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ultrapure water machine
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Trocador de íons de alta pureza para água ultrapura de grau de oficina eletrônica
O trocador de íons de leito misto de alta pureza fornece água ultrapura de nível eletrônico com taxa de dessalinização ≥99,8% e resistividade de 15-18,2 MΩ*cm. Apresenta polimento de altíssima pureza, qualidade de água estável, design compacto e integração perfeita do sistema RO para semicondutores, placas de circuito e fabricação de eletrônicos de precisão.
18.25 MΩ·cm EDI Sistema de Água Ultrapuro
O sistema industrial de água ultrapura EDI produz água com resistividade de 18,25MΩ·cm para limpeza de chips semicondutores. Apresenta tecnologia EDI sem produtos químicos, OR de dois estágios com dessalinização de 99%, automação PLC e capacidade personalizável de até 5.000L/H. Em conformidade com os padrões SEMI, inclui esterilização UV e garantia de 1 ano.
Recuperação padrão cosmética da água da categoria PBF da taxa de dessalinização do equipamento ultrapuro da água do RO de duas fases 99,5%
O equipamento de água ultrapura RO de dois estágios para fabricação de cosméticos garante ≥99,5% de taxa de dessalinização, condutividade de 1-5μS/cm e design sanitário compatível com GMP. Possui automação PLC, recuperação de água de 85-90%, esterilização UV e taxas de fluxo personalizadas de 250L/H a 10T/H para qualidade estável da água de produção.
Sistema de água ultrapuro de alta pureza de saída operação sem produtos químicos
O equipamento industrial personalizado de tratamento de água ultrapura RO+EDI combina filtragem RO de dois estágios e eletrodeionização EDI para produzir água deionizada de alta pureza (15-18,25MΩ*cm). Apresenta operação sem produtos químicos, controle inteligente PLC, capacidade totalmente personalizável (250L/H-5000L/H), estrutura montada em skid e desempenho estável para produção industrial.
Purificador de água ultra puro compacto montado em skid, 15-18,25MΩ·cm, resistividade EDI, desionização contínua, bateria de nova energia
Equipamento compacto de água ultrapura montado em skid para produção de novas baterias de energia. Apresenta pré-tratamento + processo RO + EDI de dois estágios, produzindo água de grau eletrônico de 15-18,25MΩ*cm. Design plug-and-play compacto, operação EDI sem produtos químicos, controle automático PLC e capacidade de expansão modular.
316L recipiente de aço inoxidável de qualidade farmacêutica para água ultrapura sanitária
Recipiente de leito misto em aço inoxidável 316L para água ultrapura farmacêutica. Classe sanitária com resistência à corrosão, parede interna lisa e sem cantos mortos. Remove vestígios de sais e impurezas por meio de resina mista, alcançando resistividade de 15-18,2 MΩ*cm. Fluxo personalizável 0,5-30m³/h, garantia de 1 ano, embalagem para exportação.
Sistema EDI de eletrodeionização mini compacto para operação em laboratório sem produtos químicos
Sistema de eletrodeionização Mini EDI para unidades de água ultrapura de laboratório. A operação contínua sem produtos químicos produz água estável de 15-18,2 MΩ·cm. Design compacto, baixa manutenção, alta taxa de recuperação de até 95%. Ideal para aplicações farmacêuticas, de semicondutores e de laboratório.
316L Tanque de água asséptico de aço inoxidável para armazenamento sanitário ultrapuro
Tanque de água asséptico de aço inoxidável 316L para armazenamento de água ultrapura, apresentando material SUS316L com polimento espelhado (Ra≤0,8μm), soldagem perfeita e design estéril. Suporta limpeza CIP on-line, capacidades personalizadas (0,5-100m³) e atende aos padrões GMP/USP para aplicações de semicondutores, farmacêuticas e novas energias.
Sistema industrial de água de grande fluxo de alta pureza 18,25MΩ·Cm Para limpeza de chips eletrônicos
Sistema industrial de água ultrapura de grande fluxo para fábricas de semicondutores e fabricação de chips eletrônicos. Apresenta processo de leito misto RO + EDI + polimento de dois estágios, produzindo água ultrapura de 18,25MΩ*cm com TOC ≤1ppb. Fluxo customizável 10-100m³/h, controle automatizado PLC, operação contínua 24h. Está em conformidade com os padrões SEMI/ASTM para limpeza de wafer, gravação e produção de chips.
