Todas as categorias
water supply equipment
85 Items Found
Sistema de água ultrapuro de alta pureza de saída operação sem produtos químicos
O equipamento industrial personalizado de tratamento de água ultrapura RO+EDI combina filtragem RO de dois estágios e eletrodeionização EDI para produzir água deionizada de alta pureza (15-18,25MΩ*cm). Apresenta operação sem produtos químicos, controle inteligente PLC, capacidade totalmente personalizável (250L/H-5000L/H), estrutura montada em skid e desempenho estável para produção industrial.
Purificador de água ultra puro compacto montado em skid, 15-18,25MΩ·cm, resistividade EDI, desionização contínua, bateria de nova energia
Equipamento compacto de água ultrapura montado em skid para produção de novas baterias de energia. Apresenta pré-tratamento + processo RO + EDI de dois estágios, produzindo água de grau eletrônico de 15-18,25MΩ*cm. Design plug-and-play compacto, operação EDI sem produtos químicos, controle automático PLC e capacidade de expansão modular.
Sistema de purificação de água de laboratório RO EDI de pequeno fluxo 18,25 MΩ·cm Resistividade Deionização livre química
O equipamento de água ultrapura RO EDI de pequeno fluxo para experimentos do instituto apresenta processo de osmose reversa + EDI + resina de polimento, produzindo água com resistividade ≥18,2 MΩ·cm. O design compacto, a operação sem produtos químicos e as taxas de fluxo personalizáveis (30T/H) garantem uma qualidade experimental estável da água para laboratórios e instalações de pesquisa.
Tanque de água modular quadrado de aço inoxidável para armazenamento de capacidade personalizada
Tanque de água modular quadrado em aço inoxidável para estações de abastecimento de água centralizadas rurais. O material de qualidade alimentar SUS304 garante a segurança do consumo com estrutura reforçada para maior durabilidade. Combinação flexível de capacidade, montagem rápida no local e vida útil de mais de 30 anos. Adequado para aldeias, escolas e projetos de purificação de água.
18.2 Sistema de tratamento de água Megohm EDI com regeneração livre de produtos químicos
O sistema Stack EDI de alta resistividade produz água ultrapura de até 18,2 MΩ·cm para fabricação de semicondutores. Apresenta regeneração contínua sem produtos químicos, design empilhado compacto, operação totalmente automática e baixa manutenção. Oferece qualidade de água estável com taxa de recuperação de até 95%.
Trocador de íons de alta pureza para água ultrapura de grau de oficina eletrônica
O trocador de íons de leito misto de alta pureza fornece água ultrapura de nível eletrônico com taxa de dessalinização ≥99,8% e resistividade de 15-18,2 MΩ*cm. Apresenta polimento de altíssima pureza, qualidade de água estável, design compacto e integração perfeita do sistema RO para semicondutores, placas de circuito e fabricação de eletrônicos de precisão.
Aço inoxidável 304 Industrial RO Sistema de tratamento de água 99% taxa de dessalinização 2000L/H Capacidade
Sistema de tratamento de água com pré-tratamento, dessalinização RO (taxa de 99%) e purificação EDI. Materiais personalizáveis (aço inoxidável/FRP), tensões e tamanhos. Aplicações: água mineral, usinas de energia, produtos farmacêuticos. Possui controle automático, capacidade de 1-200m³/h e suporte pós-venda abrangente.
Equipamento de água ultrapura anti-corrosivo de eletroplatagem de dois estágios RO EDI Deionização Capacidade personalizada 0,5-50 m3/h
Equipamento industrial completo de água ultrapura anticorrosão para oficinas de galvanoplastia. Apresenta desionização RO + EDI de duplo estágio, remove íons cloreto/metais pesados, capacidade de 0,5-50m³/h. O design antiferrugem se adapta a ambientes corrosivos, operação automática 24 horas com controle PLC para saída estável de água de baixa condutividade.
Sistema industrial de água de grande fluxo de alta pureza 18,25MΩ·Cm Para limpeza de chips eletrônicos
Sistema industrial de água ultrapura de grande fluxo para fábricas de semicondutores e fabricação de chips eletrônicos. Apresenta processo de leito misto RO + EDI + polimento de dois estágios, produzindo água ultrapura de 18,25MΩ*cm com TOC ≤1ppb. Fluxo customizável 10-100m³/h, controle automatizado PLC, operação contínua 24h. Está em conformidade com os padrões SEMI/ASTM para limpeza de wafer, gravação e produção de chips.
