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water supply equipment
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Opération libre chimique de sortie de grande pureté industrielle faite sur commande de système d'eau de RO EDI
L'équipement industriel personnalisé de traitement de l'eau ultrapure RO+EDI combine une filtration RO en deux étapes et une électrodéionisation EDI pour produire de l'eau désionisée de haute pureté (15-18,25 MΩ*cm). Comprend un fonctionnement sans produits chimiques, un contrôle intelligent PLC, une capacité entièrement personnalisable (250 L/H-5 000 L/H), une structure montée sur patins et des performances stables pour la production industrielle.
Purificateur d'eau ultra pur compact monté sur skid 15-18.25MΩ·cm Résistivité EDI Désionisation continue Batterie à énergie nouvelle
Équipement compact à eau ultra pure monté sur patins pour la production de batteries à énergie nouvelle. Comprend un prétraitement + un processus RO + EDI en deux étapes, produisant 15-18,25 MΩ*cm d'eau de qualité électronique. Conception compacte plug-and-play, fonctionnement EDI sans produits chimiques, contrôle automatique PLC et capacité d'extension modulaire.
Système de purification d'eau de laboratoire RO EDI à petit débit 18,25 MΩ·cm Résistivité Désionisation libre chimique
L'équipement d'eau ultrapure RO EDI à petit débit pour les expériences en institut comprend un processus d'osmose inverse + EDI + résine de polissage, produisant une eau de résistivité ≥ 18,2 MΩ·cm. La conception compacte, le fonctionnement sans produits chimiques et les débits personnalisables (30 T/H) garantissent une qualité d'eau expérimentale stable pour les laboratoires et les installations de recherche.
réservoir d'eau en acier inoxydable carré modulaire pour le stockage de capacité personnalisée
Réservoir d'eau modulaire carré en acier inoxydable pour stations d'approvisionnement en eau centralisées en milieu rural. Le matériau de qualité alimentaire SUS304 garantit la sécurité de la boisson avec une structure renforcée pour plus de durabilité. Combinaison de capacités flexible, assemblage rapide sur site et durée de vie de plus de 30 ans. Convient aux villages, aux écoles et aux projets de purification de l'eau.
Système de traitement de l'eau EDI de 18,2 mégohms avec régénération sans produits chimiques
Le système EDI à pile à haute résistivité produit de l'eau ultrapure jusqu'à 18,2 MΩ·cm pour la fabrication de semi-conducteurs. Comprend une régénération continue sans produits chimiques, une conception empilée compacte, un fonctionnement entièrement automatique et un faible entretien. Offre une qualité d’eau stable avec un taux de récupération jusqu’à 95 %.
Échangeur d'ions de haute pureté pour l'eau ultrapure de qualité électronique
L'échangeur d'ions à lit mixte de haute pureté fournit de l'eau ultrapure de qualité électronique avec un taux de dessalement ≥ 99,8 % et une résistivité de 15 à 18,2 MΩ*cm. Comprend un polissage de très haute pureté, une qualité d'eau stable, une conception compacte et une intégration parfaite du système RO pour la fabrication de semi-conducteurs, de circuits imprimés et de composants électroniques de précision.
Système de traitement de l'eau industriel en acier inoxydable 304 RO Taux de dessalement 99% Capacité 2000L/H
Système de traitement de l'eau avec prétraitement, dessalement RO (taux de 99 %) et purification EDI. Matériaux personnalisables (acier inoxydable/FRP), tensions et tailles. Applications : eaux minérales, centrales électriques, produits pharmaceutiques. Comprend un contrôle automatique, une capacité de 1 à 200 m³/h et un support après-vente complet.
Équipement pour l'eau ultrapure à double étage RO EDI Désionisation Capacité personnalisée 0,5-50 m3/h
Équipement industriel à eau ultra pure entièrement anticorrosion pour ateliers de galvanoplastie. Dispose d'une désionisation RO + EDI à double étage, élimine les ions chlorure/métaux lourds, capacité de 0,5 à 50 m³/h. La conception antirouille s'adapte aux environnements corrosifs, fonctionnement automatique 24 heures sur 24 avec contrôle PLC pour une sortie d'eau stable à faible conductivité.
Système industriel d'eau de haute pureté à grand débit 18,25 MΩ·Cm Pour le nettoyage de puces électroniques
Système industriel d’eau ultrapure à grand débit pour les usines de semi-conducteurs et la fabrication de puces électroniques. Comprend un processus de lit mélangé RO + EDI + polissage en deux étapes, produisant 18,25 MΩ*cm d'eau ultra pure avec un COT ≤ 1 ppb. Débit personnalisable 10-100m³/h, contrôle automatisé PLC, fonctionnement continu 24h/24. Conforme aux normes SEMI/ASTM pour le nettoyage, la gravure et la production de plaquettes.
