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mixed bed deionizer
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Gewerblich angepasste RO EDI Ultrareines Wassersystem Hohe Reinheit Ausgang Chemikalienfreier Betrieb
Kundenspezifische industrielle RO+EDI-Reinstwasseraufbereitungsanlagen kombinieren zweistufige RO-Filtration und EDI-Elektroentionisierung, um hochreines entionisiertes Wasser (15–18,25 MΩ*cm) zu erzeugen. Verfügt über einen chemikalienfreien Betrieb, eine intelligente SPS-Steuerung, eine vollständig anpassbare Kapazität (250 l/h bis 5000 l/h), eine auf Kufen montierte Struktur und eine stabile Leistung für die industrielle Produktion.
RO EDI-System für die Elektrodeionisierung nach dem Polieren mit chemiefreiem Dauerbetrieb
Das RO Post Polishing EDI-System ersetzt herkömmliche Mischbetten durch einen chemikalienfreien Dauerbetrieb, eine stabile Ausgabe von hochreinem Wasser und eine vollständige unbeaufsichtigte Automatisierung. Verfügt über ISO 9001- und CE-Zertifizierungen, eine kompakte integrierte Struktur und unterstützt einen anpassbaren Durchfluss von 0,5–50 m³/h für industrielle Wassersystem-Upgrades.
Industrielles Wassersystem mit hoher Reinheit mit großem Durchfluss 18,25 MΩ·Cm zur Reinigung elektronischer Chips
Industrielles Reinstwassersystem mit großem Durchfluss für Halbleiterfabriken und die Herstellung elektronischer Chips. Verfügt über einen zweistufigen RO + EDI + Polier-Mischbettprozess, der 18,25 MΩ*cm hochreines Wasser mit einem TOC ≤1 ppb erzeugt. Anpassbarer Durchfluss 10–100 m³/h, automatisierte SPS-Steuerung, 24-Stunden-Dauerbetrieb. Entspricht den SEMI/ASTM-Standards für Waferreinigung, Ätzen und Chipproduktion.
EDI integrierte Tiefwasserentsalzungsausrüstung hohe Reinheit ultrareine Ausgabe umweltfreundlicher Betrieb
Die integrierte Tiefenwasserentsalzungsanlage von EDI erzeugt über zweistufige RO + EDI ultrareines Wasser mit 15–18,25 MΩ*cm für die Elektronikfertigung. Verfügt über 45 % Rückgewinnung, 99,5 % Salzrückhaltung, SPS-Automatisierung, chemikalienfreien Betrieb, kompaktes Skid-Design und 2 Jahre Garantie. Ideal für Halbleiter, Leiterplatten und Präzisionselektronik.
Mini-kompakte Elektrodeionisierung EDI-System für chemiefreien Laborbetrieb
Mini-EDI-Elektroentionisierungssystem für Labor-Reinstwassereinheiten. Der chemikalienfreie Dauerbetrieb erzeugt stabiles Wasser mit 15–18,2 MΩ·cm. Kompaktes Design, geringer Wartungsaufwand, hohe Rückgewinnungsrate von bis zu 95 %. Ideal für Pharma-, Halbleiter- und Laboranwendungen.
18.25 MΩ·cm EDI Ultrareinwassersystem Halbleiterchipreinigung Chemikalienfreier Dauerbetrieb
Das industrielle EDI-Reinstwassersystem erzeugt Wasser mit einem spezifischen Widerstand von 18,25 MΩ·cm für die Reinigung von Halbleiterchips. Verfügt über chemikalienfreie EDI-Technologie, zweistufige Umkehrosmose mit 99 % Entsalzung, SPS-Automatisierung und anpassbare Kapazität von bis zu 5000 l/h. Konform mit SEMI-Standards, inklusive UV-Sterilisation und 1 Jahr Garantie.
