Все категории
water supply equipment
85 Items Found
Промышленная RO EDI Ультрачистая система водоснабжения Высокая чистота Выход без химических веществ
Изготовленное на заказ промышленное оборудование для очистки сверхчистой воды RO+EDI сочетает в себе двухступенчатую RO-фильтрацию и электродионизацию EDI для производства деионизированной воды высокой чистоты (15-18,25 МОм*см). Отличается работой без химикатов, интеллектуальным управлением ПЛК, полностью настраиваемой производительностью (250 л/ч-5000 л/ч), смонтированной на раме конструкцией и стабильной производительностью для промышленного производства.
Скид монтированный компактный ультрачистый очиститель воды 15-18.25 МΩ·см Сопротивляемость EDI непрерывная деионизация Новая энергетическая батарея
Компактное оборудование для сверхчистой воды, смонтированное на раме, для производства новых энергетических батарей. Имеет предварительную обработку + двухступенчатый процесс RO + EDI, производящий воду электронного качества с сопротивлением 15–18,25 МОм*см. Компактная конструкция plug-and-play, работа EDI без использования химикатов, автоматическое управление ПЛК и возможность модульного расширения.
Небольшая деионизация сопротивления лабораторной системы очистки воды РО ЭДИ 18,25 МОм·см химическая свободная
Оборудование для сверхчистой воды RO EDI с малым расходом для институтских экспериментов использует процесс обратного осмоса + EDI + полировочную смолу, производя воду с удельным сопротивлением ≥18,2 МОм·см. Компактная конструкция, работа без использования химикатов и настраиваемая скорость потока (30 т/ч) обеспечивают стабильное качество экспериментальной воды для лабораторий и исследовательских учреждений.
Модульный квадратный резервуар с водой из нержавеющей стали для хранения на заказ
Модульный квадратный резервуар для воды из нержавеющей стали для сельских централизованных станций водоснабжения. Пищевой материал SUS304 обеспечивает безопасность питья, а усиленная структура обеспечивает долговечность. Гибкое сочетание производительности, быстрая сборка на месте и срок службы более 30 лет. Подходит для деревень, школ и проектов по очистке воды.
18.2 Система очистки воды Megohm EDI с химически свободной регенерацией
Система EDI с высоким удельным сопротивлением производит сверхчистую воду с сопротивлением до 18,2 МОм·см для производства полупроводников. Отличается непрерывной регенерацией без использования химикатов, компактной многоярусной конструкцией, полностью автоматической работой и низкими эксплуатационными расходами. Обеспечивает стабильное качество воды с коэффициентом восстановления до 95%.
Ионообменник высокой чистоты для ультрачистой воды класса электронной мастерской
Ионообменник смешанного действия высокой чистоты обеспечивает сверхчистую воду электронного класса со степенью опреснения ≥99,8% и удельным сопротивлением 15–18,2 МОм*см. Отличается полировкой сверхвысокой чистоты, стабильным качеством воды, компактным дизайном и идеальной интеграцией системы обратного осмоса для производства полупроводников, печатных плат и прецизионной электроники.
Нержавеющая сталь 304 Промышленная система очистки воды RO 99% скорость опреснения 2000L/h Мощность
Система очистки воды с предварительной очисткой, опреснением RO (степень 99%) и очисткой EDI. Настраиваемые материалы (нержавеющая сталь/стеклопластик), напряжение и размеры. Применение: минеральная вода, электростанции, фармацевтика. Имеет автоматическое управление, производительность 1–200 м³/ч и комплексную послепродажную поддержку.
Электропластировка Противокоррозионное Ультрачистое водоснабжение Двухступенчатое RO EDI Деионизация Качественная мощность 0,5-50 м3/ч
Полностью антикоррозийное промышленное оборудование для сверхчистой воды для гальванических цехов. Имеет двухступенчатую деионизацию RO + EDI, удаляет ионы хлоридов/тяжелых металлов, производительность 0,5–50 м³/ч. Антикоррозийная конструкция адаптируется к агрессивным средам, круглосуточная автоматическая работа с управлением ПЛК для стабильного выхода воды с низкой проводимостью.
Промышленная система водоснабжения высокой чистоты с большим потоком 18,25 МΩ·См для очистки электронных чипов
Промышленная крупнопоточная система сверхчистой воды для заводов по производству полупроводников и производства электронных чипов. Имеет двухэтапный процесс RO + EDI + полировки в смешанном слое, производящий сверхчистую воду с сопротивлением 18,25 МОм*см и TOC ≤1ppb. Настраиваемый расход 10-100 м³/ч, автоматическое управление ПЛК, непрерывная работа 24 часа. Соответствует стандартам SEMI/ASTM по очистке пластин, травлению и производству чипов.
