Alle Categorieën
water supply equipment
85 Items Found
Custom Industrial RO EDI Ultrazuiver water systeem Hoog zuiverheidsproduct Chemisch vrij gebruik
Op maat gemaakte industriële RO+EDI ultrapuur waterbehandelingsapparatuur combineert dubbeltraps RO-filtratie en EDI-elektrode-ionisatie om zeer zuiver gedeïoniseerd water (15-18,25MΩ*cm) te produceren. Beschikt over een chemicaliënvrije werking, intelligente PLC-besturing, volledig aanpasbare capaciteit (250 l/h-5000 l/h), op een skid gemonteerde structuur en stabiele prestaties voor industriële productie.
Op skid gemonteerde compacte ultrazuivere waterzuiveraar 15-18,25MΩ·cm Weerstandsvermogen EDI Continue deïonisatie Nieuwe energiebatterij
Op een skid gemonteerde compacte apparatuur voor ultrapuur water voor de productie van nieuwe energiebatterijen. Beschikt over voorbehandeling + tweetraps RO + EDI-proces, waarbij 15-18,25MΩ*cm water van elektronische kwaliteit wordt geproduceerd. Compact plug-and-play-ontwerp, chemicaliënvrije EDI-werking, automatische PLC-besturing en modulaire uitbreidingsmogelijkheden.
Kleine stroom RO EDI Laboratorium waterzuiveringssysteem 18,25 MΩ·cm Resistiviteit Chemische vrije deionisatie
RO EDI ultrapuur waterapparatuur met kleine stroom voor instituutsexperimenten is voorzien van omgekeerde osmose + EDI + polijstharsproces, waardoor water met een weerstand van ≥18,2 MΩ·cm wordt geproduceerd. Compact ontwerp, chemicaliënvrije werking en aanpasbare stroomsnelheden (30T/H) zorgen voor een stabiele experimentele waterkwaliteit voor laboratoria en onderzoeksfaciliteiten.
Modulaire vierkant roestvrijstalen watertenk voor op maat gemaakte opslagcapaciteit
Modulaire vierkante roestvrijstalen watertank voor gecentraliseerde watervoorzieningsstations op het platteland. SUS304 food-grade materiaal zorgt voor drinkveiligheid met versterkte structuur voor duurzaamheid. Flexibele capaciteitscombinatie, snelle montage ter plaatse en een levensduur van meer dan 30 jaar. Geschikt voor dorpen, scholen en waterzuiveringsprojecten.
18.2 Megohm EDI-waterzuiveringssysteem met chemisch vrije regeneratie
Het High Resistivity Stack EDI-systeem produceert ultrapuur water tot 18,2 MΩ·cm voor de productie van halfgeleiders. Beschikt over chemicaliënvrije continue regeneratie, compact gestapeld ontwerp, volledig automatische werking en weinig onderhoud. Biedt een stabiele waterkwaliteit met een herstelpercentage tot 95%.
Ionenwisselaar van hoge zuiverheid voor elektronisch werkplaatswater van ultrazuivere kwaliteit
De zeer zuivere ionenwisselaar met gemengd bed levert ultrapuur water van elektronische kwaliteit met een ontziltingspercentage van ≥99,8% en een weerstand van 15-18,2 MΩ*cm. Beschikt over polijsten met ultrahoge zuiverheid, stabiele waterkwaliteit, compact ontwerp en perfecte RO-systeemintegratie voor halfgeleider-, printplaat- en precisie-elektronische productie.
Roestvrij staal 304 Industrieel RO-waterzuiveringssysteem 99% Ontzaltingspercentage 2000L/H Capaciteit
Waterbehandelingssysteem met voorbehandeling, RO-ontzilting (99%) en EDI-zuivering. Aanpasbare materialen (roestvrij staal/FRP), spanningen en maten. Toepassingen: mineraalwater, energiecentrales, farmaceutische producten. Beschikt over automatische regeling, capaciteit van 1-200 m³/u en uitgebreide after-salesondersteuning.
Elektroplatering Anti-corrosie Ultrazuivere waterapparatuur Dubbelstadium RO EDI Deionisatie Persoonlijke capaciteit 0,5-50m3/h
Volledige anti-corrosie industriële apparatuur voor ultrapuur water voor galvaniseerwerkplaatsen. Beschikt over dubbeltraps RO + EDI-deïonisatie, verwijdert chloride/zware metaalionen, capaciteit 0,5-50 m³/u. Het roestwerende ontwerp past zich aan corrosieve omgevingen aan, 24-uurs automatische werking met PLC-besturing voor een stabiele wateropbrengst met lage geleidbaarheid.
Industriële grote stroom hoogzuiver water systeem 18,25 MΩ·Cm Voor het reinigen van elektronische chips
Industrieel ultrapuur watersysteem met groot debiet voor halfgeleiderfabrieken en de productie van elektronische chips. Beschikt over een tweetraps RO + EDI + polijst gemengd bedproces, waarbij 18,25MΩ*cm ultrapuur water wordt geproduceerd met TOC ≤1ppb. Aanpasbare stroom 10-100 m³/u, automatische PLC-besturing, 24 uur continu bedrijf. Voldoet aan de SEMI/ASTM-normen voor het reinigen, etsen en chipproductie van wafers.
