ro desalination system

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Qualität Wasserreinigungssystem für kleine Flüsse (RO EDI) 18,25 MΩ·cm Widerstandsfähigkeit chemisch freie Deionisierung Fabrik

Wasserreinigungssystem für kleine Flüsse (RO EDI) 18,25 MΩ·cm Widerstandsfähigkeit chemisch freie Deionisierung

RO-EDI-Reinstwassergeräte mit kleinem Durchfluss für Institutsexperimente verfügen über einen Umkehrosmose-, EDI- und Polierharzprozess und erzeugen Wasser mit einem spezifischen Widerstand von ≥18,2 MΩ·cm. Kompaktes Design, chemiefreier Betrieb und anpassbare Durchflussraten (30 T/h) gewährleisten eine stabile experimentelle Wasserqualität für Labore und Forschungseinrichtungen.

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Qualität Ausrüstung für den Ionenaustausch mit gemischten Betten zur effizienten Siliziumentfernung Fabrik

Ausrüstung für den Ionenaustausch mit gemischten Betten zur effizienten Siliziumentfernung

Mischbett-Ionenaustauschanlage zur gezielten Siliziumentfernung in Chemieabwässern. Verfügt über ein hochselektives Mischharz für eine effiziente Entsilizierung und Entsalzung, ein industrielles Korrosionsschutzdesign und eine starke Abwasseranpassungsfähigkeit. Verhindert Geräteablagerungen, verbessert die Wasserwiederverwendungsraten, mit manueller Bedienung und 1 Jahr Garantie.

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Qualität Umkehrosmosesystem in Lebensmittelqualität SS304 SS316L Edelstahl PLC Automatische Steuerung der Getränkeproduktion Fabrik

Umkehrosmosesystem in Lebensmittelqualität SS304 SS316L Edelstahl PLC Automatische Steuerung der Getränkeproduktion

Umkehrosmosesystem in Lebensmittelqualität für Getränkeproduktionslinien. Verfügt über SS304/SS316L-Hygienedesign, hocheffiziente RO-Membranen, automatische SPS-Steuerung und CIP-Reinigung. Gewährleistet hochreines Wasser für die Herstellung von Säften, kohlensäurehaltigen Getränken, Mineralwasser und Bier. Anpassbare Kapazität mit CE-, RoHS- und SGS-Zertifizierungen.

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Qualität Vollautomatisch regenerierendes Mischbett für die Wasseraufbereitung von Kraftwerken Fabrik

Vollautomatisch regenerierendes Mischbett für die Wasseraufbereitung von Kraftwerken

Vollautomatisches regenerierendes Mischbettsystem zur Wasseraufbereitung in Kraftwerken. Verfügt über einen vollautomatischen, unbeaufsichtigten Betrieb, eine Tiefenreinigung auf Leistungsniveau, eine unterbrechungsfreie, kontinuierliche Wasserversorgung, einen adaptiven, intelligenten Betrieb, eine robuste Industriestruktur und eine optimierte Betriebsökonomie. Bietet rund um die Uhr automatische Tiefenentsalzung und Siliziumentfernung für Wärmekraftwerke.

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Qualität 18.25 MΩ·cm EDI Ultrareinwassersystem Halbleiterchipreinigung Chemikalienfreier Dauerbetrieb Fabrik

18.25 MΩ·cm EDI Ultrareinwassersystem Halbleiterchipreinigung Chemikalienfreier Dauerbetrieb

Das industrielle EDI-Reinstwassersystem erzeugt Wasser mit einem spezifischen Widerstand von 18,25 MΩ·cm für die Reinigung von Halbleiterchips. Verfügt über chemikalienfreie EDI-Technologie, zweistufige Umkehrosmose mit 99 % Entsalzung, SPS-Automatisierung und anpassbare Kapazität von bis zu 5000 l/h. Konform mit SEMI-Standards, inklusive UV-Sterilisation und 1 Jahr Garantie.

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Qualität Auf einem Gestell montierter, kompakter Reinstwasserreiniger, 15–18,25 MΩ·cm spezifischer Widerstand, EDI, kontinuierliche Entionisierung, neue Energiebatterie Fabrik

Auf einem Gestell montierter, kompakter Reinstwasserreiniger, 15–18,25 MΩ·cm spezifischer Widerstand, EDI, kontinuierliche Entionisierung, neue Energiebatterie

Auf einem Rahmen montierte, kompakte Reinstwasseranlage für die Produktion neuer Energiebatterien. Verfügt über Vorbehandlung + zweistufiges RO + EDI-Verfahren zur Erzeugung von Wasser in elektronischer Qualität mit 15–18,25 MΩ*cm. Kompaktes Plug-and-Play-Design, chemiefreier EDI-Betrieb, automatische SPS-Steuerung und modulare Erweiterungsfähigkeit.

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Qualität Hochreines Ionenwechsler für Elektro-Werkstatt-Ultrareinwasser Fabrik

Hochreines Ionenwechsler für Elektro-Werkstatt-Ultrareinwasser

Der hochreine Mischbett-Ionenaustauscher liefert hochreines Wasser in elektronischer Qualität mit einer Entsalzungsrate von ≥99,8 % und einem spezifischen Widerstand von 15–18,2 MΩ*cm. Bietet ultrahochreines Polieren, stabile Wasserqualität, kompaktes Design und perfekte RO-Systemintegration für die Halbleiter-, Leiterplatten- und Präzisionselektronikfertigung.

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Qualität Industrielles Wassersystem mit hoher Reinheit mit großem Durchfluss 18,25 MΩ·Cm zur Reinigung elektronischer Chips Fabrik

Industrielles Wassersystem mit hoher Reinheit mit großem Durchfluss 18,25 MΩ·Cm zur Reinigung elektronischer Chips

Industrielles Reinstwassersystem mit großem Durchfluss für Halbleiterfabriken und die Herstellung elektronischer Chips. Verfügt über einen zweistufigen RO + EDI + Polier-Mischbettprozess, der 18,25 MΩ*cm hochreines Wasser mit einem TOC ≤1 ppb erzeugt. Anpassbarer Durchfluss 10–100 m³/h, automatisierte SPS-Steuerung, 24-Stunden-Dauerbetrieb. Entspricht den SEMI/ASTM-Standards für Waferreinigung, Ätzen und Chipproduktion.

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Qualität Hochtemperaturindustrielles EDI-Modulsystem zur Elektrobearbeitung des deionisierten Wassers Fabrik

Hochtemperaturindustrielles EDI-Modulsystem zur Elektrobearbeitung des deionisierten Wassers

Hochtemperaturbeständiges EDI-System zur Galvanisierung von entionisiertem Wasser mit hitzebeständigen Membranstapeln, nichtchemischem Betrieb und SPS-Automatisierung. Bietet stabiles Wasser in Galvanikqualität (15–18,2 MΩ*cm) mit einer Kapazität von 50–500 l/Stunde, ideal für raue Werkstattumgebungen.

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