Все категории
water desalination system
51 Items Found
Система очистки воды с обратным осмосом из нержавеющей стали 304 пищевого качества Степень опреснения 99%
Пищевая система очистки воды RO для пищевых предприятий. Имеет конструкцию из нержавеющей стали 304, степень опреснения ≥99%, полностью автоматическую работу ПЛК и настраиваемую производительность. Обеспечивает чистую, гигиеничную техническую воду, соответствующую стандартам безопасности пищевых продуктов.
Промышленная RO EDI Ультрачистая система водоснабжения Высокая чистота Выход без химических веществ
Изготовленное на заказ промышленное оборудование для очистки сверхчистой воды RO+EDI сочетает в себе двухступенчатую RO-фильтрацию и электродионизацию EDI для производства деионизированной воды высокой чистоты (15-18,25 МОм*см). Отличается работой без химикатов, интеллектуальным управлением ПЛК, полностью настраиваемой производительностью (250 л/ч-5000 л/ч), смонтированной на раме конструкцией и стабильной производительностью для промышленного производства.
Система высокотемпературных промышленных модулей EDI для электропластинки деионизированной воды
Устойчивая к высоким температурам система EDI для гальванизации деионизированной воды, оснащенная термостойкими мембранными пакетами, нехимическим режимом работы и автоматизацией ПЛК. Обеспечивает стабильную воду для гальванотехники (15–18,2 МОм*см) с производительностью 50–500 л/час, что идеально подходит для суровых условий мастерской.
Компактная низкая энергопотребление система обратного осмоса высокая скорость опреснения очистка воды
Система обратного осмоса производительностью 0,5–100 м³/ч, сертифицирована CE/SGS. Отличается высокой скоростью опреснения, компактной конструкцией, низким энергопотреблением и автоматическим управлением. Подходит для промышленной очистки воды благодаря конструкции из нержавеющей стали и совместимости с глобальным напряжением.
Электропластировка Противокоррозионное Ультрачистое водоснабжение Двухступенчатое RO EDI Деионизация Качественная мощность 0,5-50 м3/ч
Полностью антикоррозийное промышленное оборудование для сверхчистой воды для гальванических цехов. Имеет двухступенчатую деионизацию RO + EDI, удаляет ионы хлоридов/тяжелых металлов, производительность 0,5–50 м³/ч. Антикоррозийная конструкция адаптируется к агрессивным средам, круглосуточная автоматическая работа с управлением ПЛК для стабильного выхода воды с низкой проводимостью.
18.25 MΩ·cm EDI Ультрачистая система водоснабжения Полупроводниковые чипы Чистка химикатов Бесперебойная работа
Промышленная система сверхчистой воды EDI производит воду с удельным сопротивлением 18,25 МОм·см для очистки полупроводниковых чипов. Имеет безхимическую технологию EDI, двухступенчатый RO с опреснением 99%, автоматизацию ПЛК и настраиваемую производительность до 5000 л/ч. Соответствует стандартам SEMI, включает УФ-стерилизацию и гарантию 1 год.
Фармацевтическое Стерильное Ультрачистое Водное Оборудование УФ-Стерилизационное Устройство Низкий контроль TOC Соответствие GMP
Фармацевтическое оборудование для стерильной сверхчистой воды с устройством УФ-стерилизации. Имеет стерильный резервуар емкостью 316 л, очистку RO+EDI, УФ-стерилизацию, CIP-мойку и соответствие требованиям GMP/USP/EP. Обеспечивает стабильное удельное сопротивление 15–18,25 МОм*см, низкий уровень TOC, отсутствие бактерий для инъекций, биологических продуктов и фармацевтического производства.
Небольшая деионизация сопротивления лабораторной системы очистки воды РО ЭДИ 18,25 МОм·см химическая свободная
Оборудование для сверхчистой воды RO EDI с малым расходом для институтских экспериментов использует процесс обратного осмоса + EDI + полировочную смолу, производя воду с удельным сопротивлением ≥18,2 МОм·см. Компактная конструкция, работа без использования химикатов и настраиваемая скорость потока (30 т/ч) обеспечивают стабильное качество экспериментальной воды для лабораторий и исследовательских учреждений.
Промышленная система водоснабжения высокой чистоты с большим потоком 18,25 МΩ·См для очистки электронных чипов
Промышленная крупнопоточная система сверхчистой воды для заводов по производству полупроводников и производства электронных чипов. Имеет двухэтапный процесс RO + EDI + полировки в смешанном слое, производящий сверхчистую воду с сопротивлением 18,25 МОм*см и TOC ≤1ppb. Настраиваемый расход 10-100 м³/ч, автоматическое управление ПЛК, непрерывная работа 24 часа. Соответствует стандартам SEMI/ASTM по очистке пластин, травлению и производству чипов.
