automatic regeneration mixed bed

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Calidad Equipo de intercambiador de iones dúplex para desalinización profunda de suministro continuo de agua Fábrica

Equipo de intercambiador de iones dúplex para desalinización profunda de suministro continuo de agua

El intercambiador de iones de lecho mixto dúplex permite el suministro continuo de agua las 24 horas para grandes fábricas con funcionamiento alternativo de doble tanque. Cuenta con control PLC inteligente, desalinización profunda de alta eficiencia, salida estable de gran flujo y estructura industrial duradera. Ideal para agua ininterrumpida de alta pureza en plantas de fabricación y parques industriales.

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Calidad Equipo integrado de desalinización de aguas profundas EDI de alta pureza de salida ultrapura Fábrica

Equipo integrado de desalinización de aguas profundas EDI de alta pureza de salida ultrapura

El equipo integrado de desalinización de aguas profundas de EDI produce agua ultrapura de 15-18,25 MΩ*cm para la fabricación electrónica mediante RO + EDI de dos etapas. Ofrece 45 % de recuperación, 99,5 % de rechazo de sal, automatización PLC, operación libre de químicos, diseño de patín compacto y garantía de 2 años. Ideal para semiconductores, PCB y electrónica de precisión.

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Calidad Sistema industrial de agua de gran caudal de alta pureza 18.25MΩ·Cm Para limpieza de chips electrónicos Fábrica

Sistema industrial de agua de gran caudal de alta pureza 18.25MΩ·Cm Para limpieza de chips electrónicos

Sistema industrial de agua ultrapura de gran caudal para fábricas de semiconductores y fabricación de chips electrónicos. Presenta un proceso de lecho mixto de pulido RO + EDI + de dos etapas, que produce agua ultrapura de 18,25 MΩ*cm con TOC ≤1 ppb. Caudal personalizable 10-100m³/h, control automatizado PLC, funcionamiento continuo 24h. Cumple con los estándares SEMI/ASTM para limpieza, grabado y producción de chips de obleas.

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Calidad 18.25 MΩ·cm EDI Sistema de agua ultrapura Chip de semiconductor limpieza de productos químicos libre de operación continua Fábrica

18.25 MΩ·cm EDI Sistema de agua ultrapura Chip de semiconductor limpieza de productos químicos libre de operación continua

El sistema de agua ultrapura EDI industrial produce agua con una resistividad de 18,25 MΩ·cm para la limpieza de chips semiconductores. Cuenta con tecnología EDI sin químicos, RO de dos etapas con 99 % de desalinización, automatización PLC y capacidad personalizable de hasta 5000 L/H. Cumple con los estándares SEMI, incluye esterilización UV y 1 año de garantía.

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Calidad Purificador de agua ultrapuro compacto montado en patín 15-18.25MΩ·cm Resistividad EDI Deionización continua Batería de nueva energía Fábrica

Purificador de agua ultrapuro compacto montado en patín 15-18.25MΩ·cm Resistividad EDI Deionización continua Batería de nueva energía

Equipo compacto de agua ultrapura montado sobre patines para la producción de baterías de nueva energía. Cuenta con pretratamiento + proceso RO + EDI de dos etapas, que produce agua de grado electrónico de 15-18,25 MΩ*cm. Diseño compacto plug-and-play, operación EDI sin químicos, control automático PLC y capacidad de expansión modular.

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Calidad Sistema industrial de purificación de agua RO EDI para la fabricación de agua ultrapura Fábrica

Sistema industrial de purificación de agua RO EDI para la fabricación de agua ultrapura

El sistema RO combinado con el módulo EDI produce agua industrial ultrapura (15-18,25 MΩ*cm) sin regeneración química. Cuenta con purificación RO + EDI de dos etapas, automatización PLC, diseño montado sobre patines y certificaciones (CE, RoHS, SGS). Capacidad personalizada de 0,5 a 50 m³/h con construcción SS304/316 para las industrias electrónica, farmacéutica y de nuevas energías.

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Calidad Sistema de agua ultrapura de alta pureza de salida sin productos químicos Fábrica

Sistema de agua ultrapura de alta pureza de salida sin productos químicos

El equipo industrial personalizado de tratamiento de agua ultrapura RO+EDI combina filtración RO de doble etapa y electrodosionización EDI para producir agua desionizada de alta pureza (15-18,25 MΩ*cm). Presenta operación sin químicos, control inteligente PLC, capacidad totalmente personalizable (250L/H-5000L/H), estructura montada sobre patines y rendimiento estable para producción industrial.

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