18.25 MΩ·cm EDI 초순수 시스템 반도체 칩 청소 화학물질 없는 연속 작동

산업용 EDI 초순수 시스템은 반도체 칩 세정용으로 18.25MΩ·cm 비저항수를 생산합니다. 무화학 EDI 기술, 99% 담수화 기능을 갖춘 2단계 RO, PLC 자동화, 최대 5000L/H까지 사용자 정의 가능한 용량이 특징입니다. SEMI 표준을 준수하며 UV 살균 및 1년 보증이 포함됩니다.

스테인리스 스틸 304 산업 RO 수처리 시스템 99% 해소율 2000L/H 용량

전처리, RO 담수화(99% 비율), EDI 정화를 갖춘 수처리 시스템입니다. 재질(스테인리스강/FRP), 전압, 크기를 맞춤 설정할 수 있습니다. 용도: 광천수, 발전소, 의약품. 자동 제어, 1~200m³/h 용량 및 포괄적인 애프터 서비스 지원이 특징입니다.