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mixed bed deionizer
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Sistema de agua ultrapura de alta pureza de salida sin productos químicos
El equipo industrial personalizado de tratamiento de agua ultrapura RO+EDI combina filtración RO de doble etapa y electrodosionización EDI para producir agua desionizada de alta pureza (15-18,25 MΩ*cm). Presenta operación sin químicos, control inteligente PLC, capacidad totalmente personalizable (250L/H-5000L/H), estructura montada sobre patines y rendimiento estable para producción industrial.
RO Sistema EDI de electrodeionización después del pulido con funcionamiento continuo libre de químicos
El sistema EDI de postpulido RO reemplaza los lechos mixtos tradicionales con un funcionamiento continuo sin productos químicos, una salida estable de agua de alta pureza y una automatización completa sin supervisión. Cuenta con certificaciones ISO 9001 y CE, estructura integrada compacta y admite un flujo personalizable de 0,5 a 50 m³/h para actualizaciones del sistema de agua industrial.
Sistema industrial de agua de gran caudal de alta pureza 18.25MΩ·Cm Para limpieza de chips electrónicos
Sistema industrial de agua ultrapura de gran caudal para fábricas de semiconductores y fabricación de chips electrónicos. Presenta un proceso de lecho mixto de pulido RO + EDI + de dos etapas, que produce agua ultrapura de 18,25 MΩ*cm con TOC ≤1 ppb. Caudal personalizable 10-100m³/h, control automatizado PLC, funcionamiento continuo 24h. Cumple con los estándares SEMI/ASTM para limpieza, grabado y producción de chips de obleas.
Equipo integrado de desalinización de aguas profundas EDI de alta pureza de salida ultrapura
El equipo integrado de desalinización de aguas profundas de EDI produce agua ultrapura de 15-18,25 MΩ*cm para la fabricación electrónica mediante RO + EDI de dos etapas. Ofrece 45 % de recuperación, 99,5 % de rechazo de sal, automatización PLC, operación libre de químicos, diseño de patín compacto y garantía de 2 años. Ideal para semiconductores, PCB y electrónica de precisión.
Mini sistema EDI de electrodesionización compacto para funcionamiento de laboratorio sin productos químicos
Mini sistema de electrodosionización EDI para unidades de agua ultrapura de laboratorio. El funcionamiento continuo sin productos químicos produce agua estable de 15 a 18,2 MΩ·cm. Diseño compacto, bajo mantenimiento, alta tasa de recuperación de hasta el 95%. Ideal para aplicaciones farmacéuticas, de semiconductores y de laboratorio.
18.25 MΩ·cm EDI Sistema de agua ultrapura Chip de semiconductor limpieza de productos químicos libre de operación continua
El sistema de agua ultrapura EDI industrial produce agua con una resistividad de 18,25 MΩ·cm para la limpieza de chips semiconductores. Cuenta con tecnología EDI sin químicos, RO de dos etapas con 99 % de desalinización, automatización PLC y capacidad personalizable de hasta 5000 L/H. Cumple con los estándares SEMI, incluye esterilización UV y 1 año de garantía.
