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ro desalination system
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Pequeño sistema de purificación de agua de laboratorio RO EDI de flujo desionización libre de sustancias químicas de resistividad de 18,25 MΩ·cm
El equipo de agua ultrapura RO EDI de flujo pequeño para experimentos de instituto cuenta con un proceso de ósmosis inversa + EDI + resina de pulido, que produce agua de resistividad ≥18,2 MΩ·cm. El diseño compacto, el funcionamiento sin productos químicos y los caudales personalizables (30T/H) garantizan una calidad estable del agua experimental para laboratorios e instalaciones de investigación.
Equipo de lecho mixto de intercambio iónico para una eliminación eficiente del silicio
Equipo de intercambio iónico de lecho mixto para la eliminación selectiva de silicio en aguas residuales químicas. Cuenta con resina mixta de alta selectividad para una desilicación y desalinización eficiente, un diseño industrial anticorrosión y una gran adaptabilidad a las aguas residuales. Previene la incrustación del equipo, mejora los índices de reutilización del agua, con operación manual y garantía de 1 año.
Sistema de ósmosis inversa de calidad alimentaria SS304 SS316L de acero inoxidable PLC de control automático Producción de bebidas
Sistema de Ósmosis Inversa Grado Alimenticio para líneas de producción de bebidas. Presenta diseño sanitario SS304/SS316L, membranas RO de alta eficiencia, control automático PLC y limpieza CIP. Garantiza agua de alta pureza para la producción de jugos, bebidas carbonatadas, agua mineral y cerveza. Capacidad personalizable con certificaciones CE, RoHS, SGS.
Cama mixta de regeneración totalmente automática para tratamiento de agua de centrales eléctricas
Sistema de lecho mixto regenerador completamente automático para tratamiento de agua de plantas de energía. Presenta operación desatendida completamente automática, purificación profunda de grado energético, suministro de agua continuo e ininterrumpido, operación inteligente adaptativa, estructura industrial duradera y economía operativa optimizada. Proporciona desalinización profunda automática y eliminación de silicio las 24 horas para centrales térmicas.
18.25 MΩ·cm EDI Sistema de agua ultrapura Chip de semiconductor limpieza de productos químicos libre de operación continua
El sistema de agua ultrapura EDI industrial produce agua con una resistividad de 18,25 MΩ·cm para la limpieza de chips semiconductores. Cuenta con tecnología EDI sin químicos, RO de dos etapas con 99 % de desalinización, automatización PLC y capacidad personalizable de hasta 5000 L/H. Cumple con los estándares SEMI, incluye esterilización UV y 1 año de garantía.
Purificador de agua ultrapuro compacto montado en patín 15-18.25MΩ·cm Resistividad EDI Deionización continua Batería de nueva energía
Equipo compacto de agua ultrapura montado sobre patines para la producción de baterías de nueva energía. Cuenta con pretratamiento + proceso RO + EDI de dos etapas, que produce agua de grado electrónico de 15-18,25 MΩ*cm. Diseño compacto plug-and-play, operación EDI sin químicos, control automático PLC y capacidad de expansión modular.
Intercambiador de iones de alta pureza para agua ultrapura de grado taller electrónico
El intercambiador de iones de lecho mixto de alta pureza ofrece agua ultrapura de calidad electrónica con una tasa de desalinización ≥99,8 % y una resistividad de 15-18,2 MΩ*cm. Presenta pulido de pureza ultra alta, calidad del agua estable, diseño compacto y perfecta integración del sistema RO para semiconductores, placas de circuito y fabricación electrónica de precisión.
Sistema industrial de agua de gran caudal de alta pureza 18.25MΩ·Cm Para limpieza de chips electrónicos
Sistema industrial de agua ultrapura de gran caudal para fábricas de semiconductores y fabricación de chips electrónicos. Presenta un proceso de lecho mixto de pulido RO + EDI + de dos etapas, que produce agua ultrapura de 18,25 MΩ*cm con TOC ≤1 ppb. Caudal personalizable 10-100m³/h, control automatizado PLC, funcionamiento continuo 24h. Cumple con los estándares SEMI/ASTM para limpieza, grabado y producción de chips de obleas.
Sistema de módulo EDI industrial de alta temperatura para galvanoplastia de agua desionizada
Sistema EDI resistente a altas temperaturas para galvanoplastia de agua desionizada, con pilas de membranas resistentes al calor, operación no química y automatización PLC. Proporciona agua estable apta para galvanoplastia (15-18,2 MΩ*cm) con una capacidad de 50-500 l/hora, ideal para entornos de taller hostiles.
