Все категории
chemical free edi system
19 Items Found
Мини компактная электродионизационная система EDI для химически свободной лабораторной работы
Система электродеионизации Mini EDI для лабораторных установок сверхчистой воды. Непрерывная работа без использования химикатов позволяет получить стабильную воду с сопротивлением 15-18,2 МОм·см. Компактная конструкция, низкие эксплуатационные расходы, высокая степень восстановления до 95%. Идеально подходит для фармацевтического, полупроводникового и лабораторного применения.
18.25 MΩ·cm EDI Ультрачистая система водоснабжения Полупроводниковые чипы Чистка химикатов Бесперебойная работа
Промышленная система сверхчистой воды EDI производит воду с удельным сопротивлением 18,25 МОм·см для очистки полупроводниковых чипов. Имеет безхимическую технологию EDI, двухступенчатый RO с опреснением 99%, автоматизацию ПЛК и настраиваемую производительность до 5000 л/ч. Соответствует стандартам SEMI, включает УФ-стерилизацию и гарантию 1 год.
Промышленная деионизированная система водоснабжения с высоким потоком для работы без химических веществ
Система High Flow EDI для заводов по производству новых энергетических батарей предлагает промышленную деионизацию большой мощности со степенью опреснения 98%, нехимическую работу и стабильную производительность воды высокой чистоты. Имеет модернизированный пакет мембран, двухступенчатую предварительную очистку обратного осмоса, интеллектуальное управление ПЛК и поддерживает настраиваемый поток 5–100 м³/ч для непрерывной круглосуточной работы.
18.2 Система очистки воды Megohm EDI с химически свободной регенерацией
Система EDI с высоким удельным сопротивлением производит сверхчистую воду с сопротивлением до 18,2 МОм·см для производства полупроводников. Отличается непрерывной регенерацией без использования химикатов, компактной многоярусной конструкцией, полностью автоматической работой и низкими эксплуатационными расходами. Обеспечивает стабильное качество воды с коэффициентом восстановления до 95%.
Промышленная RO EDI Ультрачистая система водоснабжения Высокая чистота Выход без химических веществ
Изготовленное на заказ промышленное оборудование для очистки сверхчистой воды RO+EDI сочетает в себе двухступенчатую RO-фильтрацию и электродионизацию EDI для производства деионизированной воды высокой чистоты (15-18,25 МОм*см). Отличается работой без химикатов, интеллектуальным управлением ПЛК, полностью настраиваемой производительностью (250 л/ч-5000 л/ч), смонтированной на раме конструкцией и стабильной производительностью для промышленного производства.
RO Система EDI электродионизации после полировки с непрерывной работой без химических веществ
Система RO Post Polishing EDI заменяет традиционные смешанные слои непрерывной работой без использования химикатов, стабильной производительностью воды высокой чистоты и полной автоматической автоматизацией. Имеет сертификаты ISO 9001 и CE, компактную интегрированную конструкцию и поддерживает настраиваемый расход 0,5–50 м³/ч для модернизации промышленной системы водоснабжения.
Небольшая деионизация сопротивления лабораторной системы очистки воды РО ЭДИ 18,25 МОм·см химическая свободная
Оборудование для сверхчистой воды RO EDI с малым расходом для институтских экспериментов использует процесс обратного осмоса + EDI + полировочную смолу, производя воду с удельным сопротивлением ≥18,2 МОм·см. Компактная конструкция, работа без использования химикатов и настраиваемая скорость потока (30 т/ч) обеспечивают стабильное качество экспериментальной воды для лабораторий и исследовательских учреждений.
Промышленная высокочистая электродионизационная система EDI с сопротивлением 18,2 мегом
Промышленная система EDI высокой чистоты производит сверхчистую воду (18,2 МОм·см) с непрерывной регенерацией без применения химикатов. Отличается высокой степенью извлечения (до 95%), низкими эксплуатационными расходами и автоматизированным контролем. Идеально подходит для фармацевтической, электроэнергетической и электронной промышленности с экологически чистой работой.
Система EDI с мембранной мембранной электродеионизацией для сверхчистых полупроводников
Система EDI с высоким удельным сопротивлением производит сверхчистую воду с сопротивлением до 18,2 МОм·см для производства полупроводников. Отличается непрерывной регенерацией без использования химикатов, рекуперацией воды до 95% и стабильной работой с низкими требованиями к техническому обслуживанию. Идеально подходит для проектов по производству сверхчистой воды, отвечающих высоким стандартам.
