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ro desalination system
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小流 RO EDI 研究室用水浄化システム 18.25 MΩ·cm 抵抗性 化学的無離子化
研究所実験用の小流量RO EDI超純水装置は、逆浸透+EDI+研磨樹脂プロセスを特徴とし、比抵抗18.2MΩ・cm以上の水を生成します。コンパクトな設計、化学薬品を使用しない操作、カスタマイズ可能な流量 (30T/H) により、実験室や研究施設の安定した実験用水質が保証されます。
効率的なシリコン除去のためのイオン交換混合ベッド機器
化学廃水中のシリコンをターゲットに除去するための混合床イオン交換装置。効率的な脱珪および脱塩のための高選択性混合樹脂、工業用耐食設計、および強力な廃水適応性を備えています。手動操作と 1 年間の保証により、機器のスケールを防止し、水の再利用率を向上させます。
食品級 反 osmose システム SS304 SS316L ステンレス スチール PLC 自動制御 飲料生産
飲料生産ライン用の食品グレード逆浸透システム。 SS304/SS316Lサニタリー設計、高効率RO膜、PLC自動制御、CIP洗浄が特徴です。ジュース、炭酸飲料、ミネラルウォーター、ビール製造用の高純度水を確保します。 CE、RoHS、SGS 認証によるカスタマイズ可能な容量。
発電所水処理用全自動再生混床
発電所の水処理用全自動再生混床システム。完全自動の無人操作、パワーグレードの深層浄化、中断のない連続給水、適応型インテリジェント操作、産業用耐久性のある構造、および最適化された操作経済性を備えています。火力発電所向けに 24 時間自動深層脱塩とシリコン除去を提供します。
18.25 MΩ・cm EDI超純水システム半導体チップ洗浄ケミカルフリー連続運転
工業用EDI超純水システムは、半導体チップ洗浄用に比抵抗18.25MΩ・cmの水を生成します。化学薬品を使用しない EDI テクノロジー、99% 脱塩の 2 段階 RO、PLC 自動化、および最大 5000L/H までのカスタマイズ可能な容量が特徴です。 SEMI規格に準拠し、UV滅菌と1年間の保証が含まれます。
スキッド搭載 コンパクト超純水浄化器 15-18.25MΩ·cm 抵抗性 EDI 連続デイオニゼーション 新エネルギーバッテリー
新エネルギー電池製造用のスキッドマウント式小型超純水装置。前処理 + 2 段階 RO + EDI プロセスを備え、15 ～ 18.25MΩ*cm の電子グレードの水を生成します。コンパクトなプラグアンドプレイ設計、化学薬品を使用しない EDI 操作、PLC 自動制御、およびモジュール拡張機能。
電子工房級超純水のための高純度イオン交換器
高純度混合床イオン交換器は、脱塩率 99.8% 以上、抵抗率 15 ～ 18.2 MΩ*cm の電子グレードの超純水を供給します。超高純度研磨、安定した水質、コンパクト設計、半導体、回路基板、精密電子製造向けの完璧な RO システム統合が特徴です。
工業用大流水高純度水システム 18.25MΩ·Cm 電子チップ清掃用
半導体工場および電子チップ製造用の工業用大流量超純水システム。 2段階RO+EDI+研磨混床プロセスにより、TOC ≤1ppbの18.25MΩ*cmの超純水を生成します。カスタマイズ可能な流量10〜100m3/h、PLC自動制御、24時間連続運転。ウェーハ洗浄、エッチング、チップ製造に関する SEMI/ASTM 規格に準拠しています。
高温産業用EDIモジュールシステム
脱イオン水の電気めっき用の高温耐性 EDI システムは、耐熱性膜スタック、非化学的操作、および PLC 自動化を特徴としています。安定した電気めっきグレードの水 (15～18.2 MΩ*cm) を 50～500L/時間の容量で供給し、過酷な作業場環境に最適です。
