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water supply equipment
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Sistema idrico ad alta purezza di uscita senza prodotti chimici
Le apparecchiature industriali personalizzate per il trattamento dell'acqua ultrapura RO+EDI combinano la filtrazione RO a doppio stadio e l'elettrodeionizzazione EDI per produrre acqua deionizzata di elevata purezza (15-18,25 MΩ*cm). Presenta funzionamento senza sostanze chimiche, controllo intelligente PLC, capacità completamente personalizzabile (250 L/H-5000 L/H), struttura montata su skid e prestazioni stabili per la produzione industriale.
Purificatore d'acqua compatto e ultrapuro 15-18.25MΩ·cm Resistività EDI Deionizzazione continua Batteria di nuova energia
Attrezzatura compatta per acqua ultrapura montata su skid per la produzione di batterie di nuova energia. Presenta pretrattamento + processo RO + EDI a due stadi, producendo acqua di grado elettronico da 15-18,25 MΩ*cm. Design compatto plug-and-play, funzionamento EDI senza sostanze chimiche, controllo automatico PLC e capacità di espansione modulare.
Sistema di depurazione dell'acqua di laboratorio RO EDI a piccolo flusso 18,25 MΩ·cm Resistività Deionizzazione chimica libera
L'attrezzatura per acqua ultrapura RO EDI a piccolo flusso per esperimenti in istituto è caratterizzata da osmosi inversa + EDI + processo con resina lucidante, che produce acqua con resistività ≥18,2 MΩ·cm. Il design compatto, il funzionamento senza sostanze chimiche e le portate personalizzabili (30 T/H) garantiscono una qualità dell'acqua sperimentale stabile per laboratori e strutture di ricerca.
Serbatoio d'acqua in acciaio inossidabile quadrato modulare per lo stoccaggio di capacità personalizzata
Serbatoio dell'acqua quadrato modulare in acciaio inossidabile per stazioni di approvvigionamento idrico centralizzato rurale. Il materiale per uso alimentare SUS304 garantisce la sicurezza nel bere con struttura rinforzata per una maggiore durata. Combinazione di capacità flessibile, assemblaggio rapido in loco e durata di servizio di oltre 30 anni. Adatto a villaggi, scuole e progetti di purificazione dell'acqua.
18.2 Sistema di trattamento dell'acqua Megohm EDI con rigenerazione libera da sostanze chimiche
Il sistema EDI Stack ad alta resistività produce acqua ultrapura fino a 18,2 MΩ·cm per la produzione di semiconduttori. Presenta rigenerazione continua senza sostanze chimiche, design compatto e sovrapposto, funzionamento completamente automatico e manutenzione ridotta. Offre una qualità dell'acqua stabile con un tasso di recupero fino al 95%.
Scambiatore di ioni ad alta purezza per acqua ultrapura di grado laboratorio elettronico
Lo scambiatore ionico a letto misto ad elevata purezza fornisce acqua ultrapura di grado elettronico con un tasso di desalinizzazione ≥99,8% e una resistività di 15-18,2 MΩ*cm. Presenta lucidatura ad altissima purezza, qualità dell'acqua stabile, design compatto e perfetta integrazione del sistema RO per semiconduttori, circuiti stampati e produzione elettronica di precisione.
Capacità di tasso di dissalazione 2000L/H del sistema di trattamento delle acque del RO industriale dell'acciaio inossidabile 304 99%
Sistema di trattamento dell'acqua con pretrattamento, desalinizzazione RO (tasso del 99%) e purificazione EDI. Materiali (acciaio inossidabile/FRP), tensioni e dimensioni personalizzabili. Applicazioni: acque minerali, centrali elettriche, prodotti farmaceutici. Dispone di controllo automatico, capacità di 1-200 m³/h e supporto post-vendita completo.
Equipaggiamento per l'acqua ultrapura a doppio stadio RO EDI Deionizzazione Capacità personalizzata 0,5-50 m3/h
Attrezzatura industriale anticorrosione completa per acqua ultrapura per officine galvaniche. Dispone di deionizzazione RO + EDI a doppio stadio, rimuove ioni cloruro/metalli pesanti, capacità di 0,5-50 m³/h. Il design antiruggine si adatta agli ambienti corrosivi, funzionamento automatico 24 ore su 24 con controllo PLC per un'uscita stabile di acqua a bassa conduttività.
Sistema idrico industriale ad alto flusso di alta purezza 18,25MΩ·Cm Per la pulizia dei chip elettronici
Sistema industriale per acqua ultrapura a grande flusso per fabbriche di semiconduttori e produzione di chip elettronici. Presenta un processo a letto misto RO + EDI + lucidatura a due stadi, che produce acqua ultrapura da 18,25 MΩ*cm con TOC ≤ 1 ppb. Portata personalizzabile 10-100m³/h, controllo automatizzato PLC, funzionamento continuo 24 ore su 24. Conforme agli standard SEMI/ASTM per la pulizia, l'incisione e la produzione di chip dei wafer.
