water supply equipment

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품질 맞춤식 산업 RO EDI 초순수 시스템 고순수출력 화학물질 없는 작동 공장

맞춤식 산업 RO EDI 초순수 시스템 고순수출력 화학물질 없는 작동

맞춤형 산업용 RO+EDI 초순수 처리 장비는 2단계 RO 여과와 EDI 전기탈이온화를 결합하여 고순도 탈이온수(15-18.25MΩ*cm)를 생산합니다. 무화학 작동, PLC 지능형 제어, 완전 맞춤형 용량(250L/H~5000L/H), 스키드 장착 구조 및 산업 생산을 위한 안정적인 성능이 특징입니다.

품질 스키드 장착형 소형 초순수 정수기 15-18.25MΩ·cm 저항성 EDI 연속 탈이온화 신에너지 배터리 공장

스키드 장착형 소형 초순수 정수기 15-18.25MΩ·cm 저항성 EDI 연속 탈이온화 신에너지 배터리

신에너지 배터리 생산을 위한 스키드 장착형 소형 초순수 장비. 전처리 + 2단계 RO + EDI 공정을 특징으로 하며 15-18.25MΩ*cm 전자 등급 물을 생산합니다. 컴팩트한 플러그 앤 플레이 설계, 무화학 EDI 작동, PLC 자동 제어 및 모듈식 확장 기능.

품질 소류 RO EDI 실험실 수정 시스템 18.25 MΩ·cm 저항성 화학적 자유 디온화 공장

소류 RO EDI 실험실 수정 시스템 18.25 MΩ·cm 저항성 화학적 자유 디온화

연구소 실험용 소유량 RO EDI 초순수 장비는 역삼투 + EDI + 연마 수지 공정을 특징으로 하며 저항률이 ≥18.2 MΩ·cm인 물을 생성합니다. 컴팩트한 디자인, 무화학 작동, 맞춤형 유량(30T/H)으로 실험실과 연구 시설의 안정적인 실험 수질을 보장합니다.

품질 사용자 정의 용량 저장을위한 모듈형 사각형 스테인리스 스틸 물 탱크 공장

사용자 정의 용량 저장을위한 모듈형 사각형 스테인리스 스틸 물 탱크

농촌 중앙 집중식 급수 스테이션을 위한 모듈형 사각형 스테인리스 스틸 물 탱크. SUS304 식품 등급 소재는 내구성 강화 구조로 음용 안전성을 보장합니다. 유연한 용량 조합, 빠른 현장 조립, 30년 이상의 서비스 수명. 마을, 학교, 정수 프로젝트에 적합합니다.

품질 18.2 화학물질 없는 재생을 갖춘 메고엠 EDI 수처리 시스템 공장

18.2 화학물질 없는 재생을 갖춘 메고엠 EDI 수처리 시스템

고저항 스택 EDI 시스템은 반도체 제조에 필요한 최대 18.2 MΩ·cm의 초순수를 생산합니다. 무화학 연속 재생, 컴팩트한 적층형 설계, 완전 자동 작동 및 낮은 유지 관리가 특징입니다. 최대 95%의 회수율로 안정적인 수질을 제공합니다.

품질 고순도 이온 교환기 공장

고순도 이온 교환기

고순도 혼합층 이온 교환기는 99.8% 이상의 담수화율과 15-18.2 MΩ*cm 저항성을 갖춘 전자급 초순수를 제공합니다. 반도체, 회로 기판 및 정밀 전자 제조를 위한 초고순도 연마, 안정적인 수질, 컴팩트한 디자인 및 완벽한 RO 시스템 통합이 특징입니다.

품질 스테인리스 스틸 304 산업 RO 수처리 시스템 99% 해소율 2000L/H 용량 공장

스테인리스 스틸 304 산업 RO 수처리 시스템 99% 해소율 2000L/H 용량

전처리, RO 담수화(99% 비율), EDI 정화를 갖춘 수처리 시스템입니다. 재질(스테인리스강/FRP), 전압, 크기를 맞춤 설정할 수 있습니다. 용도: 광천수, 발전소, 의약품. 자동 제어, 1~200m³/h 용량 및 포괄적인 애프터 서비스 지원이 특징입니다.

품질 전류판식식 방지 초순수장비 이중 단계 RO EDI 탈이온화 사용자 지정 용량 0.5-50m3/h 공장

전류판식식 방지 초순수장비 이중 단계 RO EDI 탈이온화 사용자 지정 용량 0.5-50m3/h

전기도금 작업장을 위한 완전 부식 방지 산업용 초순수 장비입니다. 2단계 RO + EDI 탈이온화, 염화물/중금속 이온 제거, 0.5-50m³/h 용량이 특징입니다. 녹슬지 않는 설계는 부식성 환경에 적응하며 안정적인 저전도율 물 출력을 위해 PLC 제어를 통한 24시간 자동 작동을 제공합니다.

품질 산업용 대류 고 순수 물 시스템 18.25MΩ·Cm 전자 칩 청소용 공장

산업용 대류 고 순수 물 시스템 18.25MΩ·Cm 전자 칩 청소용

반도체 제조 및 전자 칩 제조를 위한 산업용 대유량 초순수 시스템입니다. 2단계 RO + EDI + 연마 혼합층 공정을 특징으로 하며 TOC가 1ppb 이하인 18.25MΩ*cm 초순수를 생산합니다. 사용자 정의 가능한 유량 10-100m³/h, PLC 자동 제어, 24시간 연속 작동. 웨이퍼 세척, 에칭 및 칩 생산에 대한 SEMI/ASTM 표준을 준수합니다.