Alle Categorieën
ro desalination system
49 Items Found
Kleine stroom RO EDI Laboratorium waterzuiveringssysteem 18,25 MΩ·cm Resistiviteit Chemische vrije deionisatie
RO EDI ultrapuur waterapparatuur met kleine stroom voor instituutsexperimenten is voorzien van omgekeerde osmose + EDI + polijstharsproces, waardoor water met een weerstand van ≥18,2 MΩ·cm wordt geproduceerd. Compact ontwerp, chemicaliënvrije werking en aanpasbare stroomsnelheden (30T/H) zorgen voor een stabiele experimentele waterkwaliteit voor laboratoria en onderzoeksfaciliteiten.
Ionenwisselingsapparatuur voor het efficiënt verwijderen van silicium
Mixed Bed Ion Exchange Equipment voor gerichte siliciumverwijdering uit chemisch afvalwater. Beschikt over gemengde hars met hoge selectiviteit voor efficiënte ontzilting en ontzilting, industrieel anticorrosieontwerp en sterk aanpassingsvermogen aan afvalwater. Voorkomt kalkaanslag op apparatuur, verbetert het hergebruik van water, met handmatige bediening en 1 jaar garantie.
Voedingsmiddel omgekeerd osmose systeem SS304 SS316L roestvrij staal PLC automatische besturing Productie van dranken
Food Grade omgekeerde osmosesysteem voor drankproductielijnen. Voorzien van SS304/SS316L sanitair ontwerp, hoogefficiënte RO-membranen, automatische PLC-besturing en CIP-reiniging. Zorgt voor zeer zuiver water voor sap, koolzuurhoudende dranken, mineraalwater en bierproductie. Aanpasbare capaciteit met CE-, RoHS- en SGS-certificeringen.
Volledig automatisch regenererend gemengd bed voor waterzuivering in elektriciteitscentrales
Volledig automatisch regenererend gemengd bedsysteem voor de waterbehandeling van energiecentrales. Beschikt over volledig automatische onbeheerde werking, krachtige diepe zuivering, ononderbroken continue watervoorziening, adaptieve intelligente werking, industriële duurzame structuur en geoptimaliseerde bedrijfseconomie. Biedt 24 uur per dag automatische diepe ontzilting en verwijdering van silicium voor thermische energiecentrales.
18.25 MΩ·cm EDI Ultrazuiver water systeem Halvergeleiderchip Reiniging Chemische vrij continue werking
Industrieel EDI-systeem voor ultrapuur water produceert water met een weerstand van 18,25MΩ·cm voor het reinigen van halfgeleiderchips. Beschikt over chemicaliënvrije EDI-technologie, tweetraps RO met 99% ontzilting, PLC-automatisering en aanpasbare capaciteit tot 5000 l/u. Voldoet aan de SEMI-normen, inclusief UV-sterilisatie en 1 jaar garantie.
Op skid gemonteerde compacte ultrazuivere waterzuiveraar 15-18,25MΩ·cm Weerstandsvermogen EDI Continue deïonisatie Nieuwe energiebatterij
Op een skid gemonteerde compacte apparatuur voor ultrapuur water voor de productie van nieuwe energiebatterijen. Beschikt over voorbehandeling + tweetraps RO + EDI-proces, waarbij 15-18,25MΩ*cm water van elektronische kwaliteit wordt geproduceerd. Compact plug-and-play-ontwerp, chemicaliënvrije EDI-werking, automatische PLC-besturing en modulaire uitbreidingsmogelijkheden.
Ionenwisselaar van hoge zuiverheid voor elektronisch werkplaatswater van ultrazuivere kwaliteit
De zeer zuivere ionenwisselaar met gemengd bed levert ultrapuur water van elektronische kwaliteit met een ontziltingspercentage van ≥99,8% en een weerstand van 15-18,2 MΩ*cm. Beschikt over polijsten met ultrahoge zuiverheid, stabiele waterkwaliteit, compact ontwerp en perfecte RO-systeemintegratie voor halfgeleider-, printplaat- en precisie-elektronische productie.
Industriële grote stroom hoogzuiver water systeem 18,25 MΩ·Cm Voor het reinigen van elektronische chips
Industrieel ultrapuur watersysteem met groot debiet voor halfgeleiderfabrieken en de productie van elektronische chips. Beschikt over een tweetraps RO + EDI + polijst gemengd bedproces, waarbij 18,25MΩ*cm ultrapuur water wordt geproduceerd met TOC ≤1ppb. Aanpasbare stroom 10-100 m³/u, automatische PLC-besturing, 24 uur continu bedrijf. Voldoet aan de SEMI/ASTM-normen voor het reinigen, etsen en chipproductie van wafers.
Hoogtemperatuur industrieel EDI-modulesysteem voor het elektroplateren van gedeïoniseerd water
Bestand tegen hoge temperaturen EDI-systeem voor het galvaniseren van gedeïoniseerd water, met hittebestendige membraanstapels, niet-chemische werking en PLC-automatisering. Levert stabiel water van galvanische kwaliteit (15-18,2 MΩ*cm) met een capaciteit van 50-500 l/uur, ideaal voor zware werkplaatsomgevingen.
