18.25 MΩ·cm EDI Ultrareinwassersystem Halbleiterchipreinigung Chemikalienfreier Dauerbetrieb

Das industrielle EDI-Reinstwassersystem erzeugt Wasser mit einem spezifischen Widerstand von 18,25 MΩ·cm für die Reinigung von Halbleiterchips. Verfügt über chemikalienfreie EDI-Technologie, zweistufige Umkehrosmose mit 99 % Entsalzung, SPS-Automatisierung und anpassbare Kapazität von bis zu 5000 l/h. Konform mit SEMI-Standards, inklusive UV-Sterilisation und 1 Jahr Garantie.

Edelstahl 304 Industrie RO Wasseraufbereitungssystem 99% Entsalzungsrate 2000L/h Kapazität

Wasseraufbereitungssystem mit Vorbehandlung, RO-Entsalzung (Rate 99 %) und EDI-Reinigung. Anpassbare Materialien (Edelstahl/GFK), Spannungen und Größen. Anwendungen: Mineralwasser, Kraftwerke, Pharmazeutika. Verfügt über automatische Steuerung, eine Kapazität von 1–200 m³/h und umfassenden Kundendienst.