Alle Categorieën
chemical free edi system
19 Items Found
Mini compact elektrode-ionisatie EDI-systeem voor chemicaliënvrij laboratoriumgebruik
Mini EDI-elektrode-ionisatiesysteem voor ultrapuurwatereenheden in laboratoria. Continu gebruik zonder chemicaliën produceert stabiel water van 15-18,2 MΩ·cm. Compact ontwerp, weinig onderhoud, hoog herstelpercentage tot 95%. Ideaal voor farmaceutische, halfgeleider- en laboratoriumtoepassingen.
18.25 MΩ·cm EDI Ultrazuiver water systeem Halvergeleiderchip Reiniging Chemische vrij continue werking
Industrieel EDI-systeem voor ultrapuur water produceert water met een weerstand van 18,25MΩ·cm voor het reinigen van halfgeleiderchips. Beschikt over chemicaliënvrije EDI-technologie, tweetraps RO met 99% ontzilting, PLC-automatisering en aanpasbare capaciteit tot 5000 l/u. Voldoet aan de SEMI-normen, inclusief UV-sterilisatie en 1 jaar garantie.
Industrieel gedeioniseerd waterstelsel met hoge stroom voor chemisch vrij gebruik
High Flow EDI-systeem voor nieuwe energiebatterijfabrieken biedt industriële deïonisatie met grote capaciteit met een ontziltingspercentage van 98%, niet-chemische werking en een stabiele waterproductie met hoge zuiverheid. Beschikt over een verbeterde membraanstapel, tweetraps RO-voorbehandeling, intelligente PLC-besturing en ondersteunt een aanpasbare stroom van 5-100 m³/u voor een continue werking van 24 uur.
18.2 Megohm EDI-waterzuiveringssysteem met chemisch vrije regeneratie
Het High Resistivity Stack EDI-systeem produceert ultrapuur water tot 18,2 MΩ·cm voor de productie van halfgeleiders. Beschikt over chemicaliënvrije continue regeneratie, compact gestapeld ontwerp, volledig automatische werking en weinig onderhoud. Biedt een stabiele waterkwaliteit met een herstelpercentage tot 95%.
Custom Industrial RO EDI Ultrazuiver water systeem Hoog zuiverheidsproduct Chemisch vrij gebruik
Op maat gemaakte industriële RO+EDI ultrapuur waterbehandelingsapparatuur combineert dubbeltraps RO-filtratie en EDI-elektrode-ionisatie om zeer zuiver gedeïoniseerd water (15-18,25MΩ*cm) te produceren. Beschikt over een chemicaliënvrije werking, intelligente PLC-besturing, volledig aanpasbare capaciteit (250 l/h-5000 l/h), op een skid gemonteerde structuur en stabiele prestaties voor industriële productie.
RO Postpolijst elektrodeioniseringssysteem EDI met chemisch vrije continue werking
Het RO Post Polishing EDI-systeem vervangt traditionele gemengde bedden door chemicaliënvrije continue werking, stabiele wateropbrengst met hoge zuiverheid en volledige onbeheerde automatisering. Beschikt over ISO 9001- en CE-certificeringen, compacte geïntegreerde structuur en ondersteunt aanpasbare stroom van 0,5-50 m³/u voor upgrades van industriële watersystemen.
Kleine stroom RO EDI Laboratorium waterzuiveringssysteem 18,25 MΩ·cm Resistiviteit Chemische vrije deionisatie
RO EDI ultrapuur waterapparatuur met kleine stroom voor instituutsexperimenten is voorzien van omgekeerde osmose + EDI + polijstharsproces, waardoor water met een weerstand van ≥18,2 MΩ·cm wordt geproduceerd. Compact ontwerp, chemicaliënvrije werking en aanpasbare stroomsnelheden (30T/H) zorgen voor een stabiele experimentele waterkwaliteit voor laboratoria en onderzoeksfaciliteiten.
Industrieel EDI-systeem voor elektrodeionisering van hoge zuiverheid met een weerstand van 18,2 megohm
Industrieel High-Purity EDI-systeem produceert ultrapuur water (18,2 MΩ·cm) met chemicaliënvrije continue regeneratie. Beschikt over een hoog herstel (tot 95%), weinig onderhoud en geautomatiseerde controle. Ideaal voor de farmaceutische industrie, energiecentrales en elektronica-industrie met milieuvriendelijke werking.
Stack Membrane Electrodeionisation EDI-systeem voor ultrazuivere halfgeleiders
Het High Resistivity Stack EDI-systeem produceert ultrapuur water tot 18,2 MΩ·cm voor de productie van halfgeleiders. Beschikt over chemicaliënvrije continue regeneratie, tot 95% waterterugwinning en een stabiele werking met weinig onderhoud. Ideaal voor hoogwaardige industriële ultrapuurwaterprojecten.
