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ro desalination system
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소류 RO EDI 실험실 수정 시스템 18.25 MΩ·cm 저항성 화학적 자유 디온화
연구소 실험용 소유량 RO EDI 초순수 장비는 역삼투 + EDI + 연마 수지 공정을 특징으로 하며 저항률이 ≥18.2 MΩ·cm인 물을 생성합니다. 컴팩트한 디자인, 무화학 작동, 맞춤형 유량(30T/H)으로 실험실과 연구 시설의 안정적인 실험 수질을 보장합니다.
효율적인 실리콘 제거를 위한 이온 교환 혼합 침대 장비
화학 폐수에서 특정 실리콘 제거를 위한 혼합층 이온 교환 장비. 효율적인 탈수 및 담수화를 위한 고선택성 혼합 수지, 산업용 부식 방지 설계 및 강력한 폐수 적응성이 특징입니다. 수동 조작 및 1년 보증으로 장비 스케일링을 방지하고 물 재사용률을 향상시킵니다.
식품 등급 역오스모스 시스템 SS304 SS316L 스테인리스 스틸 PLC 자동 제어 음료 생산
음료 생산 라인을 위한 식품 등급 역삼투압 시스템. SS304/SS316L 위생적 설계, 고효율 RO 멤브레인, PLC 자동 제어 및 CIP 세척 기능이 특징입니다. 주스, 탄산음료, 생수, 맥주 생산을 위한 고순도 물을 보장합니다. CE, RoHS, SGS 인증을 통해 용량을 맞춤 설정할 수 있습니다.
발전소 수처리용 완전 자동 재생 혼합층
발전소 수처리를 위한 전자동 재생 혼합층 시스템입니다. 완전 자동 무인 작동, 전력 등급 심층 정화, 중단 없는 지속적인 물 공급, 적응형 지능형 작동, 산업용 내구성 구조 및 최적화된 운영 경제를 특징으로 합니다. 화력발전소에 24시간 자동 심층 담수화 및 실리콘 제거 기능을 제공합니다.
18.25 MΩ·cm EDI 초순수 시스템 반도체 칩 청소 화학물질 없는 연속 작동
산업용 EDI 초순수 시스템은 반도체 칩 세정용으로 18.25MΩ·cm 비저항수를 생산합니다. 무화학 EDI 기술, 99% 담수화 기능을 갖춘 2단계 RO, PLC 자동화, 최대 5000L/H까지 사용자 정의 가능한 용량이 특징입니다. SEMI 표준을 준수하며 UV 살균 및 1년 보증이 포함됩니다.
스키드 장착형 소형 초순수 정수기 15-18.25MΩ·cm 저항성 EDI 연속 탈이온화 신에너지 배터리
신에너지 배터리 생산을 위한 스키드 장착형 소형 초순수 장비. 전처리 + 2단계 RO + EDI 공정을 특징으로 하며 15-18.25MΩ*cm 전자 등급 물을 생산합니다. 컴팩트한 플러그 앤 플레이 설계, 무화학 EDI 작동, PLC 자동 제어 및 모듈식 확장 기능.
고순도 이온 교환기
고순도 혼합층 이온 교환기는 99.8% 이상의 담수화율과 15-18.2 MΩ*cm 저항성을 갖춘 전자급 초순수를 제공합니다. 반도체, 회로 기판 및 정밀 전자 제조를 위한 초고순도 연마, 안정적인 수질, 컴팩트한 디자인 및 완벽한 RO 시스템 통합이 특징입니다.
산업용 대류 고 순수 물 시스템 18.25MΩ·Cm 전자 칩 청소용
반도체 제조 및 전자 칩 제조를 위한 산업용 대유량 초순수 시스템입니다. 2단계 RO + EDI + 연마 혼합층 공정을 특징으로 하며 TOC가 1ppb 이하인 18.25MΩ*cm 초순수를 생산합니다. 사용자 정의 가능한 유량 10-100m³/h, PLC 자동 제어, 24시간 연속 작동. 웨이퍼 세척, 에칭 및 칩 생산에 대한 SEMI/ASTM 표준을 준수합니다.
탈이온수 전기도금을 위한 고온 산업용 EDI 모듈 시스템
내열성 멤브레인 스택, 비화학적 작동 및 PLC 자동화를 특징으로 하는 탈이온수 전기도금을 위한 고온 내성 EDI 시스템입니다. 50-500L/시간 용량의 안정적인 전기도금 등급 물(15-18.2 MΩ*cm)을 제공하여 열악한 작업장 환경에 이상적입니다.
