18.25 MΩ·cm EDI ระบบน้ำบริสุทธิ์พิเศษ สารกึ่งตัวนำ การทำความสะอาดชิป การทำงานต่อเนื่องแบบไร้สารเคมี

ระบบน้ำบริสุทธิ์พิเศษ EDI อุตสาหกรรมผลิตน้ำที่มีความต้านทาน 18.25MΩ·cm สำหรับการทำความสะอาดชิปเซมิคอนดักเตอร์ นำเสนอเทคโนโลยี EDI ไร้สารเคมี, RO สองขั้นตอนพร้อมระบบแยกเกลือออกจาก 99%, ระบบ PLC อัตโนมัติ และความจุที่ปรับแต่งได้สูงถึง 5,000 ลิตร/ชั่วโมง เป็นไปตามมาตรฐาน SEMI รวมถึงการฆ่าเชื้อด้วยแสง UV และการรับประกัน 1 ปี

สแตนเลส 304 โรงงาน RO ระบบบําบัดน้ํา 99% อัตราการละลายเกลือ 2000L / H ความจุ

ระบบบำบัดน้ำพร้อมการบำบัดล่วงหน้า การแยกเกลือออกจาก RO (อัตรา 99%) และการทำให้บริสุทธิ์ด้วย EDI วัสดุที่ปรับแต่งได้ (สแตนเลส/FRP) แรงดันไฟฟ้า และขนาด การใช้งาน: น้ำแร่ โรงไฟฟ้า ยา นำเสนอระบบควบคุมอัตโนมัติ ความจุ 1-200 ลบ.ม./ชม. และการสนับสนุนหลังการขายที่ครอบคลุม