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water desalination system
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Tarifa de desalinización del sistema de tratamiento de agua de ósmosis inversa de acero inoxidable de categoría alimentaria 304 99%
Sistema de tratamiento de agua por ósmosis inversa de calidad alimentaria para fábricas de alimentos. Presenta una construcción de acero inoxidable 304, una tasa de desalinización ≥99%, operación PLC completamente automática y capacidad personalizable. Garantiza un agua de proceso pura e higiénica que cumpla con los estándares de seguridad alimentaria.
Sistema de agua ultrapura de alta pureza de salida sin productos químicos
El equipo industrial personalizado de tratamiento de agua ultrapura RO+EDI combina filtración RO de doble etapa y electrodosionización EDI para producir agua desionizada de alta pureza (15-18,25 MΩ*cm). Presenta operación sin químicos, control inteligente PLC, capacidad totalmente personalizable (250L/H-5000L/H), estructura montada sobre patines y rendimiento estable para producción industrial.
Sistema de módulo EDI industrial de alta temperatura para galvanoplastia de agua desionizada
Sistema EDI resistente a altas temperaturas para galvanoplastia de agua desionizada, con pilas de membranas resistentes al calor, operación no química y automatización PLC. Proporciona agua estable apta para galvanoplastia (15-18,2 MΩ*cm) con una capacidad de 50-500 l/hora, ideal para entornos de taller hostiles.
Sistema de ósmosis inversa de bajo consumo de energía y alta tasa de desalinización
Sistema de ósmosis inversa con capacidad de 0,5-100 m³/h, certificado CE/SGS. Presenta una alta tasa de desalinización, diseño compacto, bajo consumo de energía y control automático. Adecuado para el tratamiento de agua industrial con construcción de acero inoxidable y compatibilidad de voltaje global.
Equipo de agua ultrapura de doble etapa RO EDI Deionización Capacidad personalizada de 0,5-50 m3/h
Equipos industriales completos de agua ultrapura anticorrosión para talleres de galvanoplastia. Cuenta con desionización RO + EDI de doble etapa, elimina iones de cloruro/metales pesados, capacidad de 0,5-50 m³/h. El diseño antioxidante se adapta a ambientes corrosivos, operación automática las 24 horas con control PLC para una salida estable de agua de baja conductividad.
18.25 MΩ·cm EDI Sistema de agua ultrapura Chip de semiconductor limpieza de productos químicos libre de operación continua
El sistema de agua ultrapura EDI industrial produce agua con una resistividad de 18,25 MΩ·cm para la limpieza de chips semiconductores. Cuenta con tecnología EDI sin químicos, RO de dos etapas con 99 % de desalinización, automatización PLC y capacidad personalizable de hasta 5000 L/H. Cumple con los estándares SEMI, incluye esterilización UV y 1 año de garantía.
Equipo farmacéutico para agua estéril ultrapura Dispositivo de esterilización UV Control de bajo TOC Cumplimiento de las normas GMP
Equipo farmacéutico de agua ultrapura estéril con dispositivo esterilizador UV. Cuenta con un tanque estéril de 316 L, purificación RO+EDI, esterilización UV, limpieza CIP y cumplimiento de GMP/USP/EP. Proporciona resistividad estable de 15-18,25 MΩ*cm, TOC bajo, cero bacterias para inyección, productos biológicos y producción farmacéutica.
Pequeño sistema de purificación de agua de laboratorio RO EDI de flujo desionización libre de sustancias químicas de resistividad de 18,25 MΩ·cm
El equipo de agua ultrapura RO EDI de flujo pequeño para experimentos de instituto cuenta con un proceso de ósmosis inversa + EDI + resina de pulido, que produce agua de resistividad ≥18,2 MΩ·cm. El diseño compacto, el funcionamiento sin productos químicos y los caudales personalizables (30T/H) garantizan una calidad estable del agua experimental para laboratorios e instalaciones de investigación.
Sistema industrial de agua de gran caudal de alta pureza 18.25MΩ·Cm Para limpieza de chips electrónicos
Sistema industrial de agua ultrapura de gran caudal para fábricas de semiconductores y fabricación de chips electrónicos. Presenta un proceso de lecho mixto de pulido RO + EDI + de dos etapas, que produce agua ultrapura de 18,25 MΩ*cm con TOC ≤1 ppb. Caudal personalizable 10-100m³/h, control automatizado PLC, funcionamiento continuo 24h. Cumple con los estándares SEMI/ASTM para limpieza, grabado y producción de chips de obleas.
