Alle Categorieën
water desalination system
51 Items Found
Voedingsmiddelenkwaliteit 304 roestvrij staal Omgekeerde osmose waterzuiveringssysteem 99% ontzilting
Voedselveilig RO-waterbehandelingssysteem voor voedselfabrieken. Beschikt over een constructie van 304 roestvrij staal, een ontziltingspercentage van ≥99%, volledig automatische PLC-bediening en aanpasbare capaciteit. Zorgt voor zuiver, hygiënisch proceswater dat voldoet aan de voedselveiligheidsnormen.
Custom Industrial RO EDI Ultrazuiver water systeem Hoog zuiverheidsproduct Chemisch vrij gebruik
Op maat gemaakte industriële RO+EDI ultrapuur waterbehandelingsapparatuur combineert dubbeltraps RO-filtratie en EDI-elektrode-ionisatie om zeer zuiver gedeïoniseerd water (15-18,25MΩ*cm) te produceren. Beschikt over een chemicaliënvrije werking, intelligente PLC-besturing, volledig aanpasbare capaciteit (250 l/h-5000 l/h), op een skid gemonteerde structuur en stabiele prestaties voor industriële productie.
Hoogtemperatuur industrieel EDI-modulesysteem voor het elektroplateren van gedeïoniseerd water
Bestand tegen hoge temperaturen EDI-systeem voor het galvaniseren van gedeïoniseerd water, met hittebestendige membraanstapels, niet-chemische werking en PLC-automatisering. Levert stabiel water van galvanische kwaliteit (15-18,2 MΩ*cm) met een capaciteit van 50-500 l/uur, ideaal voor zware werkplaatsomgevingen.
Compact laag energieverbruik Omgekeerd osmose systeem Hoog ontziltingspercentage Waterzuivering
Omgekeerde osmosesysteem met een capaciteit van 0,5-100 m³/u, CE/SGS gecertificeerd. Beschikt over een hoge ontziltingssnelheid, compact ontwerp, laag energieverbruik en automatische regeling. Geschikt voor industriële waterbehandeling met roestvrijstalen constructie en wereldwijde spanningscompatibiliteit.
Elektroplatering Anti-corrosie Ultrazuivere waterapparatuur Dubbelstadium RO EDI Deionisatie Persoonlijke capaciteit 0,5-50m3/h
Volledige anti-corrosie industriële apparatuur voor ultrapuur water voor galvaniseerwerkplaatsen. Beschikt over dubbeltraps RO + EDI-deïonisatie, verwijdert chloride/zware metaalionen, capaciteit 0,5-50 m³/u. Het roestwerende ontwerp past zich aan corrosieve omgevingen aan, 24-uurs automatische werking met PLC-besturing voor een stabiele wateropbrengst met lage geleidbaarheid.
18.25 MΩ·cm EDI Ultrazuiver water systeem Halvergeleiderchip Reiniging Chemische vrij continue werking
Industrieel EDI-systeem voor ultrapuur water produceert water met een weerstand van 18,25MΩ·cm voor het reinigen van halfgeleiderchips. Beschikt over chemicaliënvrije EDI-technologie, tweetraps RO met 99% ontzilting, PLC-automatisering en aanpasbare capaciteit tot 5000 l/u. Voldoet aan de SEMI-normen, inclusief UV-sterilisatie en 1 jaar garantie.
Farmaceutische steriele ultrazuivere waterapparatuur UV-sterilisatieapparaat Low TOC Control GMP-naleving
Farmaceutische steriele apparatuur voor ultrapuur water met UV-sterilisatieapparaat. Beschikt over een steriele tank van 316 liter, RO+EDI-zuivering, UV-sterilisatie, CIP-reiniging en GMP/USP/EP-naleving. Biedt een stabiele weerstand van 15-18,25MΩ*cm, lage TOC, nul bacteriën voor injectie, biologische producten en farmaceutische productie.
Kleine stroom RO EDI Laboratorium waterzuiveringssysteem 18,25 MΩ·cm Resistiviteit Chemische vrije deionisatie
RO EDI ultrapuur waterapparatuur met kleine stroom voor instituutsexperimenten is voorzien van omgekeerde osmose + EDI + polijstharsproces, waardoor water met een weerstand van ≥18,2 MΩ·cm wordt geproduceerd. Compact ontwerp, chemicaliënvrije werking en aanpasbare stroomsnelheden (30T/H) zorgen voor een stabiele experimentele waterkwaliteit voor laboratoria en onderzoeksfaciliteiten.
Industriële grote stroom hoogzuiver water systeem 18,25 MΩ·Cm Voor het reinigen van elektronische chips
Industrieel ultrapuur watersysteem met groot debiet voor halfgeleiderfabrieken en de productie van elektronische chips. Beschikt over een tweetraps RO + EDI + polijst gemengd bedproces, waarbij 18,25MΩ*cm ultrapuur water wordt geproduceerd met TOC ≤1ppb. Aanpasbare stroom 10-100 m³/u, automatische PLC-besturing, 24 uur continu bedrijf. Voldoet aan de SEMI/ASTM-normen voor het reinigen, etsen en chipproductie van wafers.
