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water supply equipment
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Gewerblich angepasste RO EDI Ultrareines Wassersystem Hohe Reinheit Ausgang Chemikalienfreier Betrieb
Kundenspezifische industrielle RO+EDI-Reinstwasseraufbereitungsanlagen kombinieren zweistufige RO-Filtration und EDI-Elektroentionisierung, um hochreines entionisiertes Wasser (15–18,25 MΩ*cm) zu erzeugen. Verfügt über einen chemikalienfreien Betrieb, eine intelligente SPS-Steuerung, eine vollständig anpassbare Kapazität (250 l/h bis 5000 l/h), eine auf Kufen montierte Struktur und eine stabile Leistung für die industrielle Produktion.
Auf einem Gestell montierter, kompakter Reinstwasserreiniger, 15–18,25 MΩ·cm spezifischer Widerstand, EDI, kontinuierliche Entionisierung, neue Energiebatterie
Auf einem Rahmen montierte, kompakte Reinstwasseranlage für die Produktion neuer Energiebatterien. Verfügt über Vorbehandlung + zweistufiges RO + EDI-Verfahren zur Erzeugung von Wasser in elektronischer Qualität mit 15–18,25 MΩ*cm. Kompaktes Plug-and-Play-Design, chemiefreier EDI-Betrieb, automatische SPS-Steuerung und modulare Erweiterungsfähigkeit.
Wasserreinigungssystem für kleine Flüsse (RO EDI) 18,25 MΩ·cm Widerstandsfähigkeit chemisch freie Deionisierung
RO-EDI-Reinstwassergeräte mit kleinem Durchfluss für Institutsexperimente verfügen über einen Umkehrosmose-, EDI- und Polierharzprozess und erzeugen Wasser mit einem spezifischen Widerstand von ≥18,2 MΩ·cm. Kompaktes Design, chemiefreier Betrieb und anpassbare Durchflussraten (30 T/h) gewährleisten eine stabile experimentelle Wasserqualität für Labore und Forschungseinrichtungen.
Modularer quadratischer Wassertank aus Edelstahl für individuelle Speicherkapazität
Modularer quadratischer Wassertank aus Edelstahl für ländliche zentrale Wasserversorgungsstationen. Das lebensmittelechte Material SUS304 gewährleistet Trinksicherheit mit verstärkter Struktur für Langlebigkeit. Flexible Kapazitätskombination, schnelle Montage vor Ort und eine Lebensdauer von über 30 Jahren. Geeignet für Dörfer, Schulen und Wasseraufbereitungsprojekte.
18,2 Megaohm EDI-Wasseraufbereitungssystem mit chemikalienfreier Regeneration
Das High Resistivity Stack EDI-System erzeugt hochreines Wasser mit bis zu 18,2 MΩ·cm für die Halbleiterfertigung. Bietet chemikalienfreie kontinuierliche Regeneration, kompaktes Stapeldesign, vollautomatischen Betrieb und geringen Wartungsaufwand. Bietet eine stabile Wasserqualität mit einer Rückgewinnungsrate von bis zu 95 %.
Hochreines Ionenwechsler für Elektro-Werkstatt-Ultrareinwasser
Der hochreine Mischbett-Ionenaustauscher liefert hochreines Wasser in elektronischer Qualität mit einer Entsalzungsrate von ≥99,8 % und einem spezifischen Widerstand von 15–18,2 MΩ*cm. Bietet ultrahochreines Polieren, stabile Wasserqualität, kompaktes Design und perfekte RO-Systemintegration für die Halbleiter-, Leiterplatten- und Präzisionselektronikfertigung.
Edelstahl 304 Industrie RO Wasseraufbereitungssystem 99% Entsalzungsrate 2000L/h Kapazität
Wasseraufbereitungssystem mit Vorbehandlung, RO-Entsalzung (Rate 99 %) und EDI-Reinigung. Anpassbare Materialien (Edelstahl/GFK), Spannungen und Größen. Anwendungen: Mineralwasser, Kraftwerke, Pharmazeutika. Verfügt über automatische Steuerung, eine Kapazität von 1–200 m³/h und umfassenden Kundendienst.
Elektroplattierung Anti-Korrosion Ultrareinwasser Ausrüstung Doppelstadium RO EDI Deionisierung
Vollständig korrosionsbeständige industrielle Reinstwasserausrüstung für Galvanikwerkstätten. Verfügt über eine zweistufige RO- und EDI-Deionisierung, entfernt Chlorid-/Schwermetallionen und hat eine Kapazität von 0,5–50 m³/h. Das rostfreie Design passt sich korrosiven Umgebungen an, automatischer 24-Stunden-Betrieb mit SPS-Steuerung für eine stabile Wasserabgabe mit niedriger Leitfähigkeit.
Industrielles Wassersystem mit hoher Reinheit mit großem Durchfluss 18,25 MΩ·Cm zur Reinigung elektronischer Chips
Industrielles Reinstwassersystem mit großem Durchfluss für Halbleiterfabriken und die Herstellung elektronischer Chips. Verfügt über einen zweistufigen RO + EDI + Polier-Mischbettprozess, der 18,25 MΩ*cm hochreines Wasser mit einem TOC ≤1 ppb erzeugt. Anpassbarer Durchfluss 10–100 m³/h, automatisierte SPS-Steuerung, 24-Stunden-Dauerbetrieb. Entspricht den SEMI/ASTM-Standards für Waferreinigung, Ätzen und Chipproduktion.
