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water desalination system
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Umkehrosmose-Wasseraufbereitungssystem aus Edelstahl 304 in Lebensmittelqualität, 99 % Entsalzungsrate
RO-Wasseraufbereitungssystem in Lebensmittelqualität für Lebensmittelfabriken. Verfügt über eine Konstruktion aus Edelstahl 304, eine Entsalzungsrate von ≥99 %, einen vollautomatischen SPS-Betrieb und eine anpassbare Kapazität. Gewährleistet reines, hygienisches Prozesswasser, das den Lebensmittelsicherheitsstandards entspricht.
Gewerblich angepasste RO EDI Ultrareines Wassersystem Hohe Reinheit Ausgang Chemikalienfreier Betrieb
Kundenspezifische industrielle RO+EDI-Reinstwasseraufbereitungsanlagen kombinieren zweistufige RO-Filtration und EDI-Elektroentionisierung, um hochreines entionisiertes Wasser (15–18,25 MΩ*cm) zu erzeugen. Verfügt über einen chemikalienfreien Betrieb, eine intelligente SPS-Steuerung, eine vollständig anpassbare Kapazität (250 l/h bis 5000 l/h), eine auf Kufen montierte Struktur und eine stabile Leistung für die industrielle Produktion.
Hochtemperaturindustrielles EDI-Modulsystem zur Elektrobearbeitung des deionisierten Wassers
Hochtemperaturbeständiges EDI-System zur Galvanisierung von entionisiertem Wasser mit hitzebeständigen Membranstapeln, nichtchemischem Betrieb und SPS-Automatisierung. Bietet stabiles Wasser in Galvanikqualität (15–18,2 MΩ*cm) mit einer Kapazität von 50–500 l/Stunde, ideal für raue Werkstattumgebungen.
Kompakter, niedriger Energieverbrauch, Umkehrosmose-System, hohe Entsalzung
Umkehrosmoseanlage mit 0,5-100 m³/h Kapazität, CE/SGS zertifiziert. Verfügt über eine hohe Entsalzungsrate, ein kompaktes Design, einen geringen Energieverbrauch und eine automatische Steuerung. Geeignet für die industrielle Wasseraufbereitung mit Edelstahlkonstruktion und globaler Spannungskompatibilität.
Elektroplattierung Anti-Korrosion Ultrareinwasser Ausrüstung Doppelstadium RO EDI Deionisierung
Vollständig korrosionsbeständige industrielle Reinstwasserausrüstung für Galvanikwerkstätten. Verfügt über eine zweistufige RO- und EDI-Deionisierung, entfernt Chlorid-/Schwermetallionen und hat eine Kapazität von 0,5–50 m³/h. Das rostfreie Design passt sich korrosiven Umgebungen an, automatischer 24-Stunden-Betrieb mit SPS-Steuerung für eine stabile Wasserabgabe mit niedriger Leitfähigkeit.
18.25 MΩ·cm EDI Ultrareinwassersystem Halbleiterchipreinigung Chemikalienfreier Dauerbetrieb
Das industrielle EDI-Reinstwassersystem erzeugt Wasser mit einem spezifischen Widerstand von 18,25 MΩ·cm für die Reinigung von Halbleiterchips. Verfügt über chemikalienfreie EDI-Technologie, zweistufige Umkehrosmose mit 99 % Entsalzung, SPS-Automatisierung und anpassbare Kapazität von bis zu 5000 l/h. Konform mit SEMI-Standards, inklusive UV-Sterilisation und 1 Jahr Garantie.
Pharmazeutische Sterile Ultrareine Wasseranlage UV-Sterilisationsvorrichtung Niedrige TOC-Kontrolle GMP-Konformität
Pharmazeutische sterile Reinstwasserausrüstung mit UV-Sterilisationsgerät. Verfügt über einen sterilen 316-L-Tank, RO+EDI-Reinigung, UV-Sterilisation, CIP-Reinigung und GMP/USP/EP-Konformität. Bietet einen stabilen spezifischen Widerstand von 15–18,25 MΩ*cm, einen niedrigen TOC und keine Bakterien für Injektionen, biologische Produkte und die pharmazeutische Produktion.
Wasserreinigungssystem für kleine Flüsse (RO EDI) 18,25 MΩ·cm Widerstandsfähigkeit chemisch freie Deionisierung
RO-EDI-Reinstwassergeräte mit kleinem Durchfluss für Institutsexperimente verfügen über einen Umkehrosmose-, EDI- und Polierharzprozess und erzeugen Wasser mit einem spezifischen Widerstand von ≥18,2 MΩ·cm. Kompaktes Design, chemiefreier Betrieb und anpassbare Durchflussraten (30 T/h) gewährleisten eine stabile experimentelle Wasserqualität für Labore und Forschungseinrichtungen.
Industrielles Wassersystem mit hoher Reinheit mit großem Durchfluss 18,25 MΩ·Cm zur Reinigung elektronischer Chips
Industrielles Reinstwassersystem mit großem Durchfluss für Halbleiterfabriken und die Herstellung elektronischer Chips. Verfügt über einen zweistufigen RO + EDI + Polier-Mischbettprozess, der 18,25 MΩ*cm hochreines Wasser mit einem TOC ≤1 ppb erzeugt. Anpassbarer Durchfluss 10–100 m³/h, automatisierte SPS-Steuerung, 24-Stunden-Dauerbetrieb. Entspricht den SEMI/ASTM-Standards für Waferreinigung, Ätzen und Chipproduktion.
