·cm für die Reinigung von Halbleiterchips. Verfügt über chemikalienfreie EDI-Technologie, zweistufige Umkehrosmose mit 99 % Entsalzung, SPS-Automatisierung und anpassbare Kapazität von bis zu 5000 l/h. Konform mit SEMI-Standards, inklusive UV-Sterilisation und 1 Jahr Garantie.

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Qualität Auf einem Gestell montierter, kompakter Reinstwasserreiniger, 15–18,25 MΩ·cm spezifischer Widerstand, EDI, kontinuierliche Entionisierung, neue Energiebatterie Fabrik

Auf einem Gestell montierter, kompakter Reinstwasserreiniger, 15–18,25 MΩ·cm spezifischer Widerstand, EDI, kontinuierliche Entionisierung, neue Energiebatterie

Auf einem Rahmen montierte, kompakte Reinstwasseranlage für die Produktion neuer Energiebatterien. Verfügt über Vorbehandlung + zweistufiges RO + EDI-Verfahren zur Erzeugung von Wasser in elektronischer Qualität mit 15–18,25 MΩ*cm. Kompaktes Plug-and-Play-Design, chemiefreier EDI-Betrieb, automatische SPS-Steuerung und modulare Erweiterungsfähigkeit.

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Qualität Industrie RO EDI-Wasserreinigungssystem zur Herstellung von ultrareinem Wasser Fabrik

Industrie RO EDI-Wasserreinigungssystem zur Herstellung von ultrareinem Wasser

Das mit dem EDI-Modul abgestimmte RO-System erzeugt industrielles Reinstwasser (15–18,25 MΩ*cm) ohne chemische Regeneration. Verfügt über zweistufige RO- und EDI-Reinigung, SPS-Automatisierung, auf einem Rahmen montiertes Design und Zertifizierungen (CE, RoHS, SGS). Kundenspezifische Kapazität 0,5–50 m³/h mit SS304/316-Konstruktion für die Elektronik-, Pharma- und neue Energieindustrie.

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Qualität Gewerblich angepasste RO EDI Ultrareines Wassersystem Hohe Reinheit Ausgang Chemikalienfreier Betrieb Fabrik

Gewerblich angepasste RO EDI Ultrareines Wassersystem Hohe Reinheit Ausgang Chemikalienfreier Betrieb

Kundenspezifische industrielle RO+EDI-Reinstwasseraufbereitungsanlagen kombinieren zweistufige RO-Filtration und EDI-Elektroentionisierung, um hochreines entionisiertes Wasser (15–18,25 MΩ*cm) zu erzeugen. Verfügt über einen chemikalienfreien Betrieb, eine intelligente SPS-Steuerung, eine vollständig anpassbare Kapazität (250 l/h bis 5000 l/h), eine auf Kufen montierte Struktur und eine stabile Leistung für die industrielle Produktion.

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