18.25 MΩ·cm EDI Ультрачистая система водоснабжения Полупроводниковые чипы Чистка химикатов Бесперебойная работа

Промышленная система сверхчистой воды EDI производит воду с удельным сопротивлением 18,25 МОм·см для очистки полупроводниковых чипов. Имеет безхимическую технологию EDI, двухступенчатый RO с опреснением 99%, автоматизацию ПЛК и настраиваемую производительность до 5000 л/ч. Соответствует стандартам SEMI, включает УФ-стерилизацию и гарантию 1 год.

Нержавеющая сталь 304 Промышленная система очистки воды RO 99% скорость опреснения 2000L/h Мощность

Система очистки воды с предварительной очисткой, опреснением RO (степень 99%) и очисткой EDI. Настраиваемые материалы (нержавеющая сталь/стеклопластик), напряжение и размеры. Применение: минеральная вода, электростанции, фармацевтика. Имеет автоматическое управление, производительность 1–200 м³/ч и комплексную послепродажную поддержку.