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water supply equipment
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Sistema de agua ultrapura de alta pureza de salida sin productos químicos
El equipo industrial personalizado de tratamiento de agua ultrapura RO+EDI combina filtración RO de doble etapa y electrodosionización EDI para producir agua desionizada de alta pureza (15-18,25 MΩ*cm). Presenta operación sin químicos, control inteligente PLC, capacidad totalmente personalizable (250L/H-5000L/H), estructura montada sobre patines y rendimiento estable para producción industrial.
Purificador de agua ultrapuro compacto montado en patín 15-18.25MΩ·cm Resistividad EDI Deionización continua Batería de nueva energía
Equipo compacto de agua ultrapura montado sobre patines para la producción de baterías de nueva energía. Cuenta con pretratamiento + proceso RO + EDI de dos etapas, que produce agua de grado electrónico de 15-18,25 MΩ*cm. Diseño compacto plug-and-play, operación EDI sin químicos, control automático PLC y capacidad de expansión modular.
Pequeño sistema de purificación de agua de laboratorio RO EDI de flujo desionización libre de sustancias químicas de resistividad de 18,25 MΩ·cm
El equipo de agua ultrapura RO EDI de flujo pequeño para experimentos de instituto cuenta con un proceso de ósmosis inversa + EDI + resina de pulido, que produce agua de resistividad ≥18,2 MΩ·cm. El diseño compacto, el funcionamiento sin productos químicos y los caudales personalizables (30T/H) garantizan una calidad estable del agua experimental para laboratorios e instalaciones de investigación.
Tanque de agua de acero inoxidable cuadrado modular para almacenamiento de capacidad personalizada
Tanque de agua modular cuadrado de acero inoxidable para estaciones centralizadas de suministro de agua rural. El material SUS304 de calidad alimentaria garantiza la seguridad para beber con una estructura reforzada para mayor durabilidad. Combinación de capacidad flexible, montaje rápido en el sitio y vida útil de más de 30 años. Adecuado para pueblos, escuelas y proyectos de purificación de agua.
18.2 Sistema de tratamiento de agua EDI Megohm con regeneración libre de químicos
El sistema EDI de pila de alta resistividad produce agua ultrapura de hasta 18,2 MΩ·cm para la fabricación de semiconductores. Presenta regeneración continua sin químicos, diseño apilado compacto, operación completamente automática y bajo mantenimiento. Ofrece una calidad de agua estable con una tasa de recuperación de hasta el 95%.
Intercambiador de iones de alta pureza para agua ultrapura de grado taller electrónico
El intercambiador de iones de lecho mixto de alta pureza ofrece agua ultrapura de calidad electrónica con una tasa de desalinización ≥99,8 % y una resistividad de 15-18,2 MΩ*cm. Presenta pulido de pureza ultra alta, calidad del agua estable, diseño compacto y perfecta integración del sistema RO para semiconductores, placas de circuito y fabricación electrónica de precisión.
Capacidad industrial de la tarifa 2000L/H de la desalinización del sistema de tratamiento de aguas del RO del acero inoxidable 304 el 99%
Sistema de tratamiento de agua con pretratamiento, desalinización por RO (tasa del 99%) y purificación por EDI. Materiales personalizables (acero inoxidable/FRP), voltajes y tamaños. Aplicaciones: agua mineral, centrales eléctricas, productos farmacéuticos. Cuenta con control automático, capacidad de 1-200 m³/h y soporte posventa integral.
Equipo de agua ultrapura de doble etapa RO EDI Deionización Capacidad personalizada de 0,5-50 m3/h
Equipos industriales completos de agua ultrapura anticorrosión para talleres de galvanoplastia. Cuenta con desionización RO + EDI de doble etapa, elimina iones de cloruro/metales pesados, capacidad de 0,5-50 m³/h. El diseño antioxidante se adapta a ambientes corrosivos, operación automática las 24 horas con control PLC para una salida estable de agua de baja conductividad.
Sistema industrial de agua de gran caudal de alta pureza 18.25MΩ·Cm Para limpieza de chips electrónicos
Sistema industrial de agua ultrapura de gran caudal para fábricas de semiconductores y fabricación de chips electrónicos. Presenta un proceso de lecho mixto de pulido RO + EDI + de dos etapas, que produce agua ultrapura de 18,25 MΩ*cm con TOC ≤1 ppb. Caudal personalizable 10-100m³/h, control automatizado PLC, funcionamiento continuo 24h. Cumple con los estándares SEMI/ASTM para limpieza, grabado y producción de chips de obleas.
