18.25 MΩ·cm EDI Sistema de agua ultrapura Chip de semiconductor limpieza de productos químicos libre de operación continua
18.25 MΩ·cm Sistema de agua ultrapura
,Sistema de agua EDI libre de productos químicos
,Sistema de agua de grado semiconductor
Este sistema de agua ultrapura EDI de grado industrial está diseñado profesionalmente para la fabricación de semiconductores, grabado de obleas, limpieza de chips, producción de componentes electrónicos,y experimentos de laboratorio de alta precisión. The equipment utilizes advanced two-stage RO reverse osmosis + EDI continuous electrodeionization technology with post-polishing purification to stably produce high-purity ultrapure water with maximum resistivity of 18.25MΩ·cm (@25°C), que cumple con las normas de pureza del agua más estrictas para la producción industrial de semiconductores.
A diferencia de los dispositivos tradicionales de tratamiento de agua de cama mixta, este equipo de agua ultrapura EDI logra una desionización continua libre de químicos sin regeneración ácido-base,prevención eficaz de la contaminación secundaria de la calidad del aguaElimina completamente los iones residuales, coloides, materia orgánica, bacterias, metales pesados y sílice del agua cruda.garantizar la cero interferencia de impurezas en los procesos de limpieza de chips de semiconductores, mejorando significativamente el rendimiento del producto y la estabilidad de la producción.
El sistema emplea un diseño de purificación gradual en varias etapas para lograr progresivamente una pureza de agua ultra alta:
- Sistema de pretratamiento:El filtro multimedial, el filtro de carbón activado y el filtro de seguridad de precisión interceptan eficazmente sedimentos, óxido, algas, impurezas de partículas grandes y cloro residual.Protección de los módulos de membrana RO y EDI posteriores
- Sistema de ósmosis inversa de dos etapas en el sentido inverso:Filtración por membrana RO de alta precisión de doble capa con una tasa de desalinización de hasta el 99,5%, que elimina la mayoría de las sales solubles y los contaminantes orgánicos al tiempo que proporciona agua pre-purificada estable para el sistema EDI
- Sistema de electrodeionización EDI:Unidad de purificación del núcleo que combina resina de intercambio iónico y tecnología de campo eléctrico para la regeneración continua automática de resina,Elimina profundamente los electrolitos débiles como el silicio y el boro que son difíciles de filtrar por el RO
- Sistema de pulido y esterilización de terminales:Dispositivo de degradación del TOC UV y filtro de ultrafiltración de 0,2 μm para controlar el contenido de TOC por debajo de 1ppb, eliminar los microorganismos residuales y garantizar una calidad de agua estable a largo plazo de grado semiconductor
- Ultra alta pureza del agua y salida estable:Mantiene la resistividad al agua de 15-18.25MΩ·cm a 25°C, TOC≤1ppb, cero residuos bacterianos, totalmente conforme con las normas de la industria de semiconductores SEMI
- Operación libre de productos químicos y respetuosa con el medio ambiente:No hay regeneración química ácida y alcalina, no hay descarga líquida de residuos químicos, reduciendo la contaminación ambiental y los costes de adquisición de productos químicos
- Control automático inteligente:Sistema de control inteligente PLC con pantalla táctil a todo color permite la producción automática de agua, protección contra la presión, apagado por escasez de agua y alarma de fallas con soporte de operación continua las 24 horas
- Bajo coste de operación y mantenimiento:El módulo EDI tiene una larga vida útil, no hay sustitución frecuente de los consumibles de resina, bajo consumo de agua y energía, alta tasa de recuperación de la producción de agua
- Diseño compacto y personalizable:Estructura integrada montada en patinaje con una pequeña huella, fácil instalación y movimiento, flujo de agua personalizable (250L/H-5000L/H) según los requisitos de producción
- Configuración anti-corrosión y duradera:Los materiales de tuberías de calidad alimentaria y electrónica con propiedades antioxidantes y antipoluciones previenen la contaminación secundaria de las tuberías
- Procesos de limpieza de obleas semiconductoras, grabado de chips y litografía
- Fabricación de componentes electrónicos, placas de circuitos y electrónica de precisión
- Análisis de laboratorio de la industria microelectrónica y de semiconductores
- Suministro de agua de alta pureza para talleres de electrónica de baterías de nueva energía
- Fabricación de instrumentos de precisión y experimentos de investigación científica de última generación
| Parámetro | Especificación |
|---|---|
| Resistencia del agua de salida | 15~18,25 MΩ·cm (25°C, salida estable) |
| Valor del TOC | ≤ 1 ppm |
| Flujo de producción de agua | Se ha diseñado para 250L/H, 500L/H, 1000L/H, 2000L/H, 5000L/H |
| Tasa de desalinización de la zona | ≥ 99,5% |
| Modo de funcionamiento | Trabajo continuo automático completo las 24 horas |
| Sistema de control | Control automático inteligente PLC + pantalla táctil |
| Temperatura de trabajo | 5°C a 45°C |
| Tasa de recuperación | ≥ 90% |
| Método de esterilización | Esterilización UV + filtración terminal de precisión |
Proporcionamos servicios integrales que incluyen diseño, fabricación, instalación, puesta en marcha y mantenimiento postventa.Todos los equipos admiten configuración personalizada de acuerdo con diferentes procesos de producción de semiconductores, con garantía de un año para toda la máquina y soporte técnico a largo plazo.Nuestro equipo de ingeniería profesional en el extranjero ofrece guía remota y servicio postventa para garantizar un funcionamiento estable y eficiente del equipo a largo plazo.
