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mixed bed deionizer
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Opération libre chimique de sortie de grande pureté industrielle faite sur commande de système d'eau de RO EDI
L'équipement industriel personnalisé de traitement de l'eau ultrapure RO+EDI combine une filtration RO en deux étapes et une électrodéionisation EDI pour produire de l'eau désionisée de haute pureté (15-18,25 MΩ*cm). Comprend un fonctionnement sans produits chimiques, un contrôle intelligent PLC, une capacité entièrement personnalisable (250 L/H-5 000 L/H), une structure montée sur patins et des performances stables pour la production industrielle.
Système EDI d'électrodéionisation de post-polissage RO avec fonctionnement continu sans produits chimiques
Le système EDI de post-polissage RO remplace les lits mélangés traditionnels par un fonctionnement continu sans produits chimiques, un débit d'eau stable de haute pureté et une automatisation complète sans surveillance. Dispose des certifications ISO 9001 et CE, d'une structure intégrée compacte et prend en charge un débit personnalisable de 0,5 à 50 m³/h pour les mises à niveau du système d'eau industriel.
Système industriel d'eau de haute pureté à grand débit 18,25 MΩ·Cm Pour le nettoyage de puces électroniques
Système industriel d’eau ultrapure à grand débit pour les usines de semi-conducteurs et la fabrication de puces électroniques. Comprend un processus de lit mélangé RO + EDI + polissage en deux étapes, produisant 18,25 MΩ*cm d'eau ultra pure avec un COT ≤ 1 ppb. Débit personnalisable 10-100m³/h, contrôle automatisé PLC, fonctionnement continu 24h/24. Conforme aux normes SEMI/ASTM pour le nettoyage, la gravure et la production de plaquettes.
Équipement de dessalement d'eau profonde intégré EDI de haute pureté de sortie ultrapure
L'équipement de dessalement d'eau profonde intégré EDI produit de l'eau ultra pure de 15 à 18,25 MΩ*cm pour la fabrication électronique via RO + EDI en deux étapes. Comprend une récupération de 45 %, un rejet de sel de 99,5 %, une automatisation PLC, un fonctionnement sans produits chimiques, une conception compacte et une garantie de 2 ans. Idéal pour les semi-conducteurs, les PCB et l'électronique de précision.
Mini système EDI d'électrodéionisation compact pour un fonctionnement en laboratoire sans produits chimiques
Mini système d'électrodéionisation EDI pour les unités d'eau ultra pure de laboratoire. Un fonctionnement continu sans produits chimiques produit une eau stable de 15 à 18,2 MΩ·cm. Conception compacte, faible maintenance, taux de récupération élevé jusqu'à 95 %. Idéal pour les applications pharmaceutiques, de semi-conducteurs et de laboratoire.
18.25 MΩ·cm EDI Système d'eau ultrapure Système de puces semi-conducteurs Nettoyage continu sans produits chimiques
Le système d'eau ultrapure EDI industriel produit une eau de résistivité de 18,25 MΩ·cm pour le nettoyage des puces semi-conductrices. Doté d'une technologie EDI sans produits chimiques, d'une osmose inverse en deux étapes avec dessalement à 99 %, d'une automatisation PLC et d'une capacité personnalisable jusqu'à 5 000 L/H. Conforme aux normes SEMI, comprend la stérilisation UV et une garantie d'un an.
