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chemical free edi system
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化学物質を含まない研究室運営のためのミニコンパクト電気脱イオン EDI システム
ラボ用超純水ユニット用のミニ EDI 電気脱イオンシステム。薬品を使用しない連続運転により、安定した15～18.2MΩ・cmの水を生成します。コンパクトな設計、メンテナンスの手間がかからず、最大 95% の高い回収率。製薬、半導体、実験室の用途に最適です。
18.25 MΩ・cm EDI超純水システム半導体チップ洗浄ケミカルフリー連続運転
工業用EDI超純水システムは、半導体チップ洗浄用に比抵抗18.25MΩ・cmの水を生成します。化学薬品を使用しない EDI テクノロジー、99% 脱塩の 2 段階 RO、PLC 自動化、および最大 5000L/H までのカスタマイズ可能な容量が特徴です。 SEMI規格に準拠し、UV滅菌と1年間の保証が含まれます。
高流量産業用無電化水システム
新エネルギー電池工場向けの High Flow EDI システムは、98% の脱塩率、化学物質を使用しない操作、安定した高純度水出力による大容量の工業用脱イオンを提供します。アップグレードされた膜スタック、2 段階 RO 前処理、PLC インテリジェント制御を備え、5 ～ 100m3/h のカスタマイズ可能な流量をサポートし、連続 24 時間稼働します。
18.2 メゴム・EDI 水処理システム 化学薬品のない再生
高抵抗スタック EDI システムは、半導体製造用に最大 18.2 MΩ・cm の超純水を生成します。化学薬品を使用しない連続再生、コンパクトなスタック設計、完全自動操作、および低メンテナンスが特徴です。最大95%の回収率で安定した水質を実現します。
カスタム産業用 RO EDI 超純水システム高純度出力化学物質フリー操作
カスタム工業用 RO+EDI 超純水処理装置は、二段 RO ろ過と EDI 電気脱イオンを組み合わせて、高純度の脱イオン水 (15 ～ 18.25MΩ*cm) を生成します。化学薬品を使用しない操作、PLC インテリジェント制御、完全にカスタマイズ可能な容量 (250L/H-5000L/H)、スキッドマウント構造、工業生産向けの安定したパフォーマンスが特徴です。
RO 化学薬品のない連続動作の電極電離化EDIシステム
RO ポスト研磨 EDI システムは、化学薬品を使用しない連続運転、安定した高純度水の出力、および完全な無人自動化により、従来の混合床を置き換えます。 ISO 9001 および CE 認証を取得し、コンパクトな統合構造を備え、工業用水システムのアップグレード向けに 0.5 ～ 50m3/h のカスタマイズ可能な流量をサポートします。
小流 RO EDI 研究室用水浄化システム 18.25 MΩ·cm 抵抗性 化学的無離子化
研究所実験用の小流量RO EDI超純水装置は、逆浸透+EDI+研磨樹脂プロセスを特徴とし、比抵抗18.2MΩ・cm以上の水を生成します。コンパクトな設計、化学薬品を使用しない操作、カスタマイズ可能な流量 (30T/H) により、実験室や研究施設の安定した実験用水質が保証されます。
工業用高純度電極電離化EDIシステム 18.2 メゴム抵抗力
工業用高純度EDIシステムは、薬品を使用しない連続再生により超純水（18.2MΩ・cm）を生成します。高い回収率 (最大 95%)、低メンテナンス、自動制御が特徴です。環境に優しい操作により、製薬、発電所、電子産業に最適です。
半導体グレードの超高純度用スタック膜電気脱イオン EDI システム
高抵抗スタック EDI システムは、半導体製造用に最大 18.2 MΩ・cm の超純水を生成します。化学物質を使用しない連続再生、最大 95% の水回収、およびメンテナンスの必要性が低い安定した動作が特徴です。高水準の工業用超純水プロジェクトに最適です。
