18.25 MΩ·cm EDI Sistema de agua ultrapura Chip de semiconductor limpieza de productos químicos libre de operación continua

El sistema de agua ultrapura EDI industrial produce agua con una resistividad de 18,25 MΩ·cm para la limpieza de chips semiconductores. Cuenta con tecnología EDI sin químicos, RO de dos etapas con 99 % de desalinización, automatización PLC y capacidad personalizable de hasta 5000 L/H. Cumple con los estándares SEMI, incluye esterilización UV y 1 año de garantía.

Capacidad industrial de la tarifa 2000L/H de la desalinización del sistema de tratamiento de aguas del RO del acero inoxidable 304 el 99%

Sistema de tratamiento de agua con pretratamiento, desalinización por RO (tasa del 99%) y purificación por EDI. Materiales personalizables (acero inoxidable/FRP), voltajes y tamaños. Aplicaciones: agua mineral, centrales eléctricas, productos farmacéuticos. Cuenta con control automático, capacidad de 1-200 m³/h y soporte posventa integral.