Todas as categorias
ro desalination system
49 Items Found
Sistema de purificação de água de laboratório RO EDI de pequeno fluxo 18,25 MΩ·cm Resistividade Deionização livre química
O equipamento de água ultrapura RO EDI de pequeno fluxo para experimentos do instituto apresenta processo de osmose reversa + EDI + resina de polimento, produzindo água com resistividade ≥18,2 MΩ·cm. O design compacto, a operação sem produtos químicos e as taxas de fluxo personalizáveis (30T/H) garantem uma qualidade experimental estável da água para laboratórios e instalações de pesquisa.
Equipamento de leito misto de intercâmbio de íons para remoção eficiente de silício
Equipamento de troca iônica de leito misto para remoção direcionada de silício em águas residuais químicas. Apresenta resina mista de alta seletividade para dessilicação e dessalinização eficientes, design anticorrosivo industrial e forte adaptabilidade a águas residuais. Evita incrustações nos equipamentos, melhora os índices de reaproveitamento de água, com operação manual e garantia de 1 ano.
Sistema de osmose reversa de qualidade alimentar SS304 SS316L PLC de controle automático de aço inoxidável
Sistema de osmose reversa de qualidade alimentar para linhas de produção de bebidas. Apresenta design sanitário SS304/SS316L, membranas RO de alta eficiência, controle automático PLC e limpeza CIP. Garante água de alta pureza para produção de sucos, refrigerantes, água mineral e cerveja. Capacidade personalizável com certificações CE, RoHS, SGS.
Cama mista de regeneração totalmente automática para tratamento de água de centrais elétricas
Sistema de leito misto regenerador totalmente automático para tratamento de água de usinas de energia. Apresenta operação autônoma totalmente automática, purificação profunda de nível de energia, fornecimento contínuo ininterrupto de água, operação inteligente adaptativa, estrutura industrial durável e economia operacional otimizada. Fornece dessalinização profunda automática 24 horas por dia e remoção de silício para usinas termelétricas.
18.25 MΩ·cm EDI Sistema de Água Ultrapuro
O sistema industrial de água ultrapura EDI produz água com resistividade de 18,25MΩ·cm para limpeza de chips semicondutores. Apresenta tecnologia EDI sem produtos químicos, OR de dois estágios com dessalinização de 99%, automação PLC e capacidade personalizável de até 5.000L/H. Em conformidade com os padrões SEMI, inclui esterilização UV e garantia de 1 ano.
Purificador de água ultra puro compacto montado em skid, 15-18,25MΩ·cm, resistividade EDI, desionização contínua, bateria de nova energia
Equipamento compacto de água ultrapura montado em skid para produção de novas baterias de energia. Apresenta pré-tratamento + processo RO + EDI de dois estágios, produzindo água de grau eletrônico de 15-18,25MΩ*cm. Design plug-and-play compacto, operação EDI sem produtos químicos, controle automático PLC e capacidade de expansão modular.
Trocador de íons de alta pureza para água ultrapura de grau de oficina eletrônica
O trocador de íons de leito misto de alta pureza fornece água ultrapura de nível eletrônico com taxa de dessalinização ≥99,8% e resistividade de 15-18,2 MΩ*cm. Apresenta polimento de altíssima pureza, qualidade de água estável, design compacto e integração perfeita do sistema RO para semicondutores, placas de circuito e fabricação de eletrônicos de precisão.
Sistema industrial de água de grande fluxo de alta pureza 18,25MΩ·Cm Para limpeza de chips eletrônicos
Sistema industrial de água ultrapura de grande fluxo para fábricas de semicondutores e fabricação de chips eletrônicos. Apresenta processo de leito misto RO + EDI + polimento de dois estágios, produzindo água ultrapura de 18,25MΩ*cm com TOC ≤1ppb. Fluxo customizável 10-100m³/h, controle automatizado PLC, operação contínua 24h. Está em conformidade com os padrões SEMI/ASTM para limpeza de wafer, gravação e produção de chips.
Sistema de módulo industrial EDI de alta temperatura para electroplatagem de água deionizada
Sistema EDI resistente a altas temperaturas para galvanoplastia de água deionizada, com pilhas de membranas resistentes ao calor, operação não química e automação PLC. Fornece água estável para galvanoplastia (15-18,2 MΩ*cm) com capacidade de 50-500L/hora, ideal para ambientes de oficina agressivos.
