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water desalination system
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Sistema di trattamento dell'acqua per osmosi inversa in acciaio inossidabile di grado alimentare 304 Tasso di desalinizzazione del 99%
Sistema di trattamento dell'acqua RO per uso alimentare per fabbriche alimentari. Presenta struttura in acciaio inossidabile 304, tasso di desalinizzazione ≥99%, funzionamento PLC completamente automatico e capacità personalizzabile. Garantisce acqua di processo pura e igienica che soddisfa gli standard di sicurezza alimentare.
Sistema idrico ad alta purezza di uscita senza prodotti chimici
Le apparecchiature industriali personalizzate per il trattamento dell'acqua ultrapura RO+EDI combinano la filtrazione RO a doppio stadio e l'elettrodeionizzazione EDI per produrre acqua deionizzata di elevata purezza (15-18,25 MΩ*cm). Presenta funzionamento senza sostanze chimiche, controllo intelligente PLC, capacità completamente personalizzabile (250 L/H-5000 L/H), struttura montata su skid e prestazioni stabili per la produzione industriale.
Sistema di moduli EDI industriali ad alta temperatura per la galvanica dell'acqua deionizzata
Sistema EDI resistente alle alte temperature per la galvanica dell'acqua deionizzata, dotato di membrane resistenti al calore, funzionamento non chimico e automazione PLC. Fornisce acqua stabile di grado galvanico (15-18,2 MΩ*cm) con capacità di 50-500 l/ora, ideale per ambienti di officina difficili.
Sistema di osmosi inversa compatto a basso consumo energetico, elevato tasso di desalinizzazione
Sistema ad osmosi inversa con capacità 0,5-100 m³/h, certificato CE/SGS. Presenta un elevato tasso di desalinizzazione, un design compatto, un basso consumo energetico e un controllo automatico. Adatto per il trattamento delle acque industriali con struttura in acciaio inossidabile e compatibilità di tensione globale.
Equipaggiamento per l'acqua ultrapura a doppio stadio RO EDI Deionizzazione Capacità personalizzata 0,5-50 m3/h
Attrezzatura industriale anticorrosione completa per acqua ultrapura per officine galvaniche. Dispone di deionizzazione RO + EDI a doppio stadio, rimuove ioni cloruro/metalli pesanti, capacità di 0,5-50 m³/h. Il design antiruggine si adatta agli ambienti corrosivi, funzionamento automatico 24 ore su 24 con controllo PLC per un'uscita stabile di acqua a bassa conduttività.
18.25 MΩ·cm EDI Sistema idrico ultrapuro
Il sistema di acqua ultrapura EDI industriale produce acqua con resistività di 18,25 MΩ·cm per la pulizia dei chip semiconduttori. Presenta tecnologia EDI priva di sostanze chimiche, RO a due stadi con desalinizzazione al 99%, automazione PLC e capacità personalizzabile fino a 5000 L/H. Conforme agli standard SEMI, include sterilizzazione UV e garanzia di 1 anno.
Prodotti farmaceutici per acqua sterile ultrapura Equipaggiamento per sterilizzazione UV Dispositivo per il controllo a basso TOC Conformità ai GMP
Attrezzatura farmaceutica sterile per acqua ultrapura con dispositivo di sterilizzazione UV. Dispone di serbatoio sterile da 316 litri, purificazione RO+EDI, sterilizzazione UV, pulizia CIP e conformità GMP/USP/EP. Fornisce resistività stabile di 15-18,25 MΩ*cm, TOC basso, zero batteri per iniezione, prodotti biologici e produzione farmaceutica.
Sistema di depurazione dell'acqua di laboratorio RO EDI a piccolo flusso 18,25 MΩ·cm Resistività Deionizzazione chimica libera
L'attrezzatura per acqua ultrapura RO EDI a piccolo flusso per esperimenti in istituto è caratterizzata da osmosi inversa + EDI + processo con resina lucidante, che produce acqua con resistività ≥18,2 MΩ·cm. Il design compatto, il funzionamento senza sostanze chimiche e le portate personalizzabili (30 T/H) garantiscono una qualità dell'acqua sperimentale stabile per laboratori e strutture di ricerca.
Sistema idrico industriale ad alto flusso di alta purezza 18,25MΩ·Cm Per la pulizia dei chip elettronici
Sistema industriale per acqua ultrapura a grande flusso per fabbriche di semiconduttori e produzione di chip elettronici. Presenta un processo a letto misto RO + EDI + lucidatura a due stadi, che produce acqua ultrapura da 18,25 MΩ*cm con TOC ≤ 1 ppb. Portata personalizzabile 10-100m³/h, controllo automatizzato PLC, funzionamento continuo 24 ore su 24. Conforme agli standard SEMI/ASTM per la pulizia, l'incisione e la produzione di chip dei wafer.
