Sistema industrial de água de grande fluxo de alta pureza 18,25MΩ·Cm Para limpeza de chips eletrônicos

Este sistema industrial de água ultrapura de grande fluxo foi projetado profissionalmente para instalações de fabricação de semicondutores, produção de wafer, gravação de chips eletrônicos, limpeza, polimento e linhas de fabricação de circuitos integrados.

A produção de cavacos é extremamente sensível a microimpurezas. Íons traços, sílica, boro, carbono orgânico, partículas minúsculas e microorganismos na água podem causar curtos-circuitos, arranhões no wafer, defeitos de padrão, corrente de fuga e baixo rendimento de cavacos. Este equipamento de água ultrapura em grande escala emprega um processo abrangente de purificação profunda de leito misto de polimento RO + EDI + de dois estágios de nível industrial, em estrita conformidade com os padrões de água de nível eletrônico SEMI e ASTM.

O sistema fornece consistentemente 18,25MΩ*cm de água ultrapura de alta pureza com TOC ultrabaixo, partículas ultrabaixas e zero resíduo microbiano. É adequado para fornecimento contínuo de água de grande volume 24 horas por dia para limpeza de wafer, processos de fotolitografia, limpeza de gravação e enxágue de superfície de chip, melhorando efetivamente as taxas de qualificação de chip acabado e estabilizando a qualidade da produção de semicondutores.

• Sistema de pré-tratamento industrial de alta carga:Filtro multimídia de grande fluxo, filtro de carvão ativado e sistema de amolecimento automático removem sedimentos maciços, cloro residual, sólidos suspensos e reduzem a dureza da água bruta, evitando incrustações e danos aos elementos da membrana central sob operação de alta carga a longo prazo.
• Dessalinização RO de alta eficiência em dois estágios:As membranas industriais de RO de alto fluxo e antiincrustantes removem mais de 99,5% dos sais solúveis, colóides e grandes poluentes orgânicos, alcançando uma purificação primária de alta precisão.
• Ajuste de PH e sistema de buffer intermediário:O ajuste preciso do pH reduz o dióxido de carbono dissolvido e o teor de silício residual, otimizando a qualidade da água para posterior desionização profunda por EDI.
• Desionização Contínua EDI Industrial:O módulo EDI de grande fluxo remove profundamente traços de boro, silício e impurezas iônicas residuais sem regeneração química ácido-base, mantendo uma saída de água estável e de alta resistividade.
• Degradação e esterilização UV TOC:O dispositivo UV de 185 nm decompõe o carbono orgânico total e o UV de 254 nm elimina bactérias, controlando efetivamente o TOC dentro do nível de ppb.
• Polimento de leito misto e ultrafiltração terminal:Leito misto de polimento pós-estágio + filtro de precisão terminal de 0,05μm/0,22μm remove partículas ultrafinas, garantindo total conformidade com padrões avançados de água de processo de semicondutores.

• Abastecimento contínuo de água industrial de grande fluxo:Grande produção de água personalizável de 10m³/h a 100m³/h, suportando operação ininterrupta de alta carga 24 horas por dia para linhas de produção em massa de semicondutores.
• Qualidade da água ultraestável de grau semicondutor:Mantém consistentemente resistividade à água ultrapura de 18,25MΩ*cm, TOC ≤1ppb, teor ultrabaixo de sílica e boro, controle de partículas ultrafinas, atendendo totalmente aos requisitos avançados do processo de fabricação de chips.
• Controle rigoroso de vestígios de impurezas prejudiciais:Remove com eficácia microíons e partículas poluentes que causam defeitos nos chips, reduzindo significativamente a taxa de descarte do wafer e melhorando o rendimento da produção.
• Estrutura industrial anti-incrustante e durável:Utiliza membranas RO altamente antipoluição e layout de tubulação industrial aprimorado, adaptando-se à operação contínua de alto fluxo e longo prazo com baixa taxa de incrustação e vida útil estendida.
• Sistema de controle centralizado inteligente:Controle inteligente centralizado por PLC com monitoramento on-line em tempo real de resistividade, TOC, pressão e fluxo de água. A descarga automática, o alarme de falhas e o registro de dados permitem o gerenciamento não tripulado da oficina.
• Ecologicamente correto e baixo custo operacional:A operação EDI sem produtos químicos elimina a descarga de resíduos químicos. A alta taxa de recuperação de água conserva o consumo de água e energia, ideal para produção em massa em fábricas de longo prazo.

• Fabricação de wafer semicondutor e limpeza de superfície de wafer
• Circuito integrado IC, gravação de chip e água de processo de fotolitografia
• Limpeza precisa de componentes eletrônicos e enxágue de placas de circuito
• Água de processo de produção de microeletrônica, transistores e diodos
• Estação central de água ultrapura de fábrica avançada de semicondutores
• Limpeza de instrumentos eletrônicos de alta precisão e materiais semicondutores

Fornecemos soluções abrangentes de engenharia para tratamento de água com semicondutores em grande escala, incluindo análise da qualidade da água bruta, projeto personalizado de processo, montagem em fábrica, comissionamento no local e suporte técnico global. Treinamento de operação de longo prazo, diagnóstico remoto de falhas e fornecimento completo de peças de reposição garantem fornecimento de água ultrapura estável e de alto padrão para linhas de produção de chips eletrônicos.