18.25 MΩ·cm EDI Ultrareinwassersystem Halbleiterchipreinigung Chemikalienfreier Dauerbetrieb

18.25 MΩ·cm EDI Ultrareinwassersystem Halbleiterchipreinigung Chemikalienfreier Dauerbetrieb
Grundlegende Eigenschaften
Herkunftsort: China Shannxi Xian
Markenbezeichnung: QITONG
Immobilienhandel
Mindestbestellmenge: 1
Preis: Price on request
Zahlungsbedingungen: L/C,T/T,D/P
Produktübersicht
Das industrielle EDI-Reinstwassersystem erzeugt Wasser mit einem spezifischen Widerstand von 18,25 MΩ·cm für die Reinigung von Halbleiterchips. Verfügt über chemikalienfreie EDI-Technologie, zweistufige Umkehrosmose mit 99 % Entsalzung, SPS-Automatisierung und anpassbare Kapazität von bis zu 5000 l/h. Konform mit SEMI-Standards, inklusive UV-Sterilisation und 1 Jahr Garantie.
Produktanpassungsattribute
Hervorheben

18.25 MΩ·cm Ultrareines Wassersystem

,

chemikalienfreies EDI-Wassersystem

,

Wassersystem für Halbleiter

Material:
Faltenholzgehäuse, Edelstahl 304, Stahl, EPDM, Korrosionsschutz Kohlenstoffstahl
Garantie:
1 Jahr, 14 Monate, 1 Jahr Garantie und lebenslange Wartung, 3 Jahre, 12 MONATEN
Kundendienst bereitgestellt:
Online-Support, technischer Video-Support, Installation, Inbetriebnahme und Schulung vor Ort, Wartun
Kapazität:
220/380 V, 2000 l/h, 60 Hz, 1–200 m3/h, 500 l/h
Anwendung:
Mineralwasser, Ölfeld, Trinkwasser, Kraftwerk/Ölfeld/Schlachtung/Apotheke usw., Grundwasseraufbereit
Produktname:
Wasseraufbereitungssystem zur Verarbeitung von Umkehrosmoseanlagen, chemisches Dosiersystem, Produkt
Größe:
3000*3000*4500 (mm), 1980*900*1940mm, 190*60*160cm, kundenspezifisch, 0,9x0,9x1,8m
Typ:
RO,Salzwasserreinigungsmaschine,Rohrtyp,Integrativ- oder Bauwesen,RO+EDI usw.
Funktion:
Herstellung von Frischwasser, Ionen, Getränke- oder Lebensmittelunternehmen, Entfernung von Verunrei
Gewicht:
800 kg, 10 t-15 t, 280 kg, 350 kg
Leistung:
2.8kw, 10kg, 380V 50Hz 3-Phasen oder maßgeschneidert, 4KW,0.75
Name:
Behandlung /RO-Kläranlage der Wasseraufbereitungs-2T, RO-Wasser-Reinigungsapparat-System, unterirdis
Farbe:
Wie gewünscht, Weiß, Schwarz, Silber.
Verwendung:
Meerwasser-Ionisator-Entsalzungs-/Trinkwasserreinigungsanlage,RO-Filter,Reinwasserprozess
Entsalzungsrate:
99 %, ≥ 96–98 %, 97 %
Stromspannung:
110V / 220V / 380V
Vorbehandlung:
Tank aus Edelstahl 304 oder FRP, FRP/Edelstahl
Zustand:
Neu
Rohwasser:
Flusswasser/Seewasser/Untergrundwasser, Brunnenwasser, Flusswasser usw., Seewasser, Grundwasser
Produkt-Beschreibung
Detailed Specifications & Features
18,25 MΩ·cm EDI-Reinstwasseraufbereitungsanlage für die Reinigung von Halbleiterchips
Produktübersicht

Dieses EDI-Reinstwassersystem in Industriequalität ist professionell für die Halbleiterfertigung, das Ätzen von Wafern, die Chipreinigung, die Produktion elektronischer Komponenten und hochpräzise Laborexperimente konzipiert. Die Anlage nutzt fortschrittliche zweistufige RO-Umkehrosmose + EDI-Technologie zur kontinuierlichen Elektroentionisierung mit Nachreinigung, um hochreines Reinstwasser mit einem maximalen Widerstand von 18,25 MΩ·cm (@25℃) stabil zu produzieren und damit die strengsten Wasserreinheitsstandards für die industrielle Halbleiterproduktion zu erfüllen.

Im Gegensatz zu herkömmlichen Mischbett-Wasseraufbereitungsgeräten erreicht diese EDI-Reinstwasseranlage eine chemikalienfreie kontinuierliche Entionisierung ohne Säure-Base-Regeneration und verhindert so wirksam eine sekundäre Wasserqualitätsverschmutzung. Es entfernt restliche Ionen, Kolloide, organische Stoffe, Bakterien, Schwermetalle und Kieselsäure gründlich aus dem Rohwasser und stellt sicher, dass die Reinigung von Halbleiterchips nicht durch Verunreinigungen beeinträchtigt wird, während gleichzeitig die Produktausbeute und die Produktionsstabilität erheblich verbessert werden.

