18.25 MΩ・cm EDI超純水システム半導体チップ洗浄ケミカルフリー連続運転

工業用EDI超純水システムは、半導体チップ洗浄用に比抵抗18.25MΩ・cmの水を生成します。化学薬品を使用しない EDI テクノロジー、99% 脱塩の 2 段階 RO、PLC 自動化、および最大 5000L/H までのカスタマイズ可能な容量が特徴です。 SEMI規格に準拠し、UV滅菌と1年間の保証が含まれます。

ステンレス鋼 304 の産業 RO 水処理システム 99% の脱塩率 2000L/H 容量

前処理、RO脱塩（99％）、EDI浄化を備えた水処理システム。材質（ステンレス/FRP）、電圧、サイズをカスタマイズ可能です。用途：ミネラルウォーター、発電所、医薬品。自動制御、1-200m3/hの処理能力、包括的なアフターサポートが特徴です。