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ultrapure water machine
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Intercambiador de iones de alta pureza para agua ultrapura de grado taller electrónico
El intercambiador de iones de lecho mixto de alta pureza ofrece agua ultrapura de calidad electrónica con una tasa de desalinización ≥99,8 % y una resistividad de 15-18,2 MΩ*cm. Presenta pulido de pureza ultra alta, calidad del agua estable, diseño compacto y perfecta integración del sistema RO para semiconductores, placas de circuito y fabricación electrónica de precisión.
18.25 MΩ·cm EDI Sistema de agua ultrapura Chip de semiconductor limpieza de productos químicos libre de operación continua
El sistema de agua ultrapura EDI industrial produce agua con una resistividad de 18,25 MΩ·cm para la limpieza de chips semiconductores. Cuenta con tecnología EDI sin químicos, RO de dos etapas con 99 % de desalinización, automatización PLC y capacidad personalizable de hasta 5000 L/H. Cumple con los estándares SEMI, incluye esterilización UV y 1 año de garantía.
Equipo de agua ultrapura RO de dos etapas tasa de desalinización del 99,5% grado cosmético GMP Recuperación de agua estándar
El equipo de agua ultrapura RO de dos etapas para la fabricación de cosméticos garantiza una tasa de desalinización ≥99,5 %, una conductividad de 1-5 μS/cm y un diseño sanitario que cumple con las GMP. Cuenta con automatización PLC, recuperación de agua del 85-90 %, esterilización UV y caudales personalizados de 250 L/H a 10 T/H para una calidad estable del agua de producción.
Sistema de agua ultrapura de alta pureza de salida sin productos químicos
El equipo industrial personalizado de tratamiento de agua ultrapura RO+EDI combina filtración RO de doble etapa y electrodosionización EDI para producir agua desionizada de alta pureza (15-18,25 MΩ*cm). Presenta operación sin químicos, control inteligente PLC, capacidad totalmente personalizable (250L/H-5000L/H), estructura montada sobre patines y rendimiento estable para producción industrial.
Purificador de agua ultrapuro compacto montado en patín 15-18.25MΩ·cm Resistividad EDI Deionización continua Batería de nueva energía
Equipo compacto de agua ultrapura montado sobre patines para la producción de baterías de nueva energía. Cuenta con pretratamiento + proceso RO + EDI de dos etapas, que produce agua de grado electrónico de 15-18,25 MΩ*cm. Diseño compacto plug-and-play, operación EDI sin químicos, control automático PLC y capacidad de expansión modular.
Recipiente de acero inoxidable 316L de grado farmacéutico para agua sanitaria ultrapura
Recipiente de lecho mixto de acero inoxidable 316L para agua ultrapura farmacéutica. Grado sanitario con resistencia a la corrosión, pared interior lisa y sin rincones muertos. Elimina trazas de sales e impurezas mediante resina mixta, logrando una resistividad de 15-18,2 MΩ*cm. Caudal personalizable 0,5-30m³/h, 1 año de garantía, embalaje de exportación.
Mini sistema EDI de electrodesionización compacto para funcionamiento de laboratorio sin productos químicos
Mini sistema de electrodosionización EDI para unidades de agua ultrapura de laboratorio. El funcionamiento continuo sin productos químicos produce agua estable de 15 a 18,2 MΩ·cm. Diseño compacto, bajo mantenimiento, alta tasa de recuperación de hasta el 95%. Ideal para aplicaciones farmacéuticas, de semiconductores y de laboratorio.
316L Tanque de agua aséptico de acero inoxidable para almacenamiento sanitario ultrapuro
Tanque de agua aséptico de acero inoxidable 316L para almacenamiento de agua ultrapura, con material SUS316L con pulido espejo (Ra≤0,8μm), soldadura sin costuras y diseño estéril. Admite limpieza CIP en línea, capacidades personalizadas (0,5-100 m³) y cumple con los estándares GMP/USP para aplicaciones de semiconductores, farmacéuticas y de nuevas energías.
Sistema industrial de agua de gran caudal de alta pureza 18.25MΩ·Cm Para limpieza de chips electrónicos
Sistema industrial de agua ultrapura de gran caudal para fábricas de semiconductores y fabricación de chips electrónicos. Presenta un proceso de lecho mixto de pulido RO + EDI + de dos etapas, que produce agua ultrapura de 18,25 MΩ*cm con TOC ≤1 ppb. Caudal personalizable 10-100m³/h, control automatizado PLC, funcionamiento continuo 24h. Cumple con los estándares SEMI/ASTM para limpieza, grabado y producción de chips de obleas.
