Sistema industrial de agua de gran caudal de alta pureza 18.25MΩ·Cm Para limpieza de chips electrónicos

Este sistema industrial de agua ultrapura de gran flujo está diseñado profesionalmente para instalaciones de fabricación de semiconductores, producción de obleas, grabado de chips electrónicos, limpieza, pulido y líneas de fabricación de circuitos integrados.

La producción de chips es extremadamente sensible a las microimpurezas. Los iones traza, la sílice, el boro, el carbono orgánico, las partículas diminutas y los microorganismos en el agua pueden provocar cortocircuitos, rayones en las obleas, defectos en los patrones, corrientes de fuga y un bajo rendimiento del chip. Este equipo de agua ultrapura a gran escala emplea un proceso integral de purificación profunda de lecho mixto de pulido RO + EDI + de dos etapas de grado industrial, cumpliendo estrictamente con los estándares de agua de grado electrónico SEMI y ASTM.

El sistema suministra constantemente agua ultrapura de alta pureza de 18,25 MΩ*cm con TOC ultrabajo, partículas ultrabajas y cero residuos microbianos. Es adecuado para el suministro continuo de agua de gran volumen las 24 horas para la limpieza de obleas, procesos de fotolitografía, limpieza de grabado y enjuague de superficies de chips, lo que mejora eficazmente las tasas de calificación de chips terminados y estabiliza la calidad de producción de semiconductores.

• Sistema de pretratamiento industrial de alta carga:El filtro multimedia de gran flujo, el filtro de carbón activado y el sistema de ablandamiento automático eliminan sedimentos masivos, cloro residual, sólidos suspendidos y reducen la dureza del agua cruda, evitando incrustaciones y daños a los elementos centrales de la membrana durante operaciones de alta carga a largo plazo.
• Desalinización de alta eficiencia por RO en dos etapas:Las membranas industriales de OI antiincrustantes y de alto flujo eliminan más del 99,5 % de las sales solubles, coloides y grandes contaminantes orgánicos, logrando una purificación primaria de alta precisión.
• Ajuste de PH y sistema tampón intermedio:El ajuste preciso del pH reduce el dióxido de carbono disuelto y el contenido de silicio residual, optimizando la calidad del agua para la posterior desionización profunda de EDI.
• Desionización continua EDI industrial:El módulo EDI de gran flujo elimina en profundidad trazas de boro, silicio e impurezas iónicas residuales sin regeneración química ácido-base, manteniendo una salida de agua estable de alta resistividad.
• Degradación y esterilización de TOC UV:El dispositivo UV de 185 nm descompone el carbono orgánico total y el UV de 254 nm elimina las bacterias, controlando eficazmente el TOC dentro del nivel de ppb.
• Pulido en lecho mixto y ultrafiltración terminal:El lecho mixto de pulido posterior a la etapa + el filtro de precisión terminal de 0,05 μm/0,22 μm elimina las partículas ultrafinas, lo que garantiza el pleno cumplimiento de los estándares avanzados de agua de proceso de semiconductores.

• Suministro continuo de agua industrial de gran caudal:Gran rendimiento de agua personalizable, de 10 m³/h a 100 m³/h, que admite un funcionamiento ininterrumpido de alta carga las 24 horas para líneas de producción en masa de semiconductores.
• Calidad del agua ultraestable de grado semiconductor:Mantiene constantemente una resistividad de agua ultrapura de 18,25 MΩ*cm, TOC ≤1 ppb, contenido ultrabajo de sílice y boro, control de partículas ultrafinas y cumple plenamente con los requisitos avanzados del proceso de fabricación de chips.
• Control estricto de trazas de impurezas nocivas:Elimina eficazmente microiones y partículas contaminantes que causan defectos en los chips, lo que reduce significativamente la tasa de desguace de obleas y mejora el rendimiento de la producción.
• Antiincrustante industrial y estructura duradera:Utiliza membranas de RO altamente anticontaminación y un diseño mejorado de tuberías industriales, adaptándose a un funcionamiento continuo de alto flujo a largo plazo con una baja tasa de contaminación y una vida útil prolongada.
• Sistema de Control Centralizado Inteligente:Control inteligente centralizado PLC con monitoreo en línea en tiempo real de resistividad, TOC, presión y flujo de agua. El lavado automático, la alarma de fallo y el registro de datos permiten una gestión del taller sin personal.
• Respetuoso con el medio ambiente y bajo costo operativo:La operación EDI libre de químicos elimina la descarga de líquidos residuales químicos. La alta tasa de recuperación de agua conserva el consumo de agua y energía, ideal para la producción en masa en fábrica a largo plazo.

• Fabricación de obleas semiconductoras y limpieza de superficies de obleas
• Circuito integrado IC, agua de proceso de grabado de chips y fotolitografía.
• Limpieza de precisión de componentes electrónicos y enjuague de placas de circuitos.
• Agua de proceso de producción de microelectrónica, transistores y diodos.
• Estación central de agua ultrapura de fábrica de semiconductores avanzados
• Limpieza de instrumentos electrónicos y materiales semiconductores de alta precisión.

Proporcionamos soluciones integrales de ingeniería de tratamiento de agua con semiconductores a gran escala, que incluyen análisis de la calidad del agua cruda, diseño personalizado de procesos, ensamblaje en fábrica, puesta en servicio in situ y soporte técnico global. La capacitación operativa a largo plazo, el diagnóstico remoto de fallas y el suministro completo de repuestos garantizan un suministro de agua ultrapura estable y de alto estándar para las líneas de producción de chips electrónicos.