Kernarbeitsprinzip

Das System nutzt ein mehrstufiges, abgestuftes Reinigungsdesign, um schrittweise eine ultrahohe Wasserreinheit zu erreichen:

  • Vorbehandlungssystem:Multimediafilter, Aktivkohlefilter und Präzisionssicherheitsfilter fangen effektiv Sedimente, Rost, Algen, große Partikelverunreinigungen und Restchlor ab und schützen so nachfolgende RO-Membran- und EDI-Module
  • Zweistufiges RO-Umkehrosmosesystem:Doppelschichtige hochpräzise RO-Membranfiltration mit einer Entsalzungsrate von bis zu 99,5 %, die die meisten löslichen Salze und organischen Schadstoffe entfernt und gleichzeitig stabiles vorgereinigtes Wasser für das EDI-System liefert
  • EDI-Elektrodeionisierungssystem:Kernreinigungseinheit, die Ionenaustauschharz und elektrische Feldtechnologie für die automatische kontinuierliche Harzregeneration kombiniert und Spuren schwacher Elektrolyte wie Silizium und Bor, die durch RO schwer zu filtern sind, gründlich entfernt
  • Terminalpolier- und Sterilisationssystem:Das UV-TOC-Abbaugerät und der 0,2-μm-Ultrafiltrationsfilter kontrollieren den TOC-Gehalt unter 1 ppb, entfernen restliche Mikroorganismen und sorgen für eine langfristig stabile Wasserqualität in Halbleiterqualität
Wichtige Produktmerkmale
  • Ultrahohe Wasserreinheit und stabile Leistung:Behält einen Wasserwiderstand von 15–18,25 MΩ·cm bei 25 °C bei, TOC ≤ 1 ppb, keine Bakterienrückstände, vollständig konform mit den Standards der SEMI-Halbleiterindustrie
  • Chemiefreier und umweltfreundlicher Betrieb:Keine chemische Regenerierung von Säuren und Laugen, kein Ablassen chemischer Abfallflüssigkeiten, wodurch die Umweltverschmutzung und die Beschaffungskosten für Chemikalien reduziert werden
  • Intelligente automatische Steuerung:Das intelligente SPS-Steuerungssystem mit Vollfarb-Touchscreen ermöglicht die automatische Wasserproduktion, Druckschutz, Abschaltung bei Wassermangel und Fehleralarm mit 24-Stunden-Dauerbetriebsunterstützung
  • Niedrige Betriebs- und Wartungskosten:Das EDI-Modul hat eine lange Lebensdauer, keinen häufigen Austausch von Harzverbrauchsmaterialien, einen geringen Wasser- und Stromverbrauch und eine hohe Rückgewinnungsrate der Wasserproduktion
  • Kompaktes und anpassbares Design:Auf Kufen montierte integrierte Struktur mit geringer Stellfläche, einfacher Installation und Bewegung, anpassbarem Wasserdurchfluss (250 l/h bis 5000 l/h) basierend auf den Produktionsanforderungen
  • Korrosionsschutz und langlebige Konfiguration:Rohrleitungsmaterialien in Lebensmittel- und Elektronikqualität mit antioxidativen und umweltfreundlichen Eigenschaften verhindern eine sekundäre Verschmutzung der Rohrleitung
Hauptanwendungsgebiete
  • Reinigung von Halbleiterwafern, Chipätzung und Lithografieprozesse
  • Elektronische Komponenten-, Leiterplatten- und Präzisionselektronikfertigung
  • Mikroelektronikindustrie und Halbleiterlaboranalyse
  • Hochreine Wasserversorgung für Elektronikwerkstätten mit neuen Energiebatterien
  • Präzisionsinstrumentenbau und hochwertige wissenschaftliche Forschungsexperimente
Technische Parameter
Parameter Spezifikation
Wasserwiderstand am Auslass 15~18,25 MΩ·cm (25℃, stabile Ausgabe)
TOC-Wert ≤1ppb
Wasserproduktionsfluss Angepasst 250L/H, 500L/H, 1000L/H, 2000L/H, 5000L/H
RO-Entsalzungsrate ≥99,5 %
Betriebsmodus Vollautomatischer 24-Stunden-Dauerbetrieb
Kontrollsystem Intelligente SPS-Automatiksteuerung + Touchscreen-Display
Arbeitstemperatur 5℃~45℃
Wiederherstellungsrate ≥90 %
Sterilisationsmethode UV-Sterilisation + Präzisions-Endfiltration
Kundendienst und Service

Wir bieten umfassende Dienstleistungen einschließlich Design, Herstellung, Installation, Inbetriebnahme und Kundendienst. Alle Geräte unterstützen eine individuelle Konfiguration entsprechend unterschiedlicher Halbleiterproduktionsprozesse, mit 1-Jahres-Garantie für die gesamte Maschine und langfristigem technischen Support. Unser professionelles Ingenieurteam im Ausland bietet Fernberatung und Kundendienst, um einen stabilen und effizienten langfristigen Gerätebetrieb sicherzustellen.

